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一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置的制作方法

文檔序號:12114740閱讀:377來源:國知局
一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置的制作方法

本發(fā)明涉及原子磁力儀制備技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置。



背景技術(shù):

在現(xiàn)有技術(shù)中,為了減小銫原子與吸收室器壁碰撞造成的能級改變,在吸收室內(nèi)壁鍍高分子材料,例如聚四氟乙烯。此類材料的分子量遠(yuǎn)大于銫原子,與銫原子的碰撞類似彈性碰撞,減小了銫原子通過碰撞改變能級的幾率。常用的銫吸收室規(guī)格為25mmx25mm,但是由于銫吸收室內(nèi)壁鍍層的方法工藝復(fù)雜,批量生產(chǎn)時很難保證鍍層厚度,鍍層質(zhì)量的一致性差。因此,急需一種能夠在吸收室同樣可以達到內(nèi)部鍍層效果的裝置,而且制造工藝簡單,實現(xiàn)批量生產(chǎn)。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置,解決現(xiàn)有技術(shù)中原子吸收室內(nèi)部鍍層工藝復(fù)雜,不能夠批量生產(chǎn)的技術(shù)問題。

為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了如下技術(shù)方案:

本發(fā)明提供了一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置,包括若干透光的云母片、若干非透光的聚四氟乙烯片和圓桿,所述云母片與所述聚四氟乙烯片均為環(huán)形,在所述云母片的內(nèi)圓向外側(cè)開有若干個第一矩形槽,所述第一矩形槽沿圓周對稱分布,所述聚四氟乙烯片的內(nèi)圓向外側(cè)開有若干個第二矩形槽,所述第二矩形槽沿圓周對稱分布,所述第一矩形槽與所述第二矩形槽數(shù)目相同,所述云母片與所述聚四氟乙烯片互相交替疊放,所述云母片與所述聚四氟乙烯片外側(cè)圓周開有若干個連接孔,相鄰的所述云母片與所述聚四氟乙烯片旋轉(zhuǎn)一定角度使所述第一矩形槽與所述第二矩形槽互不重疊,所述連接孔沿垂直方向形成通孔,所述圓桿穿過所述連接孔后將所述云母片與所述聚四氟乙烯片固定連接。

優(yōu)選的,所述第一矩形槽和所述第二矩形槽的數(shù)目均為8-12個,所述云母片和所述聚四氟乙烯片的內(nèi)圓開槽部分的弧長與內(nèi)圓未開槽部分的弧長相等;

優(yōu)選的,所述連接孔設(shè)置在所述第一矩形槽和所述第二矩形槽的外側(cè);

優(yōu)選的,所述云母片與所述聚四氟乙烯片的外圓直徑為原子吸收室的內(nèi)徑,所述云母片與所述聚四氟乙烯片的內(nèi)圓的直徑為外圓直徑的2/5~3/5;

優(yōu)選的,所述云母片與所述聚四氟乙烯片的外圓直徑為25mm,所述云母片與所述聚四氟乙烯片的內(nèi)圓的直徑為10~15mm;

優(yōu)選的,所述云母片與所述聚四氟乙烯片的厚度均為0.2mm,相鄰所述云母片與所述聚四氟乙烯片的間距為0.5mm.

本發(fā)明相對于現(xiàn)有技術(shù)而言取得了以下技術(shù)效果:

本發(fā)明通過云母片與聚四氟乙烯片交錯疊放,而且相鄰的云母片與聚四氟乙烯片的開槽位置也互相錯開,使得不透光的聚四氟乙烯片在開槽的位置能夠通過透光云母片將光線照射進來,但是氣體分子不能通過開槽位置擴散,達到了降低氣體分子擴散速度的目的。裝置結(jié)構(gòu)簡單,原材料獲取方便,加工時間短,便于批量生產(chǎn),而且在使用過程中更換方便。本發(fā)明巧妙的將鍍膜的結(jié)構(gòu)擴展具體化,通過材料混合使用,將不透光的材料和透光的材料做成片狀并交錯疊加,通過限制銫原子的擴散運動,減小銫原子與吸收室內(nèi)部碰撞的幾率,達到內(nèi)部鍍層的效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例提高原子磁力儀弛豫時間的裝置的整體示意圖;

圖2為本發(fā)明實施例聚四氟乙烯片的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3為本發(fā)明實施例云母片的結(jié)構(gòu)示意圖;

其中,1-聚四氟乙烯片、2-云母片、3-圓桿、4-第一矩形槽、5-第二矩形槽、6-連接孔。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。

本發(fā)明的目的是提供一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置,解決現(xiàn)有技術(shù)中原子吸收室內(nèi)部鍍層工藝復(fù)雜,不能夠批量生產(chǎn)的技術(shù)問題。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂,下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本發(fā)明作進一步詳細(xì)的說明。

如圖1所示,本發(fā)明提供一種提高原子磁力儀弛豫時間的裝置,包括若干透光的云母片2、若干非透光的聚四氟乙烯片1和圓桿3,所述云母片2與所述聚四氟乙烯片1均為環(huán)形,在所述云母片2的內(nèi)圓向外側(cè)開有若干個第一矩形槽4,所述第一矩形槽4沿圓周對稱分布,所述聚四氟乙烯片1的內(nèi)圓向外側(cè)開有若干個第二矩形槽5,所述第二矩形槽5沿圓周對稱分布,所述第一矩形槽4與所述第二矩形槽5數(shù)目相同,所述云母片2與所述聚四氟乙烯片1互相交替疊放,所述云母片2與所述聚四氟乙烯片1外側(cè)圓周開有若干個連接孔6,相鄰的所述云母片2與所述聚四氟乙烯片1旋轉(zhuǎn)一定角度使所述第一矩形槽4與所述第二矩形槽5互不重疊,所述連接孔6沿垂直方向形成通孔,所述圓桿3穿過所述連接孔6后將所述云母片2與所述聚四氟乙烯片1固定連接。

本發(fā)明的裝置是由高分子材料構(gòu)成的支架結(jié)構(gòu),原有技術(shù)中是在銫原子吸收室內(nèi)部鍍一層高分子材料,通常為聚四氟乙烯,此類材料的分子量遠(yuǎn)大于銫原子,與銫原子的碰撞類似彈性碰撞,減小了銫原子通過碰撞改變能級的幾率;而本發(fā)明的支架結(jié)構(gòu)同樣是放在銫原子吸收室內(nèi)部,但是是套接在內(nèi)部,通過將高分子材料制成片狀結(jié)構(gòu),進而疊放成中間具有通孔的立體支架結(jié)構(gòu),這種特殊結(jié)構(gòu),通過限制銫原子的擴散運動,減小銫原子與吸收室內(nèi)部碰撞的幾率,同樣可以達到內(nèi)部鍍層的效果,且工藝簡單,便于批量生產(chǎn)。

如圖2和3,所述第一矩形槽4和所述第二矩形槽5的數(shù)目均為8-12個,開槽的數(shù)目小于8個則達不到組織原子擴散的目的,所述云母片2和所述聚四氟乙烯片1的內(nèi)圓開槽部分的弧長與內(nèi)圓未開槽部分的弧長相等;所述連接孔6設(shè)置在所述第一矩形槽4和所述第二矩形槽5的外側(cè)。

云母片2與聚四氟乙烯片1的外圓直徑為原子吸收室的內(nèi)徑,云母片2與聚四氟乙烯片1的內(nèi)圓的直徑為外圓直徑的2/5~3/5。

比如,對于常用的25mmx25mm的銫吸收室,云母片2與聚四氟乙烯片1的外圓直徑為25mm,云母片2與聚四氟乙烯片1的內(nèi)圓的直徑為10~15mm;云母片2與聚四氟乙烯片1的厚度均為0.2mm,而且相鄰的云母片2與聚四氟乙烯片1的間距為0.5mm。

本發(fā)明提高原子磁力儀弛豫時間的裝置為支架結(jié)構(gòu),在組裝支架時,將云母片2與聚四氟乙烯片1交錯疊放在一起,而且相鄰的兩個薄片需要通過未開槽的部分掩蓋住開槽的位置,這樣一個透光材料相鄰一個不透光的材料,但是開槽的部位由于透光材料云母片2的原因,光依然可以照射進來,但是原子在徑向擴散的時候卻起到一定的抑制作用,但是如果云母片2不開槽,雖然聚四氟乙烯片1開槽部分能夠透光,但是這樣原子將無法擴散,因此,聚四氟乙烯片1與云母片2需要同時開槽,而且開槽的數(shù)目和形狀相同,這樣旋轉(zhuǎn)一定角度后未開槽部分與開槽部分才能夠互相遮蓋,疊放完成后,圓桿3穿過連接孔6將疊好的薄片連接起來,進而固定好成為支架。在使用過程中將支架放入原子吸收室,即可達到在原子吸收室鍍高分子材料的同等效果,更換更加容易,而且適用于批量生產(chǎn),大大解決了現(xiàn)有技術(shù)中鍍高分子材料存在的鍍層不均勻,質(zhì)量差的問題。

本發(fā)明中應(yīng)用了具體個例對本發(fā)明的原理及實施方式進行了闡述,以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想;同時,對于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員,依據(jù)本發(fā)明的思想,在具體實施方式及應(yīng)用范圍上均會有改變之處。綜上所述,本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制。

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