用于光譜儀的拼接密封真空室的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于光譜儀的拼接密封真空室，包括真空室本體和上蓋，在真空室本體的四周側(cè)壁與上蓋相對的面中間設置有凹槽并在凹槽內(nèi)設置有密封條，在上蓋的四周側(cè)壁與真空室本體相對的面中間也設置有凹槽并在凹槽內(nèi)設置有密封條，真空室本體的四周側(cè)壁均為兩塊側(cè)板拼接而成，上蓋的四周側(cè)壁也分別為兩塊側(cè)板拼接而成。本實用新型提的用于光譜儀的拼接密封真空室，真空室本體的四周側(cè)壁和上蓋的四周側(cè)壁均為兩塊側(cè)板拼接而成，并在縫隙之間設置有密封條，這樣設計的真空室密封性好。
【專利說明】 用于光譜儀的拼接密封真空室
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及光譜儀【技術領域】，特別涉及一種用于光譜儀的拼接密封真空室。
【背景技術】
[0002]光譜儀的真空室需要密封保持真空，而且對溫度和濕度也有一定的要求，所以對整個真空室的側(cè)壁以及材料的要求都比較高?，F(xiàn)有的真空室一般采用型砂鑄造而成，會存在孔狀砂眼，需要檢測，而且密封效果都不太好，導致真空室內(nèi)的環(huán)境不是特別穩(wěn)定，從而影響了整個光學檢測的結(jié)果。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型需要解決的技術問題是現(xiàn)有的真空室的密封效果不好。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型提供了一種用于光譜儀的拼接密封真空室，包括真空室本體和上蓋，在真空室本體的四周側(cè)壁與上蓋相對的面中間設置有凹槽并在凹槽內(nèi)設置有密封條，在上蓋的四周側(cè)壁與真空室本體相對的面中間也設置有凹槽并在凹槽內(nèi)設置有密封條，真空室本體的四周側(cè)壁均為兩塊側(cè)板拼接而成，上蓋的四周側(cè)壁也分別為兩塊側(cè)板拼接而成。本實用新型提的用于光譜儀的拼接密封真空室，真空室本體的四周側(cè)壁和上蓋的四周側(cè)壁均為兩塊側(cè)板拼接而成，并在縫隙之間設置有密封條，這樣設計的真空室密封性好。
[0005]作為本實用新型的進一步改進，在真空室本體的四周側(cè)壁之間還設置有豎直槽并在豎直槽內(nèi)設置有豎直密封條，在上蓋的四周側(cè)壁之間也設置有豎直槽并在豎直槽內(nèi)設置有豎直密封條。增加豎直密封條進一步提高真空室的密封性。
[0006]作為本實用新型的優(yōu)選技術方案，所述密封條和豎直密封條均為氟膠條。氟膠條不僅硬度高，而且不易老化，不易變形，密封效果非常好，而且使用壽命長，不需要經(jīng)常更換。
[0007]本實用新型提的用于光譜儀的拼接密封真空室，側(cè)壁采用兩塊側(cè)板拼接而成，通過壓機壓緊，并在四個側(cè)壁的兩塊側(cè)板之間橫向縱向設置了密封條，整個真空室密結(jié)構設計合理，不僅封效果好，而且能保持真空室內(nèi)的溫度和濕度。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0008]圖1是本實用新型的結(jié)構示意圖；
[0009]圖2是圖1的A-A向剖視圖；
[0010]圖3是圖1的B-B向剖視圖；
[0011]其中，1-真空室本體，2-上蓋，3-凹槽，4-密封條，5-豎直槽，6-豎直密封條。
【具體實施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖詳細說明本實用新型的優(yōu)選技術方案。
[0013]如圖1、2、3所示，本實用新型的用于光譜儀的拼接密封真空室，包括真空室本體I和上蓋2，在真空室本體I的四周側(cè)壁與上蓋2相對的面中間設置有凹槽3并在凹槽3內(nèi)設置有密封條4，在上蓋2的四周側(cè)壁與真空室本體I相對的面中間也設置有凹槽3并在凹槽3內(nèi)設置有密封條4，真空室本體I的四周側(cè)壁均為兩塊側(cè)板拼接而成，上蓋2的四周側(cè)壁也分別為兩塊側(cè)板拼接而成，在真空室本體I的四周側(cè)壁之間還設置有豎直槽5并在豎直槽5內(nèi)設置有豎直密封條6，在上蓋2的四周側(cè)壁之間也設置有豎直槽5并在豎直槽5內(nèi)設置有豎直密封條6，并且所述密封條4和豎直密封條6均為氟膠條。
[0014]本實用新型提的用于光譜儀的拼接密封真空室，真空室本體的四周側(cè)壁和上蓋的四周側(cè)壁均為兩塊側(cè)板拼接而成，并在縫隙之間設置有密封條，這樣設計的真空室密封性好。
[0015]增加豎直密封條進一步提高真空室的密封性。
[0016]氟膠條不僅硬度高，而且不易老化，不易變形，密封效果非常好，而且使用壽命長，不需要經(jīng)常更換，所以使用氟膠條作為密封條和豎直密封條效果非常好。
[0017]本實用新型提的用于光譜儀的拼接密封真空室，側(cè)壁采用兩塊側(cè)板拼接而成，通過壓機壓緊，并在四個側(cè)壁的兩塊側(cè)板之間橫向縱向設置了密封條，整個真空室密結(jié)構設計合理，不僅封效果好，而且能保持真空室內(nèi)的溫度和濕度。
【權利要求】
1.一種用于光譜儀的拼接密封真空室，其特征在于:包括真空室本體(I)和上蓋(2)，在真空室本體(I)的四周側(cè)壁與上蓋(2)相對的面中間設置有凹槽(3)并在凹槽(3)內(nèi)設置有密封條(4)，在上蓋(2)的四周側(cè)壁與真空室本體(I)相對的面中間也設置有凹槽(3)并在凹槽(3)內(nèi)設置有密封條(4)，真空室本體(I)的四周側(cè)壁均為兩塊側(cè)板拼接而成，上蓋(2)的四周側(cè)壁也分別為兩塊側(cè)板拼接而成。
2.如權利要求1所述的用于光譜儀的拼接密封真空室，其特征在于:在真空室本體(I)的四周側(cè)壁之間還設置有豎直槽(5)并在豎直槽(5)內(nèi)設置有豎直密封條出)，在上蓋(2)的四周側(cè)壁之間也設置有豎直槽(5)并在豎直槽(5)內(nèi)設置有豎直密封條(6)。
3.如權利要求1或2所述的用于光譜儀的拼接密封真空室，其特征在于:所述密封條(4)和豎直密封條(6)均為氟膠條。
【文檔編號】G01J3/02GK204043790SQ201420408057
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年7月23日 優(yōu)先權日:2014年7月23日
【發(fā)明者】沈云峰, 沈永水, 茹偉民 申請人:郎溪杰博電器科技有限公司