專利名稱：一種曝光母版彎曲度的測量裝置及其測量方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及彩色顯示屏制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種在等離子顯示屏制作時所用到的曝光母版的彎曲度的檢測裝置及其檢測方法。
背景技術(shù)：
等離子顯示屏的下基板分為顯示區(qū)和非顯示區(qū)，顯示區(qū)由障壁和其間隔內(nèi)的熒光粉組成，障壁結(jié)構(gòu)是通過障壁漿料上貼附的障壁干膜制作出來的，在干燥的障壁漿料上貼附障壁干膜，再利用等離子顯示屏障壁的曝光母版對干膜進行曝光，曝光后的干膜在顯影后形成障壁掩膜，然后對覆蓋有障壁掩膜的障壁漿料進行噴砂處理，有干膜的障壁漿料被保留下來，其余的障壁漿料被噴掉，然后經(jīng)過燒結(jié)形成障壁。由于障壁是由未顯影的干膜覆蓋的障壁漿料形成的，因此障壁的形狀與曝光母版的形狀具有密切的關(guān)系。隨著等離子面板制作的大型化、產(chǎn)量化，在障壁圖形的制作中對圖形線寬的均勻性要求越來越高，而曝光母版的彎曲程度是障壁圖形制作過程中影響圖形均勻性的關(guān)鍵因素之一，所謂彎曲程度簡稱彎曲度，是指曝光母版上的點與參考點在垂直于曝光母版平面方向上的距離，而曝光母版在制作和使用過程中，因放置不當、溫度等多方面影響，母版的彎曲度會有一定的變化。因此如何能夠?qū)ζ毓饽赴娴膹澢冗M行準確的監(jiān)控，以加強對等離子面板生產(chǎn)過程中的品質(zhì)監(jiān)控，是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一是提供一種曝光母版彎曲度的測量方法，以實現(xiàn)對曝光母版的彎曲度進行準確的監(jiān)控，本發(fā)明的另一目的還在于提供一種運用上述測量方法對曝光母版的彎曲度進行測量的曝光母版彎曲度的測量裝置。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種曝光母版彎曲度的測量方法，該測量方法包括步驟I)確定待檢測曝光母版上的檢測點；2)在待測的曝光母版的邊緣選取參考點A，并由發(fā)光裝置向已經(jīng)固定的待檢測的曝光母版的參考點A發(fā)射一束激光線作為入射光線，通過接收裝置接收參考點A處的反射光線，且所述入射光線與所述反射光線的夾角0° < a <180°，記錄反射光線在接收裝置上的接收位置為參考位置；3)保持所述發(fā)光裝置和接收裝置的相對位置并在平行于所述待檢測曝光母版的平面M內(nèi)同時移動所述發(fā)光裝置和接收裝置，使所述發(fā)光裝置分別向各個檢測點發(fā)射入射光線，并將反射光線在所述接收裝置上的接收位置與參考位置距離最大的檢測點確定為最終檢測點B ；4)在平面M內(nèi)同時移動所述發(fā)光裝置和接收裝置并使入射光線照射到最終檢測點B上，然后沿垂直于平面M的坐標軸同時移動所述發(fā)光裝置和接收裝置，當所述最終檢測點B的發(fā)射光線在所述接收裝置上的接收位置與所述參考位置重合時，記錄所述發(fā)光裝置和接收裝置在垂直于平面M的坐標軸上的移動距離L。優(yōu)選的，所述步驟I)中確定待檢測曝光母版上的檢測點的具體步驟為垂直于所述待檢測的曝光母版的長邊和寬邊分別均勻繪制多條直線，取這些直線的交點為檢測點。一種曝光母版彎曲度的測量裝置，用于等離子顯示器制作過程中對曝光母版彎曲度的檢測，該測量裝置包括曝光母版固定裝置；激光計測裝置，所述激光計測裝置上設(shè)置有用于向待檢測的曝光母版提供入射光線的激光發(fā)射器和用于接收由所述待檢測的曝光母版反射回來的反射光線的激光接收器，所述激光接收器可感知反射光線的位置變化，所述入射光線與所述反射光線的夾角0°
<a < 180。；移動裝置，所述激光計測裝置設(shè)置于所述移動裝置上，且所述移動裝置可使所述激光計測裝置沿空間直角坐標系的X軸、Y軸和Z軸移動，且所述空間直角坐標系的X軸、Y軸或者Z軸與曝光母版垂直。優(yōu)選的，還包括與所述激光接收器相連的顯示器，所述顯示器可將所述激光接收器不同位置所收到的反射光線以波峰的形式顯示在顯示器的不同位置。優(yōu)選的，所述曝光母版固定裝置為氣體吸附式固定裝置。本發(fā)明所提供的曝光母版彎曲度的測量方法中，采用激光光線對已經(jīng)固定的曝光母版的板面進行彎曲度的測量，雖然彎曲的曝光母版的表面為曲面，但是相對于曝光母版的板面面積來講，入射激光線的照射面積即可認為是曝光母版上的一個點，因此可以認為入射光線照射到每個檢測點時都是照射到了一個細分的平整面上的一個點，即發(fā)光裝置在平面M內(nèi)移動時入射光線的法線不會改變，如果檢測點相對于參考點具有彎曲度，即可認為該檢測點所在的小平面相對于參考點所在的小平面向靠近或者遠離發(fā)光裝置方向進行了平移。由于入射光線與反射光線的夾角a的范圍為0-180°，因此如果檢測點相對于參考點具有彎曲度，那么接收裝置所接收到的反射光線的接收位置相對于參考位置將會產(chǎn)生變化，當找到最終檢測點后，向垂直于平面M的方向同時移動發(fā)光裝置和接收裝置并保持兩者的相對位置不變，當發(fā)光裝置與最終檢測點B之間的距離與發(fā)光裝置與參考點A最初的距離相等時，最終檢測點B的反射光線在接收裝置上的接收位置與參考位置重合，發(fā)光裝置和接收裝置在垂直于平面M的坐標軸上的移動距離L即為該曝光母版的彎曲度。由此可見本發(fā)明所提供的曝光母版彎曲度的測量方法能夠?qū)ζ毓饽赴娴膹澢冗M行準確的監(jiān)控，從而加強了對等離子面板生產(chǎn)過程中的品質(zhì)監(jiān)控。本發(fā)明所提供的曝光母版彎曲度的測量裝置，由于激光計測裝置上設(shè)置了激光發(fā)射器和激光接收器，并且激光接收器可感知反射光線的位置變化，同時入射光線與反射光線的夾角0° < a <180°，從而實現(xiàn)了發(fā)光裝置與接收裝置之間的相對位置的固定，同時可以實現(xiàn)對曝光母版的板面進行激光發(fā)射接收，并對反射光線的位置進行記錄，曝光母版固定裝置可將待檢測的曝光母版固定在特定位置，將激光計測裝置設(shè)置于能夠沿空間直角坐標系的坐標軸進行移動的移動裝置上實現(xiàn)了發(fā)光裝置和接收裝置同時在平行于待檢測的曝光母版的平面M內(nèi)和垂直于平面M的方向上移動。由此可見，本發(fā)明所提供的曝光母版彎曲度的測量裝置可對曝光母版的彎曲度進行準確的監(jiān)控，以確保等離子面板的生產(chǎn)質(zhì)量。


圖I為本發(fā)明實施例所提供的曝光母版彎曲度的測量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明實施例所提供的曝光母版放置于曝光母版固定裝置上的正視圖；圖3為本發(fā)明實施例所提供的曝光母版彎曲度的測量裝置的顯示器的顯示示意圖；圖4為本發(fā)明實施例所提供的曝光母版彎曲度的測量方法的測量原理圖。
具體實施例方式本發(fā)明的核心目的之一是提供一種曝光母版彎曲度的測量方法，該方法通過對固定好的曝光母版的表面進行激光照射并對由曝光母版反射回來的反射光線進行接收，根據(jù)反射光線在接收裝置上的接收位置的變化來測量曝光母版的彎曲度。本發(fā)明的另一目的還在于提供一種運用上述測量方法測量曝光母版的彎曲度的測量裝置。為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本發(fā)明方案，下面結(jié)合附圖和具體實施方式
對本發(fā)明作進一步的詳細說明。請參考圖4，圖4為本發(fā)明實施例所提供的曝光母版彎曲度的測量方法的測量原理圖。本發(fā)明所提供的曝光母版彎曲度的測量方法，包括以下步驟SI :確定待檢測曝光母版3上的檢測點，在待檢測曝光母版3上選取若干個需要進行檢測的檢測點；S2 :在待檢測的曝光母版3的邊緣部位選取參考點A，并由發(fā)光裝置向已經(jīng)固定好的待檢測曝光母版3的參考點A處發(fā)射一束激光線作為入射光線，入射光線照射到待檢測的曝光母版3上將會產(chǎn)生反射光線，由于待檢測的曝光母版3具有一定的厚度，因此其上表面和下表面將會分別對入射光線進行反射，從而出現(xiàn)兩束反射光線，這兩數(shù)反射光線與入射光線的夾角a均為0-180°，以避免入射光線和反射光線照射在接收裝置的同一位置，記錄這兩束反射光線在接收裝置上的接收位置，并將這兩束光線的接收位置作為參考位置，由于對于板狀結(jié)構(gòu)來說，如果發(fā)生彎曲一般是中部位置發(fā)生整體彎曲，邊緣部位一般不會彎曲，因此在選取參考點時，盡量使參考點選擇在待檢測的曝光母版3的邊緣部位；S3 :保持發(fā)光裝置和接收裝置的相對位置并且在平行于待檢測曝光母版3的平面M內(nèi)同時移動發(fā)光裝置和接收裝置，使發(fā)光裝置分別向已經(jīng)確定的各個參考點上發(fā)射入射光線，并記錄反射光線在接收裝置上的接收位置與參考位置距離最大的檢測點，將該檢測點確定為最終檢測點B，由于該檢測點的反射光線接的收位置與參考位置距離最大，則可確定該點為相對于參考點位置最高或者最低的一點；S4 :在平面M內(nèi)同時移動發(fā)光裝置和接收裝置并使入射光線照射到最終檢測點B上，然后沿垂直于平面M的坐標軸同時向靠近或者遠離待檢測的曝光母版3的方向移動發(fā)光裝置和接收裝置，當最終檢測點B的反射光線在接收裝置上的接收位置與參考位置重合時，記錄發(fā)光裝置和接收裝置在垂直于平面M的坐標軸上的移動距離L，此移動距離L即為曝光母版的彎曲度。下面結(jié)合圖4對本發(fā)明所提供的測量方法的測量原理進行闡述以下闡述中以待檢測的曝光母版3的上表面的反射光線為例對測量原理進行說明，本發(fā)明所提供的曝光母版彎曲度的測量方法中，采用激光光線對已經(jīng)固定的待檢測的曝光母版3的板面進行彎曲度的測量，雖然彎曲的曝光母版的表面為曲面，但是相對于待檢測的曝光母版3的板面面積來講，發(fā)光裝置發(fā)出的入射激光線的照射面積即可認為是待檢測的曝光母版3上的一個點，因此可以認為入射光線照射到每個檢測點時都是照射到了一個細分的平整面上的一個點，即發(fā)光裝置在平面M內(nèi)移動時入射光線的法線不會改變，如果檢測點相對于參考點A具有彎曲度，即可認為該檢測點所在的小平面相對于參考點所在的小平面向靠近或者遠離發(fā)光裝置方向進行了平移。如圖4中所示，外側(cè)的箭頭方向代表發(fā)光裝置和接收裝置的移動方向。由于入射光線與反射光線的夾角a的范圍為0-180°，因此如果檢測點相對于參考點A具有彎曲度，那么接收裝置6所接收到的反射光線的接收位置相對于參考位置將會 產(chǎn)生變化，當找到最終檢測點B后，向垂直于平面M的方向同時移動發(fā)光裝置和接收裝置并保持兩者的相對位置不變，當發(fā)光裝置與最終檢測點B之間的距離與發(fā)光裝置與參考點A最初的距離相等時，最終檢測點B的反射光線在接收裝置上的接收位置與參考位置重合，發(fā)光裝置和接收裝置在垂直于平面M的坐標軸上的移動距離L即為該曝光母版的彎曲度。由此可見本發(fā)明所提供的曝光母版彎曲度的測量方法能夠?qū)ζ毓饽赴娴膹澢冗M行準確的監(jiān)控，從而加強了對等離子面板生產(chǎn)過程中的品質(zhì)監(jiān)控。本發(fā)明同時還公開了一種采用上述測量方法對曝光母版的彎曲度進行測量的曝光母版彎曲度的測量裝置，請參考圖I至圖2，圖I為本發(fā)明實施例所提供的曝光母版彎曲度的測量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為本發(fā)明實施例所提供的曝光母版放置于曝光母版固定裝置上的正視圖。曝光母版彎曲度的測量裝置包括曝光母版固定裝置2 ；激光計測裝置4，激光計測裝置4上設(shè)置有用于向待檢測的曝光母版3提供入射光線的激光發(fā)射器5和用于接收由待檢測的曝光母版3反射回來的反射光線的激光接收器6，激光接收器6可感知反射光線的位置變化，且入射光線與反射光線的夾角0° < a
<180。；移動裝置，激光計測裝置4設(shè)置于移動裝置上，且移動裝置可使激光計測裝置4沿空間直角坐標系的X軸、Y軸和Z軸移動，且該空間直角坐標系的X軸、Y軸或者Z軸與待檢測的曝光母版3垂直。本發(fā)明所提供的曝光母版彎曲度的測量裝置，由于激光計測裝置4上設(shè)置了激光發(fā)射器5和激光接收器6，并且激光接收器6可感知反射光線的位置變化，同時入射光線與反射光線的夾角0° < a <180°，從而實現(xiàn)了發(fā)光裝置與接收裝置之間的相對位置的固定，同時可以實現(xiàn)對待檢測的曝光母版3的板面進行激光發(fā)射和接收，并對反射光線的位置進行記錄，曝光母版固定裝置2可將待檢測的曝光母版3固定在特定位置，將激光計測裝置4設(shè)置于能夠沿空間直角坐標系的坐標軸進行移動的移動裝置上實現(xiàn)了發(fā)光裝置和接收裝置在平行于待檢測的曝光母版3的平面M內(nèi)和垂直于平面M的方向上移動。由此可知本發(fā)明所公開的曝光母版彎曲度的測量裝置可通過激光發(fā)射器5向待檢測曝光母版3發(fā)射入射光線，并由激光接收器6對待檢測曝光母版3的反射光線進行接收，激光接收器6記錄接收到的反射光線的接收位置，從而可以記錄參考點A的反射光線的參考位置，同時移動裝置可帶動激光發(fā)射器5在平行于待檢測曝光母版3的平面M內(nèi)移動，同時可以實現(xiàn)向垂直于平面M的方向的移動，從而可以在確定最終檢測點B之后測量得出曝光母版的彎曲度L。為了進一步優(yōu)化方案，使測量的精度更高，本實施例中還設(shè)置了與激光接收器6相連的顯示器，該顯示器可將激光接收器6不同位置所收到的反射光線以波峰的形式顯示在顯示器的不同位置，請參考圖3，其中I為以波峰的形式顯示的反射光的接收位置，即顯示器將激光接收器6的接收面以坐標平面的形式顯示，兩個波峰的位置分別代表待檢測的曝光母版3的上、下表面的兩束反射光線在激光接收器6上的接收位置，當反射光線的接收 位置在激光接收器6的接收面上發(fā)生變化時，這兩個波峰就會沿坐標軸左右移動。由此，將參考點A的反射光線的接收位置以波峰的形式顯示在顯示器上，最終檢測點B的反射光線在激光接收器上的接收位置若有變化，將不會與參考點A的波峰位置重合，此時通過移動裝置帶動激光計測裝置在垂直于平面M的方向移動，即可直觀的觀察到最終檢測點B的波峰位置與參考點A的波峰位置重合，此時即可使移動裝置停止移動，并進行測量。上述實施例中的曝光母版固定裝置2可以采用機械固定的方式將曝光母版進行固定，本實施例中為了進行自動化生產(chǎn)，將曝光母版固定裝置2設(shè)置為氣體吸附式固定裝置，即在曝光母版固定裝置2上設(shè)置有吸氣孔將整塊曝光母版吸附于曝光母版固定裝置2上，當完成彎曲度的檢測之后，即可停止吸氣，曝光母版可在生產(chǎn)線上繼續(xù)自動傳輸。以上對本發(fā)明所提供的曝光母版彎曲度的測量裝置及其測量方法進行了詳細介紹。本文中應(yīng)用了具體個例對本發(fā)明的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想。應(yīng)當指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對本發(fā)明進行若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種曝光母版彎曲度的測量方法，其特征在于，包括步驟 1)確定待檢測的曝光母版(3)上的檢測點； 2)在待測的曝光母版(3)的邊緣選取參考點A，并由發(fā)光裝置向已經(jīng)固定的待檢測的曝光母版(3)的參考點A發(fā)射一束激光線作為入射光線，通過接收裝置接收參考點A處的反射光線，且所述入射光線與所述反射光線的夾角0° < a <180°，記錄反射光線在接收裝置上的接收位置為參考位置； 3)保持所述發(fā)光裝置和接收裝置的相對位置并在平行于所述待檢測曝光母版(3)的平面M內(nèi)同時移動所述發(fā)光裝置和接收裝置，使所述發(fā)光裝置分別向各個檢測點發(fā)射入射光線，并將反射光線在所述接收裝置上的接收位置與參考位置距離最大的檢測點確定為最終檢測點B ； 4)在平面M內(nèi)同時移動所述發(fā)光裝置和接收裝置并使入射光線照射到最終檢測點B上，然后沿垂直于平面M的坐標軸同時移動所述發(fā)光裝置和接收裝置，當所述最終檢測點B的反射光線在所述接收裝置上的接收位置與所述參考位置重合時，記錄所述發(fā)光裝置和接收裝置在垂直于平面M的坐標軸上的移動距離L。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的曝光母版彎曲度的測量方法，其特征在于，所述步驟I)中確定待檢測曝光母版(3)上的檢測點的具體步驟為 垂直于所述待檢測的曝光母版(3)的長邊和寬邊分別均勻繪制多條直線，取這些直線的交點為檢測點。
3.—種曝光母版彎曲度的測量裝置，用于等離子顯示器制作過程中對曝光母版彎曲度的檢測，其特征在于，包括 曝光母版固定裝置(2); 激光計測裝置(4)，所述激光計測裝置(4)上設(shè)置有用于向待檢測的曝光母版(3)提供入射光線的激光發(fā)射器(5)和用于接收由所述待檢測的曝光母版(3)反射回來的反射光線的激光接收器(6)，所述激光接收器(6)可感知反射光線的位置變化，所述入射光線與所述反射光線的夾角0° < a < 180° ； 移動裝置，所述激光計測裝置(4)設(shè)置于所述移動裝置上，且所述移動裝置可使所述激光計測裝置(4)沿空間直角坐標系的X軸、Y軸和Z軸移動，且所述空間直角坐標系的X軸、Y軸或者Z軸與所述待檢測的曝光母版(3)垂直。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光母版彎曲度的測量裝置，其特征在于，還包括與所述激光接收器(6)相連的顯示器，所述顯示器可將所述激光接收器(6)不同位置所收到的反射光線以波峰的形式顯示在顯示器的不同位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光母版彎曲度的測量裝置，其特征在于，所述曝光母版固定裝置(2)為氣體吸附式固定裝置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種曝光母版彎曲度的測量方法，包括步驟1)確定曝光母版上的檢測點；2)選取參考點A，并由發(fā)光裝置向A發(fā)射入射光線，由接收裝置接收反射光線，記錄反射光線的接收位置為參考位置；3)在平行于曝光母版的平面M內(nèi)移動發(fā)光裝置和接收裝置，將反射光線的接收位置與參考位置距離最大的檢測點作為最終檢測點B；4)在平面M內(nèi)移動發(fā)光裝置和接收裝置到B上，沿垂直于平面M的坐標軸移動發(fā)光裝置和接收裝置，使B的反射光的接收位置與參考位置重合，記錄發(fā)光裝置和接收裝置在垂直于平面M的坐標軸上的移動距離L。該方法能夠?qū)ζ毓饽赴娴膹澢冗M行準確的監(jiān)控。本發(fā)明還公開了一種采用上述測量方法的曝光母版彎曲度的測量裝置。
文檔編號G01B11/24GK102818537SQ20121031247
公開日2012年12月12日 申請日期2012年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月29日
發(fā)明者賈雙杰 申請人:安徽鑫昊等離子顯示器件有限公司