專利名稱:一種電磁加熱線圈盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及電磁加熱領(lǐng)域,尤其是一種適用于電磁加熱的線圈盤。
背景技術(shù):
申請(qǐng)?zhí)枮镃N200820046549.4的實(shí)用新型專利提出了一種加熱線圈盤,如圖1所示,在線圈盤支架1上設(shè)置有繞線支架2,繞線支架2上設(shè)置有擋板7,由兩個(gè)相鄰的擋板7 形成線槽8,電磁線即繞在線槽8內(nèi),相鄰的線圈被擋板7隔開(kāi),以利于繞線和線圈盤的散熱。在繞線過(guò)程中,可采用專用的繞線器進(jìn)行繞線,由于繞線器具有一定的寬度,所以將電磁線繞進(jìn)線槽8時(shí),相鄰的擋板7的上端應(yīng)間隔適當(dāng)?shù)木嚯x,但擋板7之間的距離過(guò)大,則影響繞線的總?cè)?shù),從而影響加熱效率。
實(shí)用新型內(nèi)容針對(duì)上述問(wèn)題,本實(shí)用新型提出一種繞線方便又不影響線圈加熱效率的電磁加熱線圈盤,所述線圈盤包括繞線支架,在所述繞線支架上均勻設(shè)置有若干擋板,所述擋板自所述繞線支架的中心、沿其半徑向外分布,相鄰的擋板之間形成線槽;本實(shí)用新型的關(guān)鍵點(diǎn)在于所述擋板頂部的橫截面面積最小,底部的橫截面面積最大。即是一種自上而下的削減形狀,這種形狀可使繞線器在所述繞線支架上繞線的時(shí)候更方便。本實(shí)用新型中的擋板可自頂部至底部的橫截面面積逐漸遞減,也可分為上部和下部?jī)蓚€(gè)部分,自上而下,所述上部的橫截面面積逐漸遞減,所述下部的橫截面面積不變,這兩種結(jié)構(gòu)主要采用漸變的過(guò)渡。本實(shí)用新型還可以采用突變的削減,比如所述擋板的縱截面包括一個(gè)或多個(gè)臺(tái)階,越是往下的臺(tái)階,橫截面面積越大;所述擋板縱截面的左側(cè)和右側(cè)均可以有臺(tái)階。本實(shí)用新型的有益效果是在不改變現(xiàn)有技術(shù)中各擋板之間距離的前提下,增大了各擋板上部之間的距離,即線槽的開(kāi)口變大了,使繞線器更容易將電磁線繞進(jìn)線槽。
附圖1為現(xiàn)有技術(shù)的加熱線圈盤的結(jié)構(gòu);附圖2為本實(shí)用新型的擋板實(shí)施例1的縱截面剖視圖;附圖3為本實(shí)用新型的擋板實(shí)施例2的縱截面剖視圖;附圖4為本實(shí)用新型的擋板實(shí)施例3的縱截面剖視圖;附圖5為本實(shí)用新型的擋板實(shí)施例4的縱截面剖視圖;附圖6為本實(shí)用新型的擋板實(shí)施例5的縱截面剖視圖;附圖7為本實(shí)用新型的擋板實(shí)施例6的縱截面剖視圖;附圖8為本實(shí)用新型的擋板實(shí)施例7的縱截面剖視圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型的主要改進(jìn)了擋板的形狀了,使其更便于繞線,改進(jìn)后的擋板頂部的橫截面面積最小,底部的橫截面面積最大,具體可參見(jiàn)以下各實(shí)施例。實(shí)施例1 如圖2所示的實(shí)施例1,擋板7A的兩側(cè)是光滑的平面,當(dāng)然也可以為光滑的曲面,即擋板自頂部至底部的橫截面面積逐漸遞減,其縱剖面形呈梯形或近似梯形的形狀,也可以為三角形或近似三角形等結(jié)構(gòu),還可以為截球形等。實(shí)施例2-4 如圖3-5所示,擋板7B、7C、7D分別分為上部71和下部72兩個(gè)部分, 所述上部71的橫截面面積自上而下是逐漸遞減,其縱截面可以為如圖3所示的兩側(cè)為斜面,或如圖4所示的一側(cè)為斜面,或如圖5所示的頂部為圓弧,當(dāng)然還可為其它光滑曲線,或直線與曲線相結(jié)合的其它形狀。所述下部72的橫截面面積不變,縱截面可以為正方形或長(zhǎng)方形。實(shí)施例5-6 如圖6和圖7所示,擋板7E、7F也分為上部71和下部72,但其縱截面為突變的削減,即圖中所示的臺(tái)階。其可以為圖6所示的單側(cè)臺(tái)階,也可以為圖7所示的兩側(cè)均為臺(tái)階形。實(shí)施例7:如圖8所示,擋板7G分為三個(gè)部分,其中上部71'和下部72'之間還有一端73',只要上部71'是最細(xì)的一端即可。本實(shí)用新型的擋板的形狀并不限于該實(shí)施例的三段組合,還可以為實(shí)施例1-6中所述的各形狀的組合,以及其它未一一列舉的形狀, 只要其為上小下大,方便繞線的形狀即可。最后所應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是,以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非對(duì)本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制,盡管參照優(yōu)選實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作了詳細(xì)說(shuō)明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換,而不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的實(shí)質(zhì)和范圍。
權(quán)利要求1.一種電磁加熱線圈盤,所述線圈盤包括繞線支架,在所述繞線支架上均勻設(shè)置有若干擋板,所述擋板自所述繞線支架的中心、沿其半徑向外分布,相鄰的擋板之間形成線槽; 其特征在于所述擋板頂部的橫截面面積最小,底部的橫截面面積最大。
2.如權(quán)利要求1所述的電磁加熱線圈盤,其特征在于所述擋板自頂部至底部的橫截面面積逐漸遞減。
3.如權(quán)利要求1所述的電磁加熱線圈盤,其特征在于所述擋板分為上部和下部,自上而下,所述上部的橫截面面積逐漸遞減,所述下部的橫截面面積不變。
4.如權(quán)利要求1所述的電磁加熱線圈盤,其特征在于所述擋板的縱截面包括至少一個(gè)臺(tái)階。
5.如權(quán)利要求4所述的電磁加熱線圈盤,其特征在于所述擋板縱截面的左側(cè)和右側(cè)均有臺(tái)階。
專利摘要本實(shí)用新型的電磁加熱線圈盤包括繞線支架,在所述繞線支架上均勻設(shè)置有若干擋板,所述擋板自所述繞線支架的中心、沿其半徑向外分布,相鄰的擋板之間形成線槽;本實(shí)用新型的關(guān)鍵點(diǎn)在于所述擋板頂部的橫截面面積最小,底部的橫截面面積最大。即是一種自上而下的削減形狀,可在不改變現(xiàn)有技術(shù)中各擋板之間距離的前提下,增大各擋板上部之間的距離,即線槽的開(kāi)口變大了,使繞線器更容易將電磁線繞進(jìn)線槽。
文檔編號(hào)H05B6/36GK202310167SQ201120447200
公開(kāi)日2012年7月4日 申請(qǐng)日期2011年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月10日
發(fā)明者李玉青 申請(qǐng)人:李玉青