1.一種靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置，其特征在于，包括：
2.如權(quán)利要求1所述的一種靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置，其特征在于，若干所述樣品室（3）橫向延伸且內(nèi)底部橫向凹陷設(shè)有若干限位槽（33），所述容置件（6）的底部活動(dòng)設(shè)有與若干所述限位槽（33）對(duì)應(yīng)的若干排滾動(dòng)件（62），所述容置區(qū)（61）為凹陷設(shè)于所述容置件（6）頂部的容置槽，所述樣品室（3）一端的內(nèi)頂部上凹形成限位區(qū)（34），所述容置件（6）的一端上凸設(shè)有與所述限位區(qū)（34）對(duì)應(yīng)的限位部（63）；所述容置件（6）通過(guò)若干排滾動(dòng)件（62）與若干限位槽（33）之間的配合限位滑動(dòng)進(jìn)入所述樣品室（3）后，所述限位部（63）橫向限位設(shè)于所述活動(dòng)閥門（32）和限位區(qū)（34）之間。
3.如權(quán)利要求2所述的一種靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置，其特征在于，還包括對(duì)應(yīng)若干所述活動(dòng)閥門（32）的送料機(jī)構(gòu)（7），所述樣品室（3）的橫向一端設(shè)有所述活動(dòng)閥門（32）、橫向另一端側(cè)壁貫穿設(shè)有連接所述供氣系統(tǒng)（5）的進(jìn)氣孔（35），所述容置件（6）的另一端部設(shè)為擋氣部（64），所述擋氣部（64）通過(guò)若干扭簧轉(zhuǎn)動(dòng)連接有豎向設(shè)置的擋片件（65），所述樣品室（3）的橫向另一端側(cè)壁內(nèi)限位滑動(dòng)設(shè)有受伸縮驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)伸縮的若干壓塊（36），若干所述壓塊（36）對(duì)應(yīng)所述擋片件（65）；所述容置件（6）受送料機(jī)構(gòu)（7）驅(qū)動(dòng)進(jìn)料至所述樣品室（3）內(nèi)后，所述擋片件（65）受若干所述壓塊（36）伸出下壓至橫向限位設(shè)于所述容置件（6）頂部和若干所述壓塊（36）底部之間；標(biāo)準(zhǔn)完成后，所述供氣系統(tǒng)（5）對(duì)所述樣品室（3）供氣復(fù)壓，所述活動(dòng)閥門（32）開(kāi)啟后，若干所述壓塊（36）回縮以使所述擋片件（65）受所述扭簧驅(qū)動(dòng)復(fù)位至豎向設(shè)置，所述擋氣部（64）和擋片件（65）與所述樣品室（3）內(nèi)壁和若干所述限位槽（33）間隙設(shè)置，所述供氣系統(tǒng)（5）繼續(xù)通過(guò)所述進(jìn)氣孔（35）對(duì)所述樣品室（3）供氣，以加壓推動(dòng)所述擋片件（65）和擋氣部（64）帶動(dòng)所述容置件（6）出料至所述送料機(jī)構(gòu)（7）輸出。
4.如權(quán)利要求3所述的一種靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述供氣系統(tǒng)（5）所供氣體為干燥氮?dú)?，所述容置件?）的另一端頂部下凹形成位于所述擋氣部（64）頂部的臺(tái)階部（66），所述擋片件（65）的下端通過(guò)若干所述扭簧轉(zhuǎn)動(dòng)連接所述臺(tái)階部（66）的端部，所述壓塊（36）底部靠近所述容置件（6）的一端傾斜設(shè)置形成對(duì)應(yīng)所述擋片件（65）的導(dǎo)向面（361），所述伸縮驅(qū)動(dòng)裝置包括電磁鐵和連接于所述電磁鐵和壓塊（36）之間的彈簧，所述進(jìn)氣孔（35）和壓塊（36）的高度低于所述容置件（6）的高度，所述樣品室（3）的高度為20mm-25mm；所述容置件（6）進(jìn)料至所述樣品室（3）內(nèi)后，所述擋片件（65）受所述壓塊（36）下壓橫向嵌合設(shè)于所述臺(tái)階部（66）內(nèi)，所述容置件（6）的另一端與所述進(jìn)氣孔（35）間距設(shè)置。
5.如權(quán)利要求3所述的一種靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述容置件（6）底部上凹設(shè)有若干橫向間隔設(shè)置的驅(qū)動(dòng)槽（67），所述送料機(jī)構(gòu)（7）包括受驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)的若干輸送帶，若干所述輸送帶分別間距對(duì)應(yīng)若干所述樣品室（3）的橫向一端，所述輸送帶上設(shè)有對(duì)應(yīng)所述容置件（6）端部的推塊（71）和對(duì)應(yīng)所述驅(qū)動(dòng)槽（67）的驅(qū)動(dòng)塊（72）；所述輸送帶帶動(dòng)所述容置件（6）進(jìn)料時(shí)，所述推塊（71）用于推動(dòng)所述容置件（6）進(jìn)料至所述樣品室（3）內(nèi)；所述擋片件（65）帶動(dòng)所述容置件（6）出料至一端對(duì)接對(duì)應(yīng)的所述輸送帶時(shí)，所述供氣系統(tǒng)（5）停止對(duì)所述樣品室（3）供氣，所述驅(qū)動(dòng)塊（72）用于隨所述輸送帶轉(zhuǎn)動(dòng)插入對(duì)應(yīng)的所述驅(qū)動(dòng)槽（67）內(nèi)推動(dòng)所述容置件（6）繼續(xù)出料。
6.如權(quán)利要求5所述的一種靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置，其特征在于，若干所述輸送帶包括上下分布的若干進(jìn)料帶（73）和若干出料帶（74），所述進(jìn)料帶（73）和出料帶（74）一同受升降驅(qū)動(dòng)裝置（75）驅(qū)動(dòng)上下升降，所述進(jìn)料帶（73）上的所述推塊（71）對(duì)應(yīng)所述限位部（63），所述出料帶（74）上的所述推塊（71）對(duì)應(yīng)所述擋氣部（64），所述驅(qū)動(dòng)塊（72）沿橫向間隔設(shè)有若干個(gè)且至少兩個(gè)一同對(duì)應(yīng)一所述驅(qū)動(dòng)槽（67）；所述進(jìn)料帶（73）和出料帶（74）上升至所述出料帶（74）對(duì)應(yīng)所述樣品室（3）時(shí)，所述進(jìn)料帶（73）用于承接第二批的所述容置件（6），所述出料帶（74）用于承接所述樣品室（3）內(nèi)的第一批的所述容置件（6）；所述進(jìn)料帶（73）和出料帶（74）下降至所述進(jìn)料帶（73）對(duì)應(yīng)所述樣品室（3）時(shí)，所述進(jìn)料帶（73）用于將所承接的第二批的所述容置件（6）進(jìn)料至所述樣品室（3）內(nèi)，所述出料帶（74）用于將第一批的所述容置件（6）輸出。
7.如權(quán)利要求6所述的一種靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置，其特征在于，還包括機(jī)體（8），所述一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（1）和二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（2）的數(shù)量均為兩個(gè)且兩所述二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（2）左右對(duì)稱分布于所述機(jī)體（8）上部?jī)?nèi)，所述一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（1）和二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（2）一一對(duì)應(yīng)連接，所述機(jī)體（8）頂部左右兩側(cè)內(nèi)分別設(shè)有若干前后并排架設(shè)于對(duì)應(yīng)的所述二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（2）頂部的所述樣品室（3），兩所述二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（2）的相遠(yuǎn)端分別連接對(duì)應(yīng)的若干所述樣品室（3），兩所述二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（2）分別連接有真空傳感裝置（21），所述供氣系統(tǒng)（5）通過(guò)若干復(fù)壓閥（55）分別連接左右兩側(cè)的若干所述樣品室（3）和兩所述二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（2），所述送料機(jī)構(gòu)（7）設(shè)有兩套且左右對(duì)稱對(duì)應(yīng)左右兩側(cè)的若干所述樣品室（3）。
8.如權(quán)利要求1所述的一種靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述供氣系統(tǒng)（5）通過(guò)進(jìn)氣閥（52）連接有穩(wěn)壓室（51），所述穩(wěn)壓室（51）通過(guò)進(jìn)氣閥（52）連接所述一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（1），所述穩(wěn)壓室（51）連接有若干取樣傳感裝置（511），所述抽氣系統(tǒng)（4）包括通過(guò)真空閥（43）相連接的一級(jí)真空泵（41）和二級(jí)真空泵（42），所述一級(jí)真空泵（41）和二級(jí)真空泵（42）分別通過(guò)抽氣閥（44）連接所述二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（2），所述穩(wěn)壓室（51）通過(guò)抽空閥（53）連接所述一級(jí)真空泵（41），所述一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（1）依次通過(guò)排氣閥（54）和進(jìn)氣閥（52）連接所述二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（2）。
9.如權(quán)利要求1所述的一種靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置，其特征在于，還包括用于對(duì)所述二級(jí)標(biāo)準(zhǔn)室（2）、穩(wěn)壓室（51）、樣品室（3）加熱的烘烤系統(tǒng)。