本發(fā)明涉及光電測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域，更具體的涉及一種光電一體式測(cè)試系統(tǒng)和光電測(cè)試方法。

背景技術(shù)：

近年來(lái)，隨著科技的不斷發(fā)展，光纖已進(jìn)入各應(yīng)用領(lǐng)域。光纖的分類主要是從工作波長(zhǎng)、折射率分布、傳輸模式、原材料和制造方法進(jìn)行分類：工作波長(zhǎng)：紫外光纖、可觀光纖、近紅外光纖、紅外光纖；折射率分布：階躍型光纖、近階躍型光纖、漸變型光纖、其它(如三角型、w型、凹陷型等)；傳輸模式：?jiǎn)文９饫w(含偏振保持光纖、非偏振保持光纖)、多模光纖；原材料：石英光纖、多成分玻璃光纖、塑料光纖、復(fù)合材料光纖、紅外材料等；制造方法：預(yù)塑有汽相軸向沉積、化學(xué)汽相沉積等，拉絲法有管律法和雙坩鍋法等。光纖的應(yīng)用主要包括：光纖通信和光纖傳感，這都需要研究不同光纖的特性從而將其應(yīng)用于合適的領(lǐng)域，在研究光纖特性時(shí)則需要構(gòu)建光電測(cè)試系統(tǒng)以研究其光學(xué)特性和光信號(hào)的電學(xué)表現(xiàn)特性。

由于不同光纖的基本結(jié)構(gòu)是相同的，因此在研究光纖特性時(shí)，其測(cè)試方法基本相同，即光源通過(guò)光纖后探測(cè)光信號(hào)和光轉(zhuǎn)換后的電信號(hào)。但是，入射到光纖端面的光并不能全部被光纖所傳輸，只是在某個(gè)角度范圍內(nèi)的入射光才可以，因此，通常需要調(diào)節(jié)光源相對(duì)光纖端面的位置，然而，目前準(zhǔn)確且可重復(fù)再現(xiàn)的調(diào)節(jié)光源和光纖端面的相對(duì)位置是比較困難的。

綜上所述，現(xiàn)有技術(shù)中的光纖光電測(cè)試系統(tǒng)，存在調(diào)節(jié)光源和光纖端面的相對(duì)位置困難的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明實(shí)施例提供一種光電一體式測(cè)試系統(tǒng)和光電測(cè)試方法，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在調(diào)節(jié)光源和光纖端面的相對(duì)位置困難的問(wèn)題。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種光電一體式測(cè)試系統(tǒng)，包括：測(cè)試臺(tái)、光源支撐臺(tái)、光纖支撐臺(tái)、光斑放大顯示屏、光電探測(cè)臺(tái)、光電處理電路板和測(cè)試組件；

所述光源支撐臺(tái)設(shè)置在所述測(cè)試臺(tái)頂面上；所述光源支撐臺(tái)上設(shè)置有第一滑軌，且所述第一滑軌上沿滑動(dòng)方向設(shè)置有刻度線；所述第一滑軌上設(shè)置有第一升降滑臺(tái)，所述第一升降滑臺(tái)上設(shè)置有帶刻度的第一升降旋轉(zhuǎn)盤，以及所述第一升降滑臺(tái)上設(shè)置有第一移動(dòng)滑炳；所述第一升降滑臺(tái)上固定有光源；

所述光纖支撐臺(tái)設(shè)置在所述測(cè)試臺(tái)頂面上；所述光纖支撐臺(tái)的頂面上設(shè)置有多個(gè)不同半徑的凹槽；所述凹槽內(nèi)放置有光纖，所述光源的發(fā)射光中心線與所述光纖支撐臺(tái)前端面面垂直，以及所述光源的發(fā)射光中心線高度與多個(gè)不同半徑的所述凹槽中的中間凹槽位置對(duì)應(yīng)；

所述光斑放大顯示屏可拆卸設(shè)置在所述光纖支撐臺(tái)后端面處，所述光纖支撐臺(tái)的后端面位于所述光斑放大顯示屏中心位置，以及所述光斑放大顯示屏上設(shè)置有帶刻度的網(wǎng)格；

所述光電探測(cè)臺(tái)設(shè)置在所述光纖支撐臺(tái)后端面處；所述光電探測(cè)臺(tái)上設(shè)置有第二滑軌，且所述第二滑軌上沿滑動(dòng)方向設(shè)置有刻度線；所述第二滑軌上設(shè)置有第二升降滑臺(tái)，所述第二升降滑臺(tái)上設(shè)置有帶刻度的第二升降旋轉(zhuǎn)盤，以及所述第二升降滑臺(tái)上設(shè)置有第一移動(dòng)滑炳；所述第二升降滑臺(tái)上固定有光電探測(cè)器；

所述光電處理電路板和所述測(cè)試組件均嵌設(shè)在所述測(cè)試臺(tái)頂面上；所述光電處理電路板與所述光電探測(cè)器電連接；所述測(cè)試組件包括：電流電壓測(cè)試組件、信號(hào)發(fā)生組件、示波器組件和直流電源組件。

較佳地，所述光源采用激光光源。

較佳地，所述第一滑軌的中心為零刻度線，所述第一滑軌零刻度線的一側(cè)為正數(shù)，以及所述第一滑軌零刻度線的另一側(cè)為負(fù)數(shù)；所述第二滑軌的中心為零刻度線，所述第二滑軌零刻度線的一側(cè)為正數(shù)，以及所述第二滑軌零刻度線的另一側(cè)為負(fù)數(shù)。

較佳地，所述光纖通過(guò)膠帶粘接在所述凹槽內(nèi)。

較佳地，所述光電處理電路板，包括：光電轉(zhuǎn)換電路、濾波放大電路和信號(hào)處理電路。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種光電測(cè)試方法，包括：

將光纖放置在與光纖尺寸最匹配的凹槽內(nèi)；

通過(guò)第一移動(dòng)滑炳調(diào)節(jié)第一升降滑臺(tái)的水平位置，以及通過(guò)第一升降旋轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)第一升降滑臺(tái)的高度，使光源的入射光中心線與光纖前端面位置對(duì)應(yīng)；并且通過(guò)刻度線記錄第一升降滑臺(tái)的位置；

通過(guò)帶刻度網(wǎng)格的光斑放大顯示屏觀察出射光光斑；并且記錄光斑的結(jié)構(gòu)、尺寸和位置；

去掉光斑放大顯示屏，通過(guò)第二移動(dòng)滑炳調(diào)節(jié)第二升降滑臺(tái)的水平位置，以及通過(guò)第二升降旋轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)第二升降滑臺(tái)的高度，使光纖出射光中心線與光電探測(cè)器后端面位置對(duì)應(yīng)；并且通過(guò)刻度線記錄第而升降滑臺(tái)的位置；

通過(guò)光電探測(cè)器接收光纖出射光信號(hào)，通過(guò)光電處理電路板對(duì)光信號(hào)進(jìn)行光電處理，以及通過(guò)測(cè)試組件對(duì)光信號(hào)轉(zhuǎn)換后的電信號(hào)進(jìn)行測(cè)試。

本發(fā)明實(shí)施例中，提供一種光電一體式測(cè)試系統(tǒng)和光電測(cè)試方法，與現(xiàn)有技術(shù)相比，其有益效果如下：

本發(fā)明通過(guò)將光源支撐臺(tái)和光纖支撐臺(tái)一體化設(shè)置，使光源與光纖端面的相對(duì)位置固定，即只需要微調(diào)光源就可實(shí)現(xiàn)光源較佳入射光纖端面，從而解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在調(diào)節(jié)光源和光纖端面的相對(duì)位置困難的問(wèn)題；同時(shí)，本發(fā)明的微調(diào)結(jié)構(gòu)只需要微調(diào)高度和微調(diào)水平移動(dòng)距離(水平移動(dòng)方向與光纖端面平行)，且在兩個(gè)調(diào)節(jié)方向上均有刻度標(biāo)記，使本次調(diào)節(jié)的位置有準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)記錄，在重復(fù)實(shí)驗(yàn)或?qū)Ρ葘?shí)驗(yàn)中，精確度高，實(shí)驗(yàn)效果佳。

本發(fā)明通過(guò)在光纖后端面處設(shè)置光斑放大顯示屏，且光纖后端面與光斑放大顯示屏平行位置固定，即放大倍數(shù)固定，以及光斑放大顯示屏上設(shè)置有刻度網(wǎng)格，可以直觀快捷分析光斑結(jié)構(gòu)和尺寸，為進(jìn)一步深入研究光纖特性提供可靠依據(jù)。

本發(fā)明通過(guò)在光纖后端面處設(shè)置光電探測(cè)器、光電轉(zhuǎn)換處理電路和電測(cè)試組件，從而實(shí)現(xiàn)了光信號(hào)轉(zhuǎn)換后的電特性，通過(guò)對(duì)光電參數(shù)的計(jì)算處理，完成了光纖特性的光電測(cè)試。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種光電一體式測(cè)試系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種光電一體式測(cè)試系統(tǒng)中第一升降滑臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種光電測(cè)試方法流程圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種光電一體式測(cè)試系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種光電一體式測(cè)試系統(tǒng)中第一升降滑臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1和圖2所示，該系統(tǒng)包括：測(cè)試臺(tái)1、光源支撐臺(tái)2、光纖支撐臺(tái)3、光斑放大顯示屏4、光電探測(cè)臺(tái)5、光電處理電路板6和測(cè)試組件7。

具體地，光源支撐臺(tái)2設(shè)置在測(cè)試臺(tái)1頂面上；光源支撐臺(tái)2上設(shè)置有第一滑軌21，且第一滑軌21上沿滑動(dòng)方向設(shè)置有刻度線；第一滑軌21上設(shè)置有第一升降滑臺(tái)22，第一升降滑臺(tái)22上設(shè)置有帶刻度的第一升降旋轉(zhuǎn)盤221，以及第一升降滑臺(tái)22上設(shè)置有第一移動(dòng)滑炳211；第一升降滑臺(tái)22上固定有光源。

需要說(shuō)明的是，光源1采用激光光源。

需要說(shuō)明的是，第一滑軌21的中心為零刻度線，第一滑軌21零刻度線的一側(cè)為正數(shù)，以及第一滑軌21零刻度線的另一側(cè)為負(fù)數(shù)。

具體地，光纖支撐臺(tái)3設(shè)置在測(cè)試臺(tái)1頂面上；光纖支撐臺(tái)3的頂面上設(shè)置有多個(gè)不同半徑的凹槽31；凹槽31內(nèi)放置有光纖，光源的發(fā)射光中心線與光纖支撐臺(tái)3前端面面垂直，以及光源的發(fā)射光中心線高度與多個(gè)不同半徑的凹槽31中的中間凹槽31位置對(duì)應(yīng)。

需要說(shuō)明的是，光纖通過(guò)膠帶粘接在凹槽31內(nèi)。

需要說(shuō)明的是，本發(fā)明通過(guò)將光源支撐臺(tái)和光纖支撐臺(tái)一體化設(shè)置，使光源與光纖端面的相對(duì)位置固定，即只需要微調(diào)光源就可實(shí)現(xiàn)光源較佳入射光纖端面，從而解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在調(diào)節(jié)光源和光纖端面的相對(duì)位置困難的問(wèn)題；同時(shí)，本發(fā)明的微調(diào)結(jié)構(gòu)只需要微調(diào)高度和微調(diào)水平移動(dòng)距離(水平移動(dòng)方向與光纖端面平行)，且在兩個(gè)調(diào)節(jié)方向上均有刻度標(biāo)記，使本次調(diào)節(jié)的位置有準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)記錄，在重復(fù)實(shí)驗(yàn)或?qū)Ρ葘?shí)驗(yàn)中，精確度高，實(shí)驗(yàn)效果佳。

具體地，光斑放大顯示屏4可拆卸設(shè)置在光纖支撐臺(tái)3后端面處，光纖支撐臺(tái)3的后端面位于光斑放大顯示屏4中心位置，以及光斑放大顯示屏4上設(shè)置有帶刻度的網(wǎng)格。

需要說(shuō)明的是，本發(fā)明通過(guò)在光纖后端面處設(shè)置光斑放大顯示屏，且光纖后端面與光斑放大顯示屏平行位置固定，即放大倍數(shù)固定，以及光斑放大顯示屏上設(shè)置有刻度網(wǎng)格，可以直觀快捷分析光斑結(jié)構(gòu)和尺寸，為進(jìn)一步深入研究光纖特性提供可靠依據(jù)。

具體地，光電探測(cè)臺(tái)5設(shè)置在光纖支撐臺(tái)3后端面處；光電探測(cè)臺(tái)5上設(shè)置有第二滑軌51，且第二滑軌51上沿滑動(dòng)方向設(shè)置有刻度線；第二滑軌51上設(shè)置有第二升降滑臺(tái)52，第二升降滑臺(tái)52上設(shè)置有帶刻度的第二升降旋轉(zhuǎn)盤521，以及第二升降滑臺(tái)52上設(shè)置有第一移動(dòng)滑炳511；第二升降滑臺(tái)52上固定有光電探測(cè)器。

需要說(shuō)明的是，第二滑軌51的中心為零刻度線，第二滑軌51零刻度線的一側(cè)為正數(shù)，以及第二滑軌51零刻度線的另一側(cè)為負(fù)數(shù)。

具體地，光電處理電路板6和測(cè)試組件7均嵌設(shè)在測(cè)試臺(tái)1頂面上；光電處理電路板6與光電探測(cè)器電連接；測(cè)試組件7包括：電流電壓測(cè)試組件、信號(hào)發(fā)生組件、示波器組件和直流電源組件。

需要說(shuō)明的是，光電處理電路板6，包括：光電轉(zhuǎn)換電路、濾波放大電路和信號(hào)處理電路。

需要說(shuō)明的是，本發(fā)明通過(guò)在光纖后端面處設(shè)置光電探測(cè)器、光電轉(zhuǎn)換處理電路和電測(cè)試組件，從而實(shí)現(xiàn)了光信號(hào)轉(zhuǎn)換后的電特性，通過(guò)對(duì)光電參數(shù)的計(jì)算處理，完成了光纖特性的光電測(cè)試。

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種光電測(cè)試方法流程圖。如圖3所示，該方法包括：

步驟s201，將光纖放置在與光纖尺寸最匹配的凹槽內(nèi)。

步驟s202，通過(guò)第一移動(dòng)滑炳調(diào)節(jié)第一升降滑臺(tái)的水平位置，以及通過(guò)第一升降旋轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)第一升降滑臺(tái)的高度，使光源的入射光中心線與光纖前端面位置對(duì)應(yīng)；并且通過(guò)刻度線記錄第一升降滑臺(tái)的位置。

步驟s203，通過(guò)帶刻度網(wǎng)格的光斑放大顯示屏觀察出射光光斑；并且記錄光斑的結(jié)構(gòu)、尺寸和位置。

步驟s204，去掉光斑放大顯示屏，通過(guò)第二移動(dòng)滑炳調(diào)節(jié)第二升降滑臺(tái)的水平位置，以及通過(guò)第二升降旋轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)第二升降滑臺(tái)的高度，使光纖出射光中心線與光電探測(cè)器后端面位置對(duì)應(yīng)；并且通過(guò)刻度線記錄第而升降滑臺(tái)的位置。

步驟s205，通過(guò)光電探測(cè)器接收光纖出射光信號(hào)，通過(guò)光電處理電路板對(duì)光信號(hào)進(jìn)行光電處理，以及通過(guò)測(cè)試組件對(duì)光信號(hào)轉(zhuǎn)換后的電信號(hào)進(jìn)行測(cè)試。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種光電測(cè)試方法，由于該方法解決技術(shù)問(wèn)題的原理與一種光電一體式測(cè)試系統(tǒng)相似，因此該方法的實(shí)施可以參見(jiàn)系統(tǒng)的實(shí)施，重復(fù)之處不再贅述。

以上公開(kāi)的僅為本發(fā)明的幾個(gè)具體實(shí)施例，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。