專利名稱：一種用于原子吸收的平臺石墨管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于原子吸收的平臺石墨管。
背景技術(shù)：
目前，在原子吸收分光光度計(jì)中，大多在電加熱石墨爐所使用的石墨管 主體內(nèi)部，安裝了承載樣品的平臺，其目的在于抗物理化學(xué)機(jī)體干擾以及實(shí) 現(xiàn)恒溫原子化。原有的平臺安裝在石墨管主體的透光孔中的方式是把平臺 鑲?cè)胧苤黧w透光孔的燕尾槽中，兩邊用圓環(huán)擋住，使平臺固定。而這種 安裝平臺的方式，在石墨管經(jīng)受高溫時，造成燕尾槽銳邊處出現(xiàn)裂痕的現(xiàn)象， 使石墨管生產(chǎn)合格率和壽命降低。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種用于原子吸收的平臺石墨管，摒棄了原有 的燕尾槽鑲平臺的方式，有效的克服了燕尾槽銳邊處出現(xiàn)裂痕的現(xiàn)象，并且 較以前更能體現(xiàn)輻射加熱的平臺石墨管技術(shù)，提高了生產(chǎn)合格率，并且使石 墨管的加工工藝更加簡單。
為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型所提供的技術(shù)方案是 一種用于原子 吸收的平臺石墨管，包括有石墨管主體、平臺和兩個圓環(huán)，所述石墨管主體 設(shè)有透光孔，所述平臺沿透光孔軸向固設(shè)在透光孔中，其兩端設(shè)為臺階狀； 所述兩個圓環(huán)分別固設(shè)在透光孔中，且卡設(shè)在平臺的臺階上。
所述圓環(huán)低端設(shè)為與臺階吻合的平面。
所述平臺的底部設(shè)為倒角或倒圓。
所述平臺沿透光孔徑向固設(shè)在透光孔中。
本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)在平臺的兩端加工出一定深度和長度的臺階， 為了使平臺更好放置在石墨管主體透光孔的圓孔上，將平臺根部與圓孔的接 觸處倒出合適的倒角或倒圓。把平臺放置在石墨管主體的透光孔后，將兩個 銑扁成了壓緊面的圓環(huán)緊配合鑲在透光孔的兩端。此時圓環(huán)的底端壓緊面和
3側(cè)面與平臺的臺階兩個面重合，由于屬于緊配合，從而圓環(huán)和石墨管主體一
起限制了平臺的各個方向的自由度，很好的安裝了平臺。


以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
圖l為本實(shí)用新型的剖視圖2為平臺的示意圖3為圓環(huán)的示意圖4為平臺的一實(shí)施例的橫截面示意圖5為平臺的另一實(shí)施例的橫截面示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示的一種用于原子吸收的平臺石墨管，包括有石墨管主體1、平
臺3和兩個圓環(huán)2，石墨管主體1設(shè)有通透的透光孔4，平臺3沿透光孔4軸 向固設(shè)在透光孔4中，其兩端設(shè)為臺階狀5;兩個圓環(huán)2分別固設(shè)在透光孔4 中，且卡設(shè)在平臺3的臺階5上。
為更好地限制平臺3運(yùn)動，可將圓環(huán)2低端設(shè)為與臺階5吻合的平面6， 這樣圓環(huán)2與平臺3屬于緊配合，從而圓環(huán)2和石墨管主體1 一起限制了平 臺3的各個方向的自由度，很好的安裝了平臺3。
為了使平臺3更好放置在石墨管主體1透光孔4的圓孔上，將平臺3根 部與圓孔的接觸處倒出合適的倒角7或倒圓8。
由于只涉及將平臺3沿透光孔4軸向固設(shè)在透光孔4中，這樣，該平臺 石墨管就既包括橫向平臺石墨管，也包括縱向平臺石墨管。
以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非對本實(shí)用新型作任何形 式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定 本實(shí)用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范 圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效 實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù) 實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用 新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種用于原子吸收的平臺石墨管，其特征在于包括有石墨管主體、平臺和兩個圓環(huán)，所述石墨管主體設(shè)有透光孔，所述平臺沿透光孔軸向固設(shè)在透光孔中，其兩端設(shè)為臺階狀；所述兩個圓環(huán)分別固設(shè)在透光孔中，且卡設(shè)在平臺的臺階上。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于原子吸收的平臺石墨管，其特征在于所 述圓環(huán)低端設(shè)為與臺階吻合的平面。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于原子吸收的平臺石墨管，其特征在于所 述平臺的底部設(shè)為倒角或倒圓。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于原子吸收的平臺石墨管，其特征在于所 述平臺沿透光孔軸向固設(shè)在透光孔中。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于原子吸收的平臺石墨管，包括有石墨管主體、平臺和兩個圓環(huán)，所述石墨管主體設(shè)有透光孔，所述平臺沿透光孔軸向固設(shè)在透光孔中，其兩端設(shè)為臺階狀；所述兩個圓環(huán)分別固設(shè)在透光孔中，且卡設(shè)在平臺的臺階上。本實(shí)用新型改變了鑲平臺的方式，在平臺的兩端加工出一定深度和長度的臺階，為了使平臺更好放置在石墨管主體透光孔的圓孔上，將平臺根部與圓孔的接觸處倒出合適的倒角或倒圓。圓環(huán)底端的壓緊面與平臺的臺階兩個面重合，屬于緊密配合，從而圓環(huán)和石墨管主體一起限制了平臺的各個方向的自由度，很好的安裝了平臺。
文檔編號G01N21/31GK201348608SQ200920105079
公開日2009年11月18日 申請日期2009年1月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月14日
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