本實(shí)用新型屬于實(shí)驗(yàn)室檢測技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種薄層層析實(shí)驗(yàn)裝置。
背景技術(shù):
薄層層析分析方法是快速分離和定性分析少量物質(zhì)的一種重要實(shí)驗(yàn)技術(shù),適用于少量樣品的分離。該檢測方法需要制備薄層層析板,薄層層析板是將吸附劑、載體或其他活性物質(zhì)均勻涂鋪在平面板(如玻璃板、塑料片、金屬片等)上,形成薄層后,在此薄層放置薄層層析平臺進(jìn)行定量定性分析。目前一般用燒杯盛放展開劑,然后把薄層層析板放在盛有展開劑的燒杯檢測,同時再用紫外燈照射薄層層析板觀察分析。這種方式的缺點(diǎn)在于,薄層層析板很容易被過多的展開劑浸沒,同時不利于展開劑的回收利用,而且薄層層析板如果沒放置在相同傾角的底座上,沒有比較性,很容易導(dǎo)致分析不準(zhǔn)確不穩(wěn)定。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對現(xiàn)有設(shè)備不完善的缺點(diǎn),本實(shí)用新型提供了一種測試穩(wěn)定、展開劑分散均勻的薄層層析實(shí)驗(yàn)裝置。
本實(shí)用新型為達(dá)到上述目的所采用的技術(shù)方案是:一種薄層層析實(shí)驗(yàn)裝置,具體包括鐵架臺、紫外燈和薄層層析平臺,所述鐵架臺設(shè)有一個支撐底座,所述支撐底座上安置薄層層析平臺,所述薄層層析平臺內(nèi)部設(shè)有層析槽和展開劑槽,所述層析槽連通展開劑槽,所述支撐底座上設(shè)有一個固定支撐桿,所述固定支撐桿上方夾持一支撐橫桿,所述支撐橫桿夾持所述紫外燈。
所述支撐橫桿通過十字夾固定紫外燈桿,所述紫外燈桿可以通過十字夾上下伸縮,所述紫外燈桿固定連接所述紫外燈。
所述薄層層析平臺內(nèi)部設(shè)有2個層析槽和2個展開劑槽,所述2個層析槽開口為長方形,所述2個展開劑槽開口為圓形,所述2個層析槽內(nèi)部各設(shè)有一個傾斜底座。其中一個所述層析槽與小圓孔開口的展開劑槽相連通,另一個所述層析槽與大圓孔開口的展開劑槽相連通,所述小圓孔開口的展開劑槽裝液體展開劑,所述大圓孔開口的展開劑槽裝固體粉末展開劑。
因?yàn)樾枰捎米贤饩€單獨(dú)照射,避免其他波長的光線干擾,比如紅外線,所以所述的薄層層析平臺都采用不透光材料制得。
有益效果
采用上述結(jié)構(gòu)的薄層層析實(shí)驗(yàn)裝置后,本實(shí)用新型的有益效果:整個薄層層析平臺采用不透光材料制得,避免了避免其他波長的光線干擾。通過在層析槽底部設(shè)有傾斜底座,固定了薄層層析板的擺放位置,在化學(xué)分析的對比實(shí)驗(yàn)室中得到數(shù)據(jù)更為準(zhǔn)確和穩(wěn)定。展開劑槽和層析槽并聯(lián)在一起,投料方便,展開劑和薄層層析板接觸均勻,不會出現(xiàn)薄層層析板浸沒過多,展開劑都還沒把目標(biāo)產(chǎn)物分開就已經(jīng)分散到了薄層層析板頂端的缺點(diǎn)。
附圖說明
圖1是薄層層析實(shí)驗(yàn)裝置的側(cè)面示意圖;
圖2是薄層層析實(shí)驗(yàn)裝置中薄層層析平臺的俯視圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。
實(shí)施例1
一種薄層層析實(shí)驗(yàn)裝置,如圖(1、2)所示,具體包括鐵架臺、紫外燈14和薄層層析平臺11,所述鐵架臺設(shè)有一個支撐底座8,所述支撐底座8上安置薄層層析平臺1,所述薄層層析平臺1內(nèi)部設(shè)有層析槽(2、3)和展開劑槽(5、7),所述支撐底座8上設(shè)有一個固定支撐桿9,所述固定支撐桿9上方夾持一支撐橫桿10,所述支撐橫桿10夾持所述紫外燈14。
所述支撐橫桿10通過十字夾12固定紫外燈桿13,所述紫外燈桿13可以通過十字夾12上下伸縮,所述紫外燈桿13固定連接所述紫外燈14。
所述薄層層析平臺1內(nèi)部設(shè)有2個層析槽(2、3)和2個展開劑槽(5、7),所述2個層析槽(2、3)開口為長方形,所述2個展開劑槽(5、7)開口為圓形,所述2個層析槽(2、3)內(nèi)部各設(shè)有一個傾斜底座(4)。其中一個所述層析槽2與小圓孔開口的展開劑槽5相連通,另一個所述層析槽3與大圓孔開口的展開劑槽7相連通,所述小圓孔開口的展開劑槽5裝液體展開劑,所述大圓孔開口的展開劑槽7裝固體粉末展開劑。
因?yàn)樾枰米贤饩€單獨(dú)照射,避免其他波長的光線干擾,比如紅外線,所以所述的薄層層析平臺1都采用不透光材料制得。
以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,其描述較為具體和詳細(xì),但并不能因此而理解為對本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形、改進(jìn)及替代,這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此,本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。