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安靜的薄rf體線圈的制作方法

文檔序號(hào):5831044閱讀:210來源:國知局
專利名稱:安靜的薄rf體線圈的制作方法
安靜的薄RF體線圈
本申請(qǐng)涉及磁共振領(lǐng)域。它特別適用于結(jié)合體線圈(bodycoU)使用, 并將通過特別參考體線圈對(duì)其進(jìn)行描述。然而,應(yīng)該理解以下描述也可以 結(jié)合磁共振系統(tǒng)、磁共振光譜系統(tǒng)等中的其它類型線圈來應(yīng)用。
磁共振成像(MRI)設(shè)備通常用于病人的檢查。磁共振成像掃描儀典型 地包括主磁體(通常是超導(dǎo)的),其生成穿過檢査區(qū)的在空間和時(shí)間上恒定 的磁場(chǎng)Bo。通常將射頻(RF)線圈諸如線性體線圈或正交(quadrature)體 線圈(QBC)和一個(gè)發(fā)射器或多個(gè)反射器調(diào)諧到磁場(chǎng)B。中要成像的偶極子 的諧振頻率。該線圈和發(fā)射器用于激發(fā)和操縱該偶極子。通過用電流驅(qū)動(dòng) 梯度線圈以產(chǎn)生在多個(gè)方向附加到橫跨檢查區(qū)的磁場(chǎng)B。上的磁場(chǎng)梯度來對(duì) 空間信息進(jìn)行編碼。可以由相同的RF線圈或分離的只接收RF線圈獲取磁 共振信號(hào),并由RF接收器對(duì)這些磁共振信號(hào)進(jìn)行解調(diào)、濾波和采樣,并最 終在專用或通用硬件上將其重構(gòu)成圖像。
典型地,RF體線圈剛性機(jī)械地耦接到射頻(RF)屏并被該射頻(RF) 屏圍繞,從而形成集成的堅(jiān)固RF線圈/RF屏結(jié)構(gòu)。該RF屏具有比梯度線 圈稍小的直徑,并硬耦接到接近病人孔的梯度線圈柱體組件的內(nèi)表面。病 人旁邊的孔蓋通常安裝到RF線圈/RF屏結(jié)構(gòu)上。在磁共振成像過程中,梯 度線圈由于洛倫茲(Lorentz)力而振動(dòng)。該振動(dòng)傳遞到MRI設(shè)備的整體表 面并經(jīng)由RF屏和RF線圈傳播到孔蓋。取決于表面速度,該機(jī)械振動(dòng)轉(zhuǎn)變 成聲學(xué)振動(dòng),這可能導(dǎo)致煩擾病人的噪聲。因?yàn)镽F屏和RF線圈是剛性機(jī) 械耦接的,即使發(fā)生聲學(xué)上的振動(dòng),它們也保持相對(duì)彼此的物理關(guān)系。因 此,該聲學(xué)振動(dòng)并不改變RF線圈的RF特性。
希望的是使梯度線圈與RF線圈/RF屏結(jié)構(gòu)和/或孔蓋機(jī)械上分離。 一種 分離方法是將RF線圈/RF屏結(jié)構(gòu)安裝到梯度線圈并帶有例如7.5mm或lcm 的氣隙(airgap)。另一種分離方法是在RF線圈/RF屏結(jié)構(gòu)與孔蓋之間限定 例如5mm的氣隙。不幸的是,兩種方法都導(dǎo)致或者降低孔的直徑或者增大梯度線圈和磁體的直徑。通常希望具有較大的病人孔徑,因?yàn)檩^小的孔徑 在較大的病人不能舒適地配合穿過它時(shí)出現(xiàn)問題,同時(shí)因?yàn)槌杀究紤],例 如梯度放大器成本,還希望保持小的梯度線圈內(nèi)直徑。因此,希望最小化
聲學(xué)隔離和振動(dòng)隔離的空間,同時(shí)最小化RF線圈/RF屏結(jié)構(gòu)的空間。
本申請(qǐng)?zhí)峁┛朔鲜黾捌渌鼏栴}的新型改進(jìn)方法和設(shè)備。 根據(jù)一個(gè)方面,公開了一種磁共振成像設(shè)備。將成像對(duì)象安置于檢査 區(qū)中以便檢査。將蓋安置于檢查區(qū)周圍。磁場(chǎng)梯度線圈將選擇的磁場(chǎng)梯度 施加到檢査區(qū)內(nèi)的主磁場(chǎng)上。射頻(RF)線圈在檢査區(qū)中產(chǎn)生射頻激發(fā)脈 沖,該射頻線圈包括安置在蓋上遠(yuǎn)離檢査區(qū)一側(cè)的多個(gè)線圈元件。與線圈 元件相關(guān)聯(lián)的射頻(RF)屏遮蔽這些線圈元件,并且圍繞梯度線圈安置, 從而線圈元件與RF屏機(jī)械分離并且與RF屏和梯度線圈基本在聲學(xué)上隔 離。
根據(jù)另一方面,公開了一種磁共振方法。將單獨(dú)的線圈段相互鄰近地 機(jī)械耦接在孔蓋上遠(yuǎn)離檢查區(qū)并接近梯度線圈的一側(cè)。利用射頻屏(RF) 屏遮蔽線圈段。RF屏與線圈段機(jī)械分離并機(jī)械耦接到梯度線圈。利用孔蓋 和所耦接的線圈段覆蓋掃描儀孔。
根據(jù)另一方面,公開了一種磁共振設(shè)備。主磁體生成穿過檢查區(qū)的主 場(chǎng)。磁場(chǎng)梯度線圈將選擇的磁場(chǎng)梯度施加到檢查區(qū)內(nèi)的主磁場(chǎng)上。與RF線 圈相關(guān)聯(lián)的射頻(RF)屏遮蔽磁場(chǎng)梯度發(fā)生線圈并圍繞梯度線圈安置,從 而RF線圈與RF屏機(jī)械分離并且與RF屏和梯度線圈基本在聲學(xué)上隔離。 補(bǔ)償處理器至少補(bǔ)償RF場(chǎng)感應(yīng)的變化,所述變化歸因于以下至少之一(a) 所述RF屏與所述RF線圈之間的由于所述梯度線圈的振動(dòng)的機(jī)械干擾,或 (b)病人與所述RF線圈之間的互動(dòng)。
一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于該RF線圈與該梯度線圈聲學(xué)隔離而無需減小孔的直徑 或增大掃描儀的直徑。
本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀和理解以下詳細(xì)描述后將理解本發(fā)明的更多優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明將采用多種組件和組件排列的形式,以及多種步驟和步驟排列
8的形式。附圖僅用于示例優(yōu)選實(shí)施例而不應(yīng)視為限制本發(fā)明。
圖l是成像系統(tǒng)的示意圖;和
圖2是成像系統(tǒng)的詳細(xì)部分的示意圖。
參照

圖1和圖2,磁共振成像掃描儀8包括在掃描儀孔14中限定檢查區(qū)12的外殼10。將病人或其它成像對(duì)象16安置于檢査區(qū)12中以便進(jìn)行診斷檢査。將一個(gè)蓋或多個(gè)蓋18安置于孔14周圍以將病人16與安置于外殼10中的掃描儀硬件遮蔽開并改善整形外觀(cosmetic appearance)。
安置于外殼10中的主磁體20在檢査區(qū)12中生成主磁場(chǎng)Bo。典型地,主磁體20是由低溫圍帶24包圍的超導(dǎo)磁體;然而,也可以使用電阻式或永久主磁體。將一個(gè)或多個(gè)磁場(chǎng)梯度線圈30布置在外殼10中,其由低溫圍帶或其它結(jié)構(gòu)支撐,以將選擇的磁場(chǎng)梯度疊加到檢査區(qū)12內(nèi)的主磁場(chǎng)上。射頻(RF)線圈或線圈系統(tǒng)或排列36安置于檢査區(qū)12周圍。線圈系統(tǒng)36包括多個(gè)射頻線圈元件、段、線圈、共振器或環(huán)箍38,其中每個(gè)可以具有不同的尺寸和位置。線圈系統(tǒng)36例如是圓柱形,但是當(dāng)然也可以具有其它幾何形狀,諸如橢圓橫截面、半圓橫截面、半橢圓橫截面等。線圈系統(tǒng)36可以是TEM線圈、混合TEM鳥籠式線圈、鳥籠式共振器或包括多個(gè)軸向延伸的元件或環(huán)共振器的排列的其它線圈等。在該示例性實(shí)施例中,線圈系統(tǒng)36包括軸向安置的多個(gè)環(huán)箍38,這些環(huán)箍由孔蓋18的內(nèi)表面支撐、位于檢查區(qū)12之外并接近梯度線圈30。遮蔽環(huán)箍38的射頻(RF)屏或罩40與環(huán)箍38機(jī)械分離并安置于梯度線圈30的內(nèi)表面42或圍繞該內(nèi)表面安置,該射頻(RF)屏或罩40與環(huán)箍38 —起限定氣隙dl。氣隙dl (例如l-2cm)將環(huán)箍38與梯度線圈30機(jī)械地分離,并因此防止將梯度線圈30的振動(dòng)傳送到環(huán)箍38以及隨后傳送到孔蓋18。如下面更詳細(xì)討論的,補(bǔ)償處理器、算法、器件或裝置46預(yù)先測(cè)量環(huán)箍38對(duì)每個(gè)梯度波形的響應(yīng),并確定用于在前饋信號(hào)路徑中補(bǔ)償梯度線圈30與RF屏40之間的干擾的修正參數(shù)。補(bǔ)償處理器46還確定病人的位置是否導(dǎo)致環(huán)箍38中的信號(hào)不同于所需信號(hào)并且通過反饋回路補(bǔ)償該差異。
繼續(xù)參照?qǐng)D1,磁共振成像控制器50操作耦接到梯度線圈30的磁場(chǎng)梯度控制器52,以將選擇的磁場(chǎng)梯度疊加到檢查區(qū)12中的主磁場(chǎng)Bo上,并且還操作每一個(gè)耦接到獨(dú)立的射頻線圈段38的射頻發(fā)射器54,以將磁共振頻率附近的選擇的射頻激發(fā)脈沖注入到檢查區(qū)12內(nèi)用于成像。 一個(gè)或多個(gè)射頻發(fā)射器54是獨(dú)立控制的且可以具有不同的相位和振幅。射頻激發(fā)脈沖在成像對(duì)象16中激發(fā)磁共振信號(hào),該磁共振信號(hào)由所選擇的磁場(chǎng)梯度進(jìn)行空間編碼。更進(jìn)一步地,成像控制器50控制一個(gè)或多個(gè)射頻接收器56以解調(diào)所生成的且空間編碼的磁共振信號(hào),每個(gè)射頻接收器是單獨(dú)控制的并與線圈系統(tǒng)36的相應(yīng)的單獨(dú)線圈段38連接。將所接收的空間編碼磁共振數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在磁共振或MR數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器60中。
重構(gòu)處理器62將所存儲(chǔ)的磁共振數(shù)據(jù)重構(gòu)為躺在檢查區(qū)12內(nèi)的成像對(duì)象16或其選擇部分的重構(gòu)圖像。重構(gòu)處理器62采用傅立葉(Fourier)變換SENSE、 SMASH或與數(shù)據(jù)采集中所用的空間編碼相適合的其它合適的重構(gòu)技術(shù)。將重構(gòu)圖像存儲(chǔ)在圖像存儲(chǔ)器64中,并可以將其顯示在用戶界面66上,經(jīng)由局域網(wǎng)或因特網(wǎng)傳送,用打印機(jī)打印或以其它方式使用它。在示例的實(shí)施例中,用戶界面66還使得放射學(xué)家或其它用戶能夠與成像控制器50交互以選擇、修改或執(zhí)行成像序列。在其它實(shí)施例中,提供分離的用戶界面來操作掃描儀8并用于顯示或操縱重構(gòu)圖像。
所述的磁共振成像掃描儀8是一種示例性示例。 一般來說,基本上任何磁共振成像掃描儀均可以包括所公開的射頻線圈。例如,掃描儀可以是開放式磁體掃描儀、豎直孔掃描儀、低場(chǎng)掃描儀、高場(chǎng)掃描儀等等。在圖1的實(shí)施例中,線圈系統(tǒng)36用于發(fā)射和接收磁共振序列的相位;然而,在其它實(shí)施例中可以提供分離的發(fā)射線圈和接收線圈,其中之一或二者均可以包括于此公開的一種或多種射頻線圈設(shè)計(jì)或設(shè)計(jì)方法。
繼續(xù)參照?qǐng)D1并再次參照?qǐng)D2,在沿軸向或z方向看去的方向上示例了示例性線圈的三個(gè)共振器或環(huán)箍38h 382, 383。每個(gè)共振器38h 382, 383經(jīng)由例如示例性的集總電容器80電容性耦接到RF屏40,同時(shí)保持聲學(xué)上的隔離。此外,將RF共振器安裝在孔蓋18上,而將RF屏安裝在梯度線圈組件30上。波形發(fā)生處理器、器件或裝置82使得每個(gè)RF發(fā)射器54生成具有預(yù)定值的信號(hào),該信號(hào)被施加到每個(gè)共振器38i,382,383上。由于孔蓋18可能被病人16彎曲,病人可以在一個(gè)或另一個(gè)位置推動(dòng)單獨(dú)的環(huán)箍38h 382,383為更靠近RF屏40。由于屏與環(huán)箍相互作用,當(dāng)RF屏與環(huán)箍的均勻部分之間的間隔變化時(shí),環(huán)箍38l5 382, 383中的信號(hào)可能不同于用于發(fā)射的所期望的或所需的信號(hào)。每個(gè)環(huán)箍中的實(shí)際期望信號(hào)還受到病人負(fù)載即環(huán)箍與對(duì)象之間的耦接的影響。信號(hào)確定器件、處理器或裝置90通過相應(yīng)的拾音線圈92h 922, 923確定每個(gè)共振器38b 382, 383中流動(dòng)的電流的實(shí)際量和/或相位。在一實(shí)施例中,拾音線圈的數(shù)量等于環(huán)箍的數(shù)量,例如,對(duì)于包括32個(gè)環(huán)箍的線圈,存在32個(gè)拾音線圈,每個(gè)拾音線圈與單獨(dú)環(huán)箍相關(guān)聯(lián)。在另一實(shí)施例中,拾音線圈的數(shù)量不等于環(huán)箍的數(shù)量,例如32個(gè)環(huán)箍與8個(gè)拾音線圈。調(diào)整信號(hào)確定裝置94將輸入到每個(gè)環(huán)箍的所需RF發(fā)射信號(hào)與在每個(gè)環(huán)箍中感測(cè)的實(shí)際信號(hào)進(jìn)行比較,以便為每個(gè)共振器38b 382,
383確定調(diào)整輸入信號(hào)払* (振幅和相位),這將導(dǎo)致每個(gè)共振器實(shí)際承載期望的電流。波形發(fā)生裝置82使得RF發(fā)射器54生成施加于每個(gè)共振器上38,,382, 383的調(diào)整信號(hào)。結(jié)果,共振器38i,382,383中的信號(hào)基本上等于期望的信號(hào)84。當(dāng)然,預(yù)期可以在接收時(shí)例如在重構(gòu)階段中修正這些信號(hào)。
在一實(shí)施例中,振動(dòng)補(bǔ)償確定處理器、算法、器件或裝置102預(yù)先確定修正參數(shù)并將這些修正參數(shù)存儲(chǔ)在修正表104中,這些修正參數(shù)補(bǔ)償RF屏40和環(huán)箍3815 382, 383對(duì)每個(gè)梯度波形的響應(yīng)。每次施加給定的梯度脈沖時(shí),在梯度線圈組件和RF屏中發(fā)生相同的聲學(xué)振動(dòng),引起RF屏與RF線圈關(guān)系中的相同的相應(yīng)變化以及每個(gè)環(huán)箍的RF特性的相同變化??梢栽谛?zhǔn)過程中憑經(jīng)驗(yàn)計(jì)算或測(cè)量這種變化。波形發(fā)生裝置82在生成信號(hào)過程中施加修正參數(shù)作為前饋補(bǔ)償。在一實(shí)施例中,在接收到信號(hào)后例如在重構(gòu)階段中施加來自修正表104的修正參數(shù)。
以這種方式,通過使環(huán)箍38與RF屏40機(jī)械地(而非在電學(xué)上)分離并將RF屏40置于梯度線圈30處,將掃描儀孔14的直徑增大數(shù)厘米,例如1-2 cm。環(huán)箍38與RF屏40之間的距離dl用于隔離梯度線圈30的振動(dòng)。此外,使用一種補(bǔ)償技術(shù)來補(bǔ)償梯度線圈和RF屏的預(yù)測(cè)量的機(jī)械相互作用。在由病人的位置、移動(dòng)或孔蓋的擾動(dòng)導(dǎo)致的信號(hào)失真情況下,使用另外的補(bǔ)償技術(shù)來補(bǔ)償信號(hào)。
在另一實(shí)施例中,類似于上述實(shí)施例,RF屏40位于梯度線圈30處,而環(huán)箍38位于孔蓋18上。然而,孔14的直徑保持不變,而梯度線圈30的內(nèi)直徑減小l-2厘米;因此,由于降低了梯度放大器和超導(dǎo)電線的成本而
ii降低系統(tǒng)的總的成本。在一實(shí)施例中,磁體20的內(nèi)直徑也相應(yīng)地減小1-2厘米。
已經(jīng)參照優(yōu)選實(shí)施例描述了本發(fā)明。基于閱讀和理解前面的詳細(xì)描述,容易想到其它的修改和變化。本發(fā)明意欲解讀為包括所有這些修改和變化,只要其處于所附權(quán)利要求及其等價(jià)物的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種磁共振成像設(shè)備(8),其包括檢查區(qū)(12),在其中安置成像對(duì)象(16)以便檢查;圍繞所述檢查區(qū)(12)的蓋(18);磁場(chǎng)梯度線圈(30),其將選擇的磁場(chǎng)梯度加到所述檢查區(qū)(12)內(nèi)的主磁場(chǎng)(B0)上;射頻線圈(RF)線圈(36),用于在所述檢查區(qū)(12)中產(chǎn)生射頻激發(fā)脈沖,所述射頻線圈(36)包括安置在所述蓋(18)上遠(yuǎn)離所述檢查區(qū)(12)一側(cè)的多個(gè)線圈元件(381,382,383);以及射頻(RF)屏(40),其與所述線圈元件(381,382,383)相關(guān)聯(lián),所述射頻屏(40)遮蔽所述線圈元件(381,382,383)并圍繞所述梯度線圈(30)安置,使得所述線圈元件(381,382,383)與所述RF屏(40)機(jī)械分離并且與所述RF屏(40)和梯度線圈(30)基本在聲學(xué)上隔離。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包括 補(bǔ)償處理器(46),其確定補(bǔ)償信號(hào)以補(bǔ)償每個(gè)單獨(dú)的線圈元件(38i, 382,383)中的信號(hào)失真,這種失真歸因于以下干擾中的至少之一(a)所述成像 對(duì)象(16)對(duì)所述線圈(30,36)的干擾,和(b)所述RF屏(40)與梯度線圈(30) 之間的振動(dòng)干擾;以及發(fā)射系統(tǒng)(54),其根據(jù)所確定的補(bǔ)償信號(hào)產(chǎn)生RF脈沖并將修正的RF 脈沖發(fā)射給相應(yīng)的線圈元件(38,, 382, 383)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包括-補(bǔ)償處理器(46),其確定對(duì)所述RF線圈(36)中的RF信號(hào)的補(bǔ)償,所述補(bǔ)償歸因于所述RF線圈與所述RF屏(40)之間的物理關(guān)系的變化。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包括 波形發(fā)生裝置(82),其根據(jù)所確定的補(bǔ)償來控制RF發(fā)射系統(tǒng)(54)對(duì)所述線圈元件(38,, 382, 383)的每一個(gè)產(chǎn)生補(bǔ)償?shù)腞F脈沖,以生成具有選擇的特性的RF場(chǎng)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包括 多個(gè)拾音線圈(922, 922, 923),其用于測(cè)量所述線圈元件(38i, 382, 383)中感生的RF信號(hào),所述補(bǔ)償處理器(46)根據(jù)所測(cè)量的RP信號(hào)與所需的RF 信號(hào)之間的誤差來確定所述補(bǔ)償。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包括連接到所述多個(gè)線圈元 件的多個(gè)發(fā)射器(54),且其中所述補(bǔ)償處理器(46)包括調(diào)整信號(hào)確定裝置(94),其將所測(cè)量的信號(hào)和所需的信號(hào)進(jìn)行比較,并 為所述發(fā)射器(54)的每一個(gè)確定調(diào)整信號(hào)(ILdj)。
7、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包括連接到所述多個(gè)線圈元 件的多個(gè)接收器(56),且所述補(bǔ)償處理器(46)包括調(diào)整信號(hào)確定裝置(94),其將所測(cè)量的信號(hào)和所需的信號(hào)進(jìn)行比較,并 為所述接收器(56)的每一個(gè)確定調(diào)整信號(hào)OLdj)。
8、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包括 梯度線圈控制器(52),其耦接到所述梯度線圈(30),所述梯度線圈將選擇的磁場(chǎng)梯度波形疊加到所述主磁場(chǎng)(B())上。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包括修正表(104),從該修正表提取修正參數(shù)以補(bǔ)償激活所述梯度線圈的過 程中所述RF屏(40)與所述RF線圈(36)之間的機(jī)械干擾。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包括 波形發(fā)生裝置(82),其根據(jù)所述修正參數(shù)來控制發(fā)射系統(tǒng)(54)產(chǎn)生RF脈沖,并發(fā)射所修正的RF脈沖給所述線圈元件(38,, 382, 383)的每一個(gè)。
11、 一種磁共振方法,其包括將單獨(dú)的線圈段(38i, 382, 383)相互鄰近地機(jī)械耦接在孔蓋(18)上遠(yuǎn)離檢 査區(qū)(l 2)并接近梯度線圈(30)的 一側(cè);利用射頻(RF)屏(40)遮蔽所述線圈段,所述射頻(RF)屏與所述線圈段機(jī) 械分離并機(jī)械耦接到所述梯度線圈;以及禾擁所述孔蓋(18)和所耦接的線圈段來覆蓋掃描儀孔(14)。
12、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其進(jìn)一步包括 在由所述孔蓋(18)限定的所述檢查區(qū)(12)中生成基本在空間和時(shí)間上恒定的磁場(chǎng);利用所述梯度線圈(30)將選擇的磁場(chǎng)梯度加到所述檢查區(qū)(12)內(nèi)的所 述主磁場(chǎng)上;以及進(jìn)行磁共振序列,包括施加RF脈沖到所述線圈段和利用所述線圈段接 收共振信號(hào)。
13、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其進(jìn)一步包括-補(bǔ)償每個(gè)單獨(dú)的線圈段的RF信號(hào)以補(bǔ)償所述RF線圈段與所述RF屏之間的RF耦接的變化,這些變化是由所述RF屏與所述RF線圈段中的至 少一個(gè)之間的相對(duì)位移引起的。
14、 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的方法,其進(jìn)一步包括 產(chǎn)生RF脈沖;將所產(chǎn)生的RF脈沖施加到所述線圈段上; 感測(cè)由所述RF線圈段發(fā)射的RF脈沖;以及根據(jù)所感測(cè)的RF脈沖與所需的RF脈沖之間的差異,利用反饋補(bǔ)償回 路來改變所產(chǎn)生的RF脈沖。
15、 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的方法,其進(jìn)一步包括 產(chǎn)生RF脈沖;將所產(chǎn)生的RF脈沖施加到所述線圈段上; 感測(cè)由所述RF線圈段發(fā)射的RF脈沖;確定所感測(cè)的RF脈沖與所需的RF脈沖之間的差異; 接收磁共振信號(hào);以及根據(jù)所確定的差異來改變所接收的磁共振信號(hào)。
16、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其進(jìn)一步包括-確定對(duì)每個(gè)單獨(dú)的線圈段中的RF信號(hào)的補(bǔ)償修正,這些補(bǔ)償修正歸因于在致動(dòng)所述梯度線圈(30)的過程中所述RF屏與所述線圈段之間的機(jī)械關(guān) 系的激活。
17、 根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法,其中確定補(bǔ)償修正的步驟包括 利用所述梯度線圈(30)將選擇的磁場(chǎng)梯度波形疊加到主磁場(chǎng)上; 測(cè)量施加所述梯度的過程中每個(gè)線圈段中的變化; 確定修正參數(shù),所述修正參數(shù)補(bǔ)償所測(cè)量的變化;以及 將所述修正參數(shù)存儲(chǔ)在修正表(104)中。
18、 根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法,其進(jìn)一步包括以下步驟之一 根據(jù)所述修正參數(shù)產(chǎn)生RF脈沖,和 將所修正的RF脈沖施加到所述線圈段的每一個(gè)上;以及 接收磁共振信號(hào),和將所述修正參數(shù)施加到所接收的磁共振信號(hào)上。
19、 一種磁共振掃描儀(8),其通過權(quán)利要求ll所述的步驟構(gòu)建。
20、 一種磁共振設(shè)備(8),其包括 主磁體(20),其生成穿過檢查區(qū)(12)的主(B。)場(chǎng);磁場(chǎng)梯度線圈(30),其將選擇的磁場(chǎng)梯度施加到所述檢查區(qū)(12)內(nèi)的所 述主磁場(chǎng)(Bo)上; RP線圈(36);射頻(RF)屏(40),其與所述RF線圈(36灘關(guān)聯(lián),所述射頻屏(40)遮蔽所 述RF線圈(36)并圍繞所述梯度線圈(30)安置,使得所述RF線圈(36)與所述RF屏(40)機(jī)械分離并且與所述RF屏(40)和所述梯度線圈(30)基本在聲學(xué)上 隔離開;以及補(bǔ)償處理器(46),其至少補(bǔ)償RF場(chǎng)中感應(yīng)的變化,所述變化歸因于以 下至少之一(a)所述RF屏(40)與所述RF線圈之間的由于所述梯度線圈(30) 的振動(dòng)的機(jī)械干擾,或(b)病人與所述RF線圈之間的相互作用。
全文摘要
將成像對(duì)象(16)安置于檢查區(qū)(12)中以便檢查。將蓋(18)安置于檢查區(qū)(12)周圍。磁場(chǎng)梯度線圈(30)將選擇的磁場(chǎng)梯度施加到檢查區(qū)(12)內(nèi)的主磁場(chǎng)(B<sub>0</sub>)上。射頻(RF)線圈(36)在檢查區(qū)(12)中產(chǎn)生射頻激發(fā)脈沖,該射頻線圈(36)包括安置蓋(18)上遠(yuǎn)離檢查區(qū)(12)一側(cè)的多個(gè)線圈元件(38<sub>1</sub>,38<sub>2</sub>,38<sub>3</sub>)。與線圈元件(38<sub>1</sub>,38<sub>2</sub>,38<sub>3</sub>)相關(guān)聯(lián)的射頻(RF)屏(40)遮蔽線圈元件(38<sub>1</sub>,38<sub>2</sub>,38<sub>3</sub>),并且圍繞梯度線圈(30)安置,從而線圈元件(38<sub>1</sub>,38<sub>2</sub>,38<sub>3</sub>)與RF屏(40)機(jī)械分離并且與RF屏(40)和梯度線圈(30)基本在聲學(xué)上隔離。
文檔編號(hào)G01R33/34GK101467060SQ200780021891
公開日2009年6月24日 申請(qǐng)日期2007年6月13日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月15日
發(fā)明者H·圖伊托夫, K·哈姆 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司
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