專利名稱：一種高溫氣體光譜測(cè)量防干擾裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種高溫氣體光譜測(cè)量防干擾裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及高溫光譜式氣體傳感監(jiān)測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種高溫氣體光譜 測(cè)量防干擾裝置。
背景技術(shù)：
[0002]目前世界性的可利用能源緊缺，使得優(yōu)化燃燒效率成為當(dāng)前關(guān)注的熱點(diǎn)。燃燒排 放有害氣體的濃度是衡量燃燒效率的重要參數(shù)之一，這對(duì)燃燒過程中的高溫氣體檢測(cè)能力 提出更高的要求。光譜技術(shù)是氣體檢測(cè)中強(qiáng)有力的工具，以其靈敏度高、實(shí)時(shí)在線、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn) 單、非侵入等特點(diǎn)，使該技術(shù)在高溫氣體監(jiān)測(cè)中具有重大的潛在應(yīng)用價(jià)值。[0003]科學(xué)研究中常利用HITEMP高溫光譜數(shù)據(jù)庫模擬出高溫氣體的光譜信息，為該技 術(shù)的實(shí)際應(yīng)用提供理論基礎(chǔ)。然而高溫下模擬的光譜信息與實(shí)際的光譜信息存在偏差，因 而需要通過實(shí)驗(yàn)對(duì)高溫氣體進(jìn)行光譜信息標(biāo)定。同種氣體在不同溫度下其光譜信息不盡相 同，并且不同氣體的光譜存在重疊，特別是在高溫情況下，其光譜更為復(fù)雜，這將會(huì)對(duì)被測(cè) 氣體的光譜測(cè)量產(chǎn)生一定的干擾。因此，在實(shí)驗(yàn)標(biāo)定過程中被測(cè)氣體的有效光程、溫度穩(wěn)定 的精確度直接影響光譜信息標(biāo)定的準(zhǔn)確性。[0004]總結(jié)目前實(shí)驗(yàn)室所使用的高溫氣體光譜測(cè)量裝置主要存在以下問題[0005]1、高溫氣體光譜測(cè)量的有效光程所處溫度不均勻，測(cè)量誤差較大。目前高溫氣體 光譜測(cè)量裝置只是在激光發(fā)射端和接收端放置一高溫爐，簡(jiǎn)單的建立一個(gè)高溫氣體待測(cè)區(qū) 域，氣體從一端進(jìn)入后直接從另一端排出，其有效光程即為整個(gè)高溫爐的長(zhǎng)度；由于高溫爐 兩端的溫度比于中間位置低，整個(gè)爐內(nèi)溫度不均勻，使得待監(jiān)測(cè)溫度下的高溫氣體光譜信 息不能被準(zhǔn)確測(cè)量。[0006]2、測(cè)量完成后的高溫氣體未進(jìn)行冷卻處理。被測(cè)氣體經(jīng)過高溫爐后直接流向機(jī)械 泵，未進(jìn)行冷卻環(huán)節(jié)，不利于儀器設(shè)備的保護(hù)。[0007]實(shí)用新型內(nèi)容[0008]針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，本實(shí)用新型的目的在于提供一種可將被測(cè)氣體 的有效光程控制在溫度均勻的區(qū)域內(nèi)，并在測(cè)量完成后對(duì)該氣體進(jìn)行冷卻處理的高溫氣體 光譜測(cè)量防干擾裝置。[0009]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)[0010]一種高溫氣體光譜測(cè)量防干擾裝置，包括壓力表頭，楔形窗口，氣體流量計(jì)，待測(cè) 氣體進(jìn)氣口，剛玉管，三區(qū)高溫爐，法蘭，排氣口，干燥劑，止回閥，氣體冷卻裝置，機(jī)械泵，氮 氣保護(hù)區(qū)，三通，氮?dú)饬髁坑?jì)，氮?dú)馊肟?；所述三區(qū)高溫爐內(nèi)部放置一剛玉管，剛玉管兩端裝 有法蘭，所述法蘭分別留有待測(cè)氣體進(jìn)氣口和排氣口，所述排氣口與氣體冷卻裝置和機(jī)械 泵相連接；待測(cè)氣體進(jìn)氣口前端裝有氣體流量計(jì)對(duì)充入的待測(cè)氣體進(jìn)行流量控制；進(jìn)氣端 法蘭裝有壓力表頭，對(duì)所述三區(qū)高溫爐內(nèi)壓強(qiáng)進(jìn)行顯示。[0011]進(jìn)一步的，待測(cè)氣體在所述機(jī)械泵的驅(qū)動(dòng)下經(jīng)過排氣口和氣體冷卻裝置后排出。 所述氣體冷卻裝置對(duì)待測(cè)氣體進(jìn)行冷卻，保護(hù)機(jī)械泵不會(huì)受到高溫?fù)p傷；所述排氣口與所述氣體冷卻裝置之間裝有干燥劑和止回閥，防止水汽和冷卻后的氣體進(jìn)入三區(qū)高溫爐內(nèi)；[0012]進(jìn)一步的，所述法蘭中心均留有氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)，兩端氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)的氮?dú)馔ǖ劳ㄟ^三 通與氮?dú)饬髁坑?jì)和氮?dú)馊肟谙噙B接。氮?dú)庥傻獨(dú)馊肟谶M(jìn)入并在氮?dú)饬髁坑?jì)的控制下經(jīng)過三 通分別充入所述三區(qū)高溫爐兩端的氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)；[0013]進(jìn)一步的，所述兩端法蘭中心均裝有楔形窗口，可有效防止干涉條紋的產(chǎn)生。激光 由所述楔形窗口入射，由于待測(cè)區(qū)域兩端有氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)進(jìn)行保護(hù)，從而將被測(cè)氣體的有效 光程控制在了三區(qū)高溫爐內(nèi)溫度比較穩(wěn)定的中間位置。[0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是由于三區(qū)高溫爐的兩端均有氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)， 使得被測(cè)氣體的有效光程控制在所需的溫度下，提高了溫度穩(wěn)定的精確度；排氣口后接的 氣體冷卻裝置，保護(hù)了機(jī)械泵不受到高溫?fù)p傷。


[0015]圖1是本實(shí)用新型一種高溫氣體光譜測(cè)量防干擾裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
[0016]參閱圖1為本實(shí)用新型一種高溫氣體光譜測(cè)量防干擾裝置的實(shí)施例，一種高溫氣 體光譜測(cè)量防干擾裝置，包括壓力表頭I，楔形窗口 2，氣體流量計(jì)3，待測(cè)氣體進(jìn)氣口 4，剛 玉管5，三區(qū)高溫爐6，法蘭7，排氣口 8，干燥劑9，止回閥10，氣體冷卻裝置11，機(jī)械泵12， 氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)13，三通14，氮?dú)饬髁坑?jì)15，氮?dú)馊肟?16。[0017]三區(qū)高溫爐6內(nèi)部放置一剛玉管5，作為光譜測(cè)量過程中的測(cè)量區(qū)域，剛玉管5兩 端安裝有分別帶待測(cè)氣體進(jìn)氣口 4、排氣口 8和氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)13的法蘭7，待測(cè)氣體在機(jī)械泵 12的驅(qū)動(dòng)下由待測(cè)氣體進(jìn)氣口 4進(jìn)入，通過氣體流量計(jì)3的流量控制，進(jìn)入剛玉管5內(nèi)，排 氣口 8后端接有管路，管路中有干燥劑9和止回閥10對(duì)排除氣體進(jìn)行干燥處理并防止排 出氣體回流至剛玉管中，被測(cè)氣體再經(jīng)過氣體冷卻裝置11對(duì)其進(jìn)行冷卻處理后排出，在此 過程中壓力表頭I對(duì)剛玉管5內(nèi)的壓強(qiáng)進(jìn)行顯示；氮?dú)庥傻獨(dú)馊肟?16進(jìn)入，在氮?dú)饬髁坑?jì) 15的流量控制下，經(jīng)過三通14的分流分別充入到剛玉管5兩端的氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)13內(nèi)；激光 從法蘭7中心安裝的楔形窗口 2入射，有效防止光譜測(cè)量過程中干涉條紋的產(chǎn)生，并且將被 測(cè)氣體的有效光程控制在了三區(qū)高溫爐內(nèi)溫度比較穩(wěn)定的中間位置。[0018]以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例，但本實(shí)用新型的技術(shù)特征并不局限于 此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型的領(lǐng)域內(nèi)，所作的變化或修飾皆涵蓋在本實(shí)用新 型的專利范圍之中。
權(quán)利要求1.一種高溫氣體光譜測(cè)量防干擾裝置，包括壓力表頭，楔形窗口，氣體流量計(jì)，待測(cè)氣體進(jìn)氣口，剛玉管，三區(qū)高溫爐，法蘭，排氣口，干燥劑，止回閥，氣體冷卻裝置，機(jī)械泵，氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)，三通，氮?dú)饬髁坑?jì)，氮?dú)馊肟?；所述三區(qū)高溫爐內(nèi)部放置一剛玉管，剛玉管兩端裝有法蘭，所述法蘭分別留有待測(cè)氣體進(jìn)氣口和排氣口，所述排氣口與氣體冷卻裝置和機(jī)械泵相連接；待測(cè)氣體進(jìn)氣口前端裝有氣體流量計(jì)對(duì)充入的待測(cè)氣體進(jìn)行流量控制；進(jìn)氣端法蘭裝有壓力表頭，對(duì)所述三區(qū)高溫爐內(nèi)壓強(qiáng)進(jìn)行顯示。
專利摘要本實(shí)用新型涉及高溫光譜式氣體傳感監(jiān)測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種高溫氣體光譜測(cè)量防干擾裝置。包括楔形窗口、剛玉管、三區(qū)高溫爐、法蘭、氣體冷卻裝置、氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)。三區(qū)高溫爐內(nèi)部放置一剛玉管，剛玉管兩端裝有法蘭，待測(cè)氣體在所述機(jī)械泵的驅(qū)動(dòng)下經(jīng)過排氣口和氣體冷卻裝置后排出，所述法蘭中心均留有氮?dú)獗Ｗo(hù)區(qū)，所述兩端法蘭中心均裝有楔形窗口。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是待測(cè)氣體的有效光程控制在所需溫度區(qū)域且不受其他氣體干擾，冷卻裝置對(duì)測(cè)量完成后的氣體進(jìn)行冷卻處理，保護(hù)了機(jī)械泵不受到高溫?fù)p傷。
文檔編號(hào)G01N21/01GK202869954SQ201220471368
公開日2013年4月10日 申請(qǐng)日期2012年9月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月9日
發(fā)明者駱淑君, 韓影, 鄭倩瑛, 韓葉星, 邵杰 申請(qǐng)人:浙江師范大學(xué)