1.沉積顆粒的粒徑平均值測(cè)量方法,其特征在于，包括：
獲取多個(gè)沉積顆粒；
采用直接測(cè)量的方式測(cè)量每個(gè)沉積顆粒的粒徑；
若沉積顆粒的粒徑小于預(yù)設(shè)的限度值，則采用儀器測(cè)量的方式對(duì)該沉積顆粒的粒徑進(jìn)行測(cè)量，并得到直接測(cè)量值作為粒徑測(cè)量值；
若沉積顆粒的粒徑不小于預(yù)設(shè)的限度值，則將得到的直接測(cè)量值作為粒徑測(cè)量值；
根據(jù)每個(gè)沉積顆粒的所述粒徑測(cè)量值計(jì)算粒徑平均值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積顆粒的粒徑平均值測(cè)量方法,其特征在于，所述儀器包括：激光粒度儀和光學(xué)顯微鏡。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積顆粒的粒徑平均值測(cè)量方法,其特征在于，采用儀器測(cè)量的方式對(duì)該沉積顆粒的粒徑進(jìn)行測(cè)量包括：
粉碎帶有沉積顆粒的巖樣，使所述沉積顆粒的粒徑大小為0.5-1.5mm；
將粉碎后的巖樣置于濃度為10％-20％的H2O2溶液中，并水浴加熱預(yù)設(shè)的一段時(shí)間；
取出置于H2O2溶液中的巖樣，并將該巖樣置于濃度為5％-15％的鹽酸溶液中，直至巖樣無(wú)氣泡產(chǎn)生；
取出置于鹽酸溶液中的巖樣，并去除巖樣上的H2O2溶液和鹽酸溶液；
研磨所述巖樣，以得到獨(dú)立的沉積顆粒；
使用激光粒度儀測(cè)量沉積顆粒的粒徑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積顆粒的粒徑平均值測(cè)量方法,其特征在于，所述限度值為10mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉積顆粒的粒徑平均值測(cè)量方法,其特征在于，粉碎帶有沉積顆粒的巖樣，使所述沉積顆粒的粒徑大小為1mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉積顆粒的粒徑平均值測(cè)量方法,其特征在于，所述H2O2溶液濃度為15％。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉積顆粒的粒徑平均值測(cè)量方法,其特征在于，所述預(yù)設(shè)的一段時(shí)間為10分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉積顆粒的粒徑平均值測(cè)量方法,其特征在于，所述鹽酸溶液濃度為10％。