技術總結
本發(fā)明公開了一種目標RCS測量中基于最大概率門限與模型預測聯合處理的背景提取方法，利用低散射端帽等一類輔助測量體或者被測目標本身的原始RCS幅相測量數據，經數據域或時間域最大概率門限與模型預測聯合處理，可獲得“最大概率”ZDC估計，消除傳統(tǒng)方法中輔助測量體或目標散射信號殘余分量對ZDC估計值的不利影響。同時，由于對超過最大概率門限數據采用了模型預測處理，既避免了僅采用最大概率門限處理時可能造成的ZDC幅度與相位不連續(xù)問題，也較好地保留了隨方位慢變化的輔助測量體?支架間耦合散射分量，可保證在后續(xù)背景相減處理后具有更低的雜散旁瓣電平、更好地消除耦合散射分量，從而提高ZDC估計精度和后續(xù)背景抵消處理的有效性。

技術研發(fā)人員：許小劍
受保護的技術使用者：北京航空航天大學
文檔號碼：201610813955
技術研發(fā)日：2016.09.09
技術公布日：2017.02.22