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一種保偏光纖環(huán)光程中心點(diǎn)的定位及檢測(cè)方法與流程

文檔序號(hào):12060643閱讀:577來源:國知局
一種保偏光纖環(huán)光程中心點(diǎn)的定位及檢測(cè)方法與流程

本發(fā)明涉及光纖傳感領(lǐng)域,具體是一種保偏光纖環(huán)光程中心點(diǎn)的定位及檢測(cè)方法。



背景技術(shù):

光纖陀螺的工作原理是基于薩格納克效應(yīng)(Sagnac Effect)。薩格納克效應(yīng)是相對(duì)慣性空間轉(zhuǎn)動(dòng)的閉環(huán)光路中所傳播光的一種普遍的相關(guān)效應(yīng),即在同一閉合光路中從同一光源發(fā)出的兩束特征相等的光,以相反的方向進(jìn)行傳播,最后匯合到同一探測(cè)點(diǎn)。若繞垂直于閉合光路所在平面的軸線,相對(duì)慣性空間存在著轉(zhuǎn)動(dòng)角速度,則正、反方向傳播的光束走過的光程不同,就產(chǎn)生光程差,其光程差與旋轉(zhuǎn)的角速度成正比。因而只要知道了光程差及與之相應(yīng)的相位差的信息,即可得到旋轉(zhuǎn)角速度。目前應(yīng)用最廣泛得的光纖陀螺類型為干涉型光纖陀螺儀(I-FOG),它采用多匝保偏光纖圈來增強(qiáng)薩格納克效應(yīng),一個(gè)由多匝單模保偏光纖環(huán)成的雙光束環(huán)形干涉儀可提供較高的精度。

光纖陀螺自1976年問世以來,得到了極大的發(fā)展。但是,光纖陀螺在技術(shù)上還存在一系列問題,這些問題影響了光纖陀螺的精度和穩(wěn)定性,進(jìn)而限制了其應(yīng)用的廣泛性。理論上,制作的保偏光纖環(huán)保證兩端尾纖距離中心點(diǎn)的距離完全相等,則可以根據(jù)上述理論描述“當(dāng)若繞垂直于閉合光路所在平面的軸線,相對(duì)慣性空間存在著轉(zhuǎn)動(dòng)角速度,則正、反方向傳播的光束走過的光程不同,就產(chǎn)生光程差,其光程差與旋轉(zhuǎn)的角速度成正比”來計(jì)算出旋轉(zhuǎn)的角速度。但是,在保偏光纖環(huán)繞制過程中,由于繞環(huán)設(shè)備、所使用的膠體固化、保偏光纖環(huán)老化過程中產(chǎn)生的環(huán)體內(nèi)部保偏光纖的長度變化,會(huì)破壞保偏光纖環(huán)兩端尾纖針對(duì)環(huán)體本身光程中心點(diǎn)的對(duì)稱性,進(jìn)而影響保偏光纖環(huán)制備成為光纖陀螺后的角速度測(cè)量精度。但是這在目前的光纖陀螺制備過程中,還無法實(shí)現(xiàn)對(duì)保偏光纖環(huán)兩端尾纖針對(duì)環(huán)體本身光程中點(diǎn)的對(duì)稱性的檢測(cè)。換句話說,還沒有辦法測(cè)量光纖環(huán)兩端尾纖距離光程中心點(diǎn)的實(shí)際長度。目前的方法,只能夠認(rèn)為利用分纖機(jī)將保偏光纖從兩端尾纖分成左右兩盤后的大約中心點(diǎn)位置為光程中心點(diǎn),在將保偏光纖繞制成光纖環(huán)后,保偏光纖環(huán)兩端尾纖的截取也由于無法基于準(zhǔn)確的光程方面的測(cè)試數(shù)據(jù),而只能盲目截取。

現(xiàn)有的一種提高光纖陀螺測(cè)量角速度精度的方法是通過使用更長保偏光纖繞制光纖環(huán),配合以特殊的保偏光纖環(huán)繞制方法,來提高光纖陀螺角速度測(cè)量精度。但是保偏光纖環(huán)的成本主要集中在保偏光纖及其繞制過程上面,通過增加繞制的保偏光纖長度的方法,提高光纖陀螺角速度測(cè)量精度有限并且會(huì)顯著增加光纖陀螺的整體成本,對(duì)于未來需求量巨大的光纖陀螺市場(chǎng)而言,成本也是必須考慮的重要方面。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

針對(duì)現(xiàn)有光纖陀螺制備技術(shù)存在的上述不足,本發(fā)明提供一種保偏光纖環(huán)光程中心點(diǎn)的定位及檢測(cè)方法,在不增加保偏光纖使用長度的前提下,能夠精確測(cè)量兩個(gè)反向傳播光路的長度,即得到保偏光纖環(huán)光程中心點(diǎn)的精確位置,進(jìn)而切割保偏光纖環(huán)兩端尾纖,并保證兩個(gè)反向傳播光路的長度測(cè)量和截取控制在mm精度,從而保證截取后的保偏光纖環(huán)兩端尾纖距離保偏光纖環(huán)本身光程中心點(diǎn)的長度差控制在mm精度。

一種保偏光纖環(huán)光程中心點(diǎn)的定位及檢測(cè)方法,包括如下步驟:

步驟一、保偏光纖中心點(diǎn)位置預(yù)定位:截取一定長度的保偏光纖,利用分纖機(jī)將保偏光纖從兩端尾纖分成左右兩盤,并在大約中心點(diǎn)位置進(jìn)行標(biāo)記;

步驟二、使用飛秒激光刻制光纖光柵:在不干擾光纖陀螺使用光波段的情況下,根據(jù)步驟一所標(biāo)記的中心點(diǎn)位置刻制光纖光柵;

步驟三、保偏光纖環(huán)繞制:將已刻制光纖光柵的保偏光纖使用光纖環(huán)繞環(huán)機(jī)根據(jù)不同繞制方式繞制成保偏光纖環(huán),保偏光纖環(huán)的兩端有尾纖留出;

步驟四、保偏光纖環(huán)兩端尾纖距離光程中心等距截?。涸诒F饫w繞制成環(huán)后,通過將保偏光纖環(huán)一端尾纖接至光頻域反射計(jì),測(cè)量結(jié)果顯示接入端、光纖光柵、光纖環(huán)另一端尾纖終點(diǎn)的精確位置,然后根據(jù)測(cè)試結(jié)果,計(jì)算保偏光纖環(huán)兩端需要截取的距離,以保證所截取長度精度控制在mm級(jí)。

進(jìn)一步的,步驟二中刻制光纖光柵的指標(biāo)如下:

FBG反射波長遠(yuǎn)離光纖陀螺光源的波段;

FBG反射率:1‰至1%;

FBG除反射波長外,其他通過波長損耗要求:≤0.5dB

FBG物理尺寸:≤1mm

FBG正常工作溫度:-45~80℃。

進(jìn)一步的,步驟二具體過程為:將進(jìn)行標(biāo)記過中心點(diǎn)的保偏光纖取出,通過夾具固定標(biāo)記點(diǎn)左右兩端,然后將夾具放置在旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上,通過旋轉(zhuǎn)平臺(tái)以及顯微鏡,將激光聚焦點(diǎn)避開保偏光纖硼區(qū)而直接聚焦在光纖纖芯上,然后開始刻制光纖光柵。

本發(fā)明的有益效果是:

1、使用飛秒激光刻制光纖光柵,其光纖光柵波長、反射率等屬性參數(shù)均可定制,刻制位置為光纖纖芯,保證了不干擾光纖本身對(duì)光纖陀螺使用光的光學(xué)屬性;刻制過程免去光纖涂覆層“剝除—再涂覆”,保證了不破壞光纖的機(jī)械屬性;光纖光柵自身物理長度可低至1mm以下并提供特定波長光的一定比率的光反射,保證了后期OFDR對(duì)其的檢測(cè)和精確定位。

2、在2km范圍內(nèi),使用光頻域反射技術(shù)能夠檢測(cè)和精確定位光纖光柵,定位精度能夠達(dá)到±1mm;

3、保偏光纖繞制成保偏光纖環(huán)之后,通過光頻域反射技術(shù)檢測(cè)保偏光纖兩端尾纖至保偏光纖中心點(diǎn)距離后,計(jì)算出需要對(duì)保偏光纖兩端尾纖的截取距離后,進(jìn)行截取,檢測(cè)和截取操作簡便,保證精度在mm級(jí)。

4、在不增加保偏光纖使用長度的前提下,即不改變保偏光纖及光纖陀螺制備成本的前提下,提供了一種可提高光纖陀螺角速度測(cè)量精度的方法。

附圖說明

圖1是本發(fā)明中對(duì)保偏光纖中心點(diǎn)位置預(yù)定位的示意圖;

圖2是保偏光纖橫截面示意圖;

圖3是本發(fā)明中使用飛秒激光刻制光纖光柵的示意圖;

圖4是本發(fā)明中保偏光纖環(huán)繞制后的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖5是基于瑞利散射的相干探測(cè)原理圖;

圖6是光頻域反射技術(shù)(OFDR)的工作原理圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明中的附圖,對(duì)本發(fā)明中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。

本發(fā)明提供一種保偏光纖環(huán)光程中心點(diǎn)的定位及檢測(cè)方法,包括如下步驟:

步驟一、保偏光纖中心點(diǎn)位置預(yù)定位

光纖陀螺使用的保偏光纖繞環(huán),長度從200m到5km不等,目前的情況是保偏光纖使用的越長,后期制備的光纖陀螺精度就越高。本實(shí)施例以1.1km保偏光纖陀螺的制備為例進(jìn)行說明。首先,截取長度為1.1km的保偏光纖。利用分纖機(jī)(長度精度理論上可以達(dá)到總長度的千分之三3‰)將保偏光纖從兩端尾纖分成左右兩盤(如圖1所示),并在大約中心點(diǎn)位置(550m左右位置)進(jìn)行標(biāo)記(例如用水筆進(jìn)行標(biāo)記)。此時(shí),該中心點(diǎn)位置無需精確定位,根據(jù)分纖機(jī)的長度計(jì)算理論上也能控制在10m以內(nèi)。然后,將分成左右兩盤的保偏光纖進(jìn)行保護(hù)裝盒,中間用水筆標(biāo)記的位置留出并特別保護(hù)好。

步驟二、使用飛秒激光刻制光纖光柵

本實(shí)施例中,鑒于光纖陀螺將使用1530nm+/-20nm波段光,在不干擾光纖陀螺使用光波段的情況下,根據(jù)步驟一所標(biāo)記的中心點(diǎn)位置刻制反射波長為1600nm、弱反射率的光纖光柵。使用飛秒激光器刻制光纖光柵技術(shù)與使用傳統(tǒng)紫外激光器通過掩膜板刻制光纖光柵技術(shù)的不同之處在于,前者不需要在刻制光纖光柵前剝離光纖的外涂覆層。這一巨大技術(shù)優(yōu)勢(shì),將保證在刻制光纖光柵的過程中對(duì)光纖本身的物理機(jī)械特性產(chǎn)生任何影響。換句話說,如果因?yàn)樾枰讨乒饫w光柵而剝離光纖的外涂覆層,刻制之后再涂覆其他樹脂材料進(jìn)行保護(hù),則會(huì)嚴(yán)重影響光纖在刻?hào)诺木植课恢蒙系臋C(jī)械強(qiáng)度(拉伸強(qiáng)度和抗彎性能),這樣也將直接影響光纖繞制光纖環(huán)后光纖環(huán)內(nèi)部的光學(xué)和機(jī)械穩(wěn)定性。

本例中,采用飛秒激光器在普通單模光纖上刻制光纖光柵的技術(shù)成熟,同時(shí)可以保證刻制的光纖光柵滿足波長及尺寸指標(biāo)要求。光纖光柵的指標(biāo)確定規(guī)則如下:

FBG反射波長:遠(yuǎn)離光纖陀螺光源的波段,例如1600nm;

FBG反射率:盡可能小,例如1‰至1%;

FBG除反射波長外,其他通過波長損耗要求:≤0.5dB;

FBG物理尺寸:盡可能小,例如≤1mm,目前技術(shù)可以做到800um;

FBG正常工作溫度:與光纖陀螺要求的工作環(huán)境一致,例如-45~80℃。

所使用的保偏光纖橫截面如圖2所示所示。飛秒激光器刻?hào)胚^程中,激光聚焦刻?hào)劈c(diǎn)需要躲避熊貓型保偏光纖的硼區(qū)。

保偏光纖纖芯上刻制光纖光柵的具體過程為:將之前進(jìn)行標(biāo)記過中心點(diǎn)的保偏光纖取出,通過夾具固定標(biāo)記點(diǎn)左右兩端,然后將該夾具放置在旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上;通過旋轉(zhuǎn)平臺(tái)以及顯微鏡,將激光聚焦點(diǎn)避開保偏光纖硼區(qū)而直接聚焦在光纖纖芯上,然后開始刻制光纖光柵,如圖3所述。

步驟三、保偏光纖環(huán)繞制

將已刻制光纖光柵的保偏光纖使用光纖環(huán)繞環(huán)機(jī)根據(jù)不同繞制方式繞制成保偏光纖環(huán),保偏光纖環(huán)的兩端有尾纖留出,如圖4所示。

步驟四、光纖環(huán)兩端尾纖距離光程中心等距截取

在保偏光纖繞制成環(huán)后,通過將光纖環(huán)一端尾纖接至光頻域反射計(jì),測(cè)量結(jié)果可顯示接入端、光纖光柵、光纖環(huán)另一端尾纖終點(diǎn)的精確位置。然后,根據(jù)測(cè)試結(jié)果,計(jì)算光纖環(huán)兩端需要截取的距離,截取過程可以通過桌面標(biāo)尺進(jìn)行操作,可以保證所截取長度精度控制在mm級(jí)。

光頻域反射技術(shù)(Optical Frequency Domain Reflectometry,OFDR),本質(zhì)上是一種基于瑞利散射的相干探測(cè)技術(shù),如圖5所示,在相干探測(cè)系統(tǒng)中,除了用于探測(cè)的信號(hào)光,還增加了用于與信號(hào)光進(jìn)行相干探測(cè)的參考光。信號(hào)光與參考光經(jīng)耦合器耦合到光電探測(cè)器中,光電探測(cè)器將信號(hào)光與參考光混合時(shí)產(chǎn)生的混頻信號(hào)轉(zhuǎn)化為電信號(hào)后,經(jīng)過濾波器濾波、放大器放大,即可得到信號(hào)光與參考光的差頻信號(hào)。故相干探測(cè)又稱為光外差探測(cè)。

設(shè)信號(hào)光和參考光的光場(chǎng)分別為

fs(t)=Esexp(iωst) (2-1)

fL(t)=ELexp(iωLt) (2-2)

則入射到探測(cè)器上的總光場(chǎng)為

f(t)=fs(t)+fL(t)=Esexp(iωst)+ELexp(iωLt) (2-3)

由于光電探測(cè)器輸出的光電流與光場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)的平方成正比,則得到光電探測(cè)器的輸出光電流為

其中,是探測(cè)器的響應(yīng)度。由上式可知,探測(cè)器產(chǎn)生的電信號(hào)包含直流分量和交流分量2kEsELcos(ωsL)t,通過使用濾波器或交流耦合輸出的探測(cè)器,可以得到交流輸出為

i(t)=2EsELcos(ωsL)t (2-5)

實(shí)際上,經(jīng)光電探測(cè)器輸出的信號(hào)是由式(2-5)所表示的外差信號(hào)電流,它的頻率為兩束光的差頻,幅值則與兩束光的振幅成正比。

OFDR的原理如圖6所示,光源發(fā)出的掃頻光波經(jīng)線性掃描的連續(xù)光被耦合器分成兩路,其中一路光波被注入到傳感光纖,它在光纖中傳播時(shí)會(huì)不斷產(chǎn)生瑞利散射信號(hào),這些瑞利散射信號(hào)成為信號(hào)光并通過耦合器被耦合到光電探測(cè)器中。另一路光,經(jīng)過反射后作為參考光經(jīng)過耦合器同樣被耦合到光電探測(cè)器中。

若瑞利散射信號(hào)光與參考光滿足相干條件,它們就會(huì)在光電探測(cè)器上發(fā)生混頻。對(duì)于光纖中的探測(cè)光,其電場(chǎng)可以表示為

A(x)exp[iβ(t)x] (3-1)

振幅為

A(x)=α1/2A0 (3-2)

其中,

表示從光纖入射端到光纖沿線所有衰減系數(shù)的累積。對(duì)于一小段光纖dx,設(shè)其瑞利散射系數(shù)為σ(x),則此段光纖產(chǎn)生的瑞利散射的振幅為A(x)σ(x)dx。因此在光纖入射端的總?cè)鹄⑸鋸?qiáng)度為

其中,L為光纖的總長度。對(duì)于參考光,其表達(dá)式為

Er(0,t)=Arexp[-2iβ(t)xr] (3-5)

因此,光電探測(cè)器上得到的兩路光的混頻信號(hào)為

其中,為直流項(xiàng),并且由于Er>>E0,主要由Er(0,t)決定,與β(t)無關(guān);為交流項(xiàng),令g(β)=E0(β)/Er為歸一化的瑞利散射信號(hào),則可利用直接得到其實(shí)部。根據(jù)式(3-4)和(3-5),可得

其中,

G(x)=[σ(x)α(x)]exp[2iβ0(x-xr)] (3-8)

從式(3-7)可以看出,對(duì)于光纖中某個(gè)位置x,其在最終歸一化信號(hào)g(γt)中的比重為G(x)dx,且此比重以2γ|x-xr|的頻率隨時(shí)間波動(dòng)。如果取xr=0,則可將此波動(dòng)頻率與光纖中的位置x一一對(duì)應(yīng),即光纖中的x處對(duì)應(yīng)的頻率為

f(x)=2γx=2xκ/vg (3-9)

其中,vg為光波在光纖中的傳輸速度。

從上面的分析可以看出,通過求解g(γt)的頻譜,便可以從頻譜上各頻率點(diǎn)反推出光纖中的各個(gè)位置。并且由于G(x)dx與光纖沿線的衰減成正比,可從各個(gè)頻率點(diǎn)的功率得到光纖沿線各位置處的衰減情況。

OFDR的空間分辨率可表示為

Δx=LΔf/f (3-10)

其中,Δf為頻譜的頻率分辨率,f為散射信號(hào)與參考光對(duì)應(yīng)的最大頻率差

f=2κL/vg (3-11)

由于從時(shí)域到頻率變換時(shí),頻率分辨率Δf由信號(hào)的持續(xù)時(shí)間T決定,即

Δf=1/T (3-12)

因此,從式(3-10)和(3-12)可得空間分辨率為

Δx=vg/2Δv (3-13)

其中,Δv為光源的頻率掃描范圍。由上式可見,OFDR的空間分辨率由光源所能實(shí)現(xiàn)的最大頻率掃描范圍所決定。OFDR對(duì)光源頻率掃描的線性度有非常高的要求。

本發(fā)明所使用的光頻域反射計(jì)專用于通訊光纖及特種光纖的光鏈路回波損耗的幅度測(cè)試及位置定位。針對(duì)本發(fā)明,其重要功能是確定光纖光柵的位置,定位精度能夠達(dá)到+/-1mm。

本發(fā)明使用飛秒激光刻制光纖光柵的技術(shù),在保偏光纖環(huán)大約中心點(diǎn)附近位置刻制光纖光柵,然后將該保偏光纖繞制成保偏光纖環(huán),再依靠光纖通信領(lǐng)域中的光頻域反射技術(shù),通過精確檢測(cè)保偏光纖環(huán)中光纖光柵位置,精確定位保偏光纖環(huán)中心點(diǎn),用以后期截取保偏光纖環(huán)兩端尾纖保證保偏光纖尾端至保偏光纖環(huán)中心點(diǎn)的光程長度相同,其可在不增加保偏光纖使用長度的前提下,解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的不能實(shí)現(xiàn)保偏光纖環(huán)兩端與環(huán)體本身光程中心點(diǎn)等長的問題,而且進(jìn)度精度可以達(dá)到mm級(jí)別,從而在不增加成本的情況下,較之使用等長度保偏光纖而沒有采用本方法進(jìn)行制備的光纖陀螺,提高了光纖陀螺的精度。

以上所述,僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此,任何屬于本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到的變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。

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