專利名稱：磁頭滑塊的檢查方法及檢查裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種磁頭滑塊的檢查方法及檢查裝置，特別是關(guān)于一種，用于 硬托架上的磁頭滑塊的光學(xué)檢查方法及其裝置。
背景技術(shù)：
磁頭滑塊的形成方式如下在A1203-TiC等陶瓷晶圓上利用薄膜技術(shù)形成 讀寫元件，并將該晶圓切斷成構(gòu)成媒體相對(duì)面的表面在長(zhǎng)度方向上排成一列的 長(zhǎng)形條，進(jìn)而，將長(zhǎng)形條切斷成一個(gè)個(gè);茲頭滑塊。在晶圓上形成讀寫元件時(shí)， 在成膜面上附帶各個(gè)磁頭滑塊的編號(hào)，并在切出晶圓之后，通過該編號(hào)來管理 磁頭滑塊。.磁頭滑塊從晶圓切斷之后，以長(zhǎng)形條狀態(tài)、單個(gè)狀態(tài)、以尿組合在 磁頭折片組合(HGA)的狀態(tài)下，接受多次通過光學(xué)顯微鏡等裝置的外觀檢查。 磁頭滑塊組合在HGA之后的最終階段進(jìn)行檢查的話，次品率高，并且不能有效 查明其原因。為此，為了掌握在各個(gè)工序中的廢品產(chǎn)生比例并查明原因及對(duì)其 進(jìn)行改善，在每個(gè)工序中進(jìn)行檢查是尤為重要的。
主要的外觀檢查對(duì)象是，在媒體相對(duì)面或者通過研磨而成為媒體相對(duì)面的 表面(下稱第一表面)上檢查附帶異物或脫落部位現(xiàn)象，但是，由于磁頭滑塊 編號(hào)附在成膜面上，因此，檢查第一表面時(shí)有必要同時(shí)檢查成膜面。并且，在 長(zhǎng)形條的工序管理上，有必要在每個(gè)工序上確認(rèn)磁頭滑塊編號(hào)，并且，反而在 成膜面上的實(shí)際檢查機(jī)會(huì)多于第一表面。磁頭滑塊編號(hào)的確認(rèn)也通過顯微鏡來 進(jìn)行。特定磁頭滑塊時(shí)，晶圓編號(hào)與磁頭滑塊編號(hào)等兩個(gè)編號(hào)是必要的，但是， 晶圓編號(hào)有可能附在成形面的相反側(cè)表面(晶圓背面)，此時(shí)，有必要利用顯 微鏡對(duì)包括第一表面的共計(jì)3個(gè)表面上進(jìn)行檢查。另外，在本說明書中，磁頭 滑塊的檢查不僅包括第一表面等的點(diǎn)檢檢查、外觀的狀態(tài)檢查，還包括確認(rèn)磁 頭滑塊編號(hào)或晶圓編號(hào)的工作。
但是，由于長(zhǎng)形條非常脆弱，因此，通常放入殼體(托架)內(nèi)，由此進(jìn)行
保管及移動(dòng)。圖7表示現(xiàn)有技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例相關(guān)的托架。托架121由框體構(gòu) 成，多個(gè)長(zhǎng)形條可以同時(shí)被收容。托架的兩個(gè)相對(duì)邊上設(shè)置有臺(tái)階部123,長(zhǎng) 形條B被保持在臺(tái)階部123上。如上所述，由于頻繁確認(rèn)磁頭滑塊編號(hào)，因此， 為了易于看到磁頭滑塊編號(hào)，使附有磁頭滑塊編號(hào)的成膜面指向上方而收容長(zhǎng) 形條B。
進(jìn)行第一表面的外觀檢查時(shí)，首先，在放入托架內(nèi)的狀態(tài)下利用光學(xué)顯微 鏡對(duì)磁頭滑塊編號(hào)進(jìn)行確認(rèn)。晶圓編號(hào)附在晶圓背面的情況下，通過翻轉(zhuǎn)托架 來確認(rèn)晶圓編號(hào)。其次，利用鑷子從托架一個(gè)一個(gè)地取出長(zhǎng)形條，并移動(dòng)備有 顯微鏡的檢查臺(tái)，針對(duì)第一表面進(jìn)行檢查。但是，這種檢查的質(zhì)量和效率在很 大程度上依賴于操作者的技能(定位、檢查時(shí)間等)，因操作者引起的偏差也 很大。由于對(duì)脆弱的長(zhǎng)形條進(jìn)行操作，所以，取出長(zhǎng)形條、并在檢查之后返回 到托架的操作需要高度的熟練度，而且，很容易發(fā)生因失敗而破損長(zhǎng)形條或附 著污垢等現(xiàn)象，由此構(gòu)成了次品率高，或者，檢查時(shí)間長(zhǎng)等問題的原因。有時(shí)， 為了在第一表面上發(fā)現(xiàn)缺陷時(shí)特定該磁頭滑塊，保持原狀而將其長(zhǎng)形條傾斜90 度，并再次確認(rèn)磁頭滑塊編號(hào)，因此，當(dāng)次品較多時(shí)，其檢查時(shí)間更長(zhǎng)。為了 縮短檢查時(shí)間，不得不增加操作者的人數(shù)。
為了解決如上所述的問題，目前為止一直致力于實(shí)現(xiàn)合理化的磁頭滑塊的 檢查方法。專利文獻(xiàn)l揭示了從多個(gè)方向檢查磁頭滑塊的方法。具體來講，旋 轉(zhuǎn)磁頭滑塊的支撐體的外周面上固定有多個(gè)相機(jī)，并將旋轉(zhuǎn)支撐體而改變磁頭 滑塊的方向，由此，利用固定相機(jī)來檢查外觀。作為固定磁頭滑塊的方法記載 了預(yù)先利用膠帶固定磁頭滑塊，并將膠帶巻在支撐體的方法。
專利文獻(xiàn)2揭示了利用鏡子將同時(shí)檢查磁頭滑塊的多個(gè)表面的方法。具體 來講，在作為檢查對(duì)象的磁頭滑塊的側(cè)方設(shè)置形成45度角度的鏡子。把鏡子 設(shè)置在光學(xué)顯微鏡的視野范圍內(nèi)的話，在光學(xué)顯微鏡的視野內(nèi)可以同時(shí)采集磁 頭滑塊與通過鏡子映入的磁頭滑塊側(cè)方狀況，從而，不僅僅是磁頭滑塊的正面， 還可,以同時(shí)4企查到側(cè)方狀況。
專利文獻(xiàn)l:特開1993-223534號(hào)/>報(bào) 專利文獻(xiàn)2:特開2002-048716號(hào)公報(bào)
在專利文獻(xiàn)l、 2所記載的技術(shù)中，從長(zhǎng)形條中切出磁頭滑塊，并且有必 要再次把被切斷的磁頭滑塊安裝于專用支撐工具上，因此，工作效率不高。安 裝在支撐工具時(shí)使用粘結(jié)劑的話，粘結(jié)劑有可能直接貼付在磁頭滑塊上，因此， 有可能影響^i頭滑塊的可靠性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種抑制對(duì)磁頭滑塊的影響的同時(shí)，可以有效地 進(jìn)行磁頭滑塊的外觀檢查的檢查方法以及檢查裝置。
本發(fā)明相關(guān)的磁頭滑塊檢查方法是一種大致呈長(zhǎng)方體形狀的磁頭滑塊的 檢查方法，其包括如下步驟移動(dòng)步驟，即，所述磁頭滑塊通過其第一表面之 外的表面作為下表面而被支撐，其中，所述第一表面是媒體相對(duì)面或?qū)⒊蔀槊?體相對(duì)面的表面，同時(shí)，將所述;茲頭滑塊向上方移動(dòng)，并停止在檢查位置上； 以及檢查步驟，即，利用預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而設(shè)置的第一相機(jī)檢查所述 第一表面的同時(shí)，利用預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而設(shè)置的第二相機(jī)檢查不同于 所述第一表面也不同于所述下表面的所述磁頭滑塊的第二表面。
如上所述，在本發(fā)明的磁頭滑塊檢查方法中，支撐磁頭滑塊的下表面的同 時(shí)將磁頭滑塊向上提升至規(guī)定的檢查位置上。即，磁頭滑塊僅僅通過其重量而 被支撐，因此，不需要預(yù)先利用專用夾具固定^f茲頭滑塊等步驟。并且，支撐磁 頭滑塊的下表面是所述第一表面之外的表面，因此，在檢查過程當(dāng)中不會(huì)對(duì)第 一表面施加不必要的作用力，也不會(huì)產(chǎn)生附著物，因此，可以筒單地保護(hù)媒體 相對(duì)面。
檢查步驟還可以包括利用第一相機(jī)檢查第一表面的同時(shí)，利用預(yù)先將光 軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而設(shè)置的第三相機(jī)來檢查不同于第一表面、也不同于下表面、 也不同于第二表面的所述磁頭滑塊的第三表面。
移動(dòng)步驟包括將多個(gè)磁頭滑塊沿著長(zhǎng)度方向排成一列的磁頭滑塊集合體
移動(dòng)到上方，并停止在檢查位置上的步驟，檢查步驟之后還可以具備使被檢 查磁頭滑塊之外的磁頭滑塊到達(dá)檢查位置而將磁頭滑塊集合體向長(zhǎng)度方向移 動(dòng)，并以移到該檢查位置上的磁頭滑塊為對(duì)象重復(fù)進(jìn)行檢查步驟。
磁頭滑塊集合體可以為形成有多個(gè)磁頭滑塊的長(zhǎng)形條。
移動(dòng)步驟包括僅僅兩端通過自身重量而被支撐在支撐體上的長(zhǎng)形條的下
表面抵接移動(dòng)平臺(tái)，并通過把移動(dòng)平臺(tái)向上移動(dòng)，從而使長(zhǎng)形條分離于支撐體 并向上移動(dòng)，；險(xiǎn)查步驟之后還可以具備將下降移動(dòng)平臺(tái)，并將長(zhǎng)形條支撐在 支撐體上。
磁頭滑塊集合體可以為，從形成有多個(gè)磁頭滑塊的長(zhǎng)形條中切斷分離，并 利用切斷用夾具一同保持的多個(gè)石茲頭滑塊。
過該貫通孔抵接移動(dòng)平臺(tái)，并通過將移動(dòng)平臺(tái)向上方移5>，從而將磁頭滑塊分 離于托架并向上方移動(dòng)，檢查步驟之后還具備下降移動(dòng)平臺(tái)，并將磁頭滑塊 收容于托架內(nèi)。
檢查步驟可以包括同時(shí)檢查的磁頭滑塊的各表面狀況同時(shí)顯示在一個(gè)圖 像顯示裝置上的功能。
磁頭滑塊的第一表面朝向上方而被支撐為好。并且，優(yōu)選的，磁頭滑塊以 貼附有磁頭滑塊編號(hào)的表面成為第二表面而被支撐。
本發(fā)明的磁頭滑塊檢查裝置，其包括第一平臺(tái)，其具有在長(zhǎng)度方向上形 成多個(gè)備磁頭滑塊的長(zhǎng)形條的僅僅兩端被自身重量被支撐的支撐體；第二平 臺(tái)，其從長(zhǎng)形條的下方與該長(zhǎng)形條的下表面抵接，并且，使該長(zhǎng)形條從該支撐 體分離且移動(dòng)到^f全查位置為止而可以上下移動(dòng)；第一相機(jī)，其預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn) 檢查位置而被設(shè)置，并且可以拍攝到磁頭滑塊的媒體相對(duì)面或成為媒體相對(duì)面 的表面的第一表面；第二相機(jī)，其預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而被設(shè)置，并且可 以拍攝到不同于紫一表面也不同于下表面的所述磁頭滑塊的第二表面。
由此，本發(fā)明的^ 茲頭滑塊;險(xiǎn)查裝置可以以長(zhǎng)形條的狀態(tài)下，即，以長(zhǎng)形條 為單位對(duì)磁頭滑塊進(jìn)行多面檢查。為此，不必為了檢查而將磁頭滑塊改變方向 而一次次安裝于夾具上，從而實(shí)現(xiàn)了合理的檢查順序。并且，支撐磁頭滑塊的 下表面是第一表面之外的表面，因此，在檢查過程當(dāng)中不會(huì)對(duì)第一表面施加不 必要的作用力，也不會(huì)產(chǎn)生附著物。
本發(fā)明的檢查裝置還可以具有第三相機(jī)，其預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而被 設(shè)置，并且可以拍攝到不同于第一表面也不同于下表面，又不同于第二表面的 所述f茲頭滑塊的第三表面。
本發(fā)明的檢查裝置還可以包括可以同時(shí)顯示各相機(jī)的拍攝信息的圖像顯 示裝置。
優(yōu)選的，使第一及第二平臺(tái)可以在長(zhǎng)形條的長(zhǎng)度方向上運(yùn)動(dòng)而移動(dòng)地設(shè)置 為好。
優(yōu)選的，在支撐體上多個(gè)長(zhǎng)形條相互平行而被放置，第一平臺(tái)可以向著垂 直于長(zhǎng)度方向的方向在水平面的范風(fēng)內(nèi)移動(dòng)。
根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，磁頭滑塊的檢查裝置包括底部具有貫通孔且 可以收容石茲頭滑塊的托架；通過貫通孔且抵接在磁頭滑塊下表面，并且^f吏磁頭
滑塊分離于托架并移動(dòng)到檢查位置為止而可以上下運(yùn)動(dòng)的移動(dòng)平臺(tái)；預(yù)先將光 軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而被設(shè)置，并且可以拍攝到磁頭滑塊的媒體相對(duì)面或成為媒體 相對(duì)面的表面的第一表面的第一相機(jī)；預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而被設(shè)置，并 且可以拍攝到不同于第 一表面也不同于下表面的所述磁頭滑塊的第二表面的 第二相機(jī)。
如上所述，本發(fā)明可以提供抑制對(duì)磁頭滑塊的影響的同時(shí)，有效進(jìn)行磁頭 滑塊的外觀檢查的檢查方法以及檢查裝置。


圖1表示本發(fā)明相關(guān)的磁頭滑塊檢查裝置的整體結(jié)構(gòu)圖。 圖2表示本發(fā)明相關(guān)的磁頭滑塊檢查方法的流程圖。
圖3是表示磁頭滑塊的檢查中的狀況的模式圖。
圖4表示被顯示在圖像顯示裝置上的相機(jī)所拍攝圖像的概念圖。 圖5表示將長(zhǎng)形條切斷成磁頭滑塊時(shí)使用的切斷夾具的外形圖。
圖6表示磁頭滑塊檢查裝置的其他實(shí)施例相關(guān)的簡(jiǎn)略結(jié)構(gòu)圖。 圖7表示在現(xiàn)有技術(shù)中使用的托架的立體圖。
具體實(shí)施例方式
首先，結(jié)合附圖針對(duì)作為本發(fā)明的實(shí)施例之一的磁頭滑塊檢查裝置進(jìn)行說 明。圖l表示本發(fā)明相關(guān)的磁頭滑塊檢查裝置的整體結(jié)構(gòu)圖。磁頭滑塊檢查裝
置l包括第一平臺(tái)2，第二平臺(tái)3，對(duì)準(zhǔn)檢查位置T而設(shè)置光軸的第一 第三 相機(jī)ll、 12、 U,顯示第一 第三相機(jī)11、 12、 13的拍攝信息的圖像顯示裝置 14。
第一平臺(tái)2具有作為長(zhǎng)形條B的支撐體的托架21，以及支撐托架21的底 座22。托架21通過適當(dāng)方式被固定在底座22上，并且，可以從底座22分離。 托架21及底座22均為框體狀，托架21對(duì)準(zhǔn)底座22的框體而#:固定。為此， 在托架21固定于底座22的狀態(tài)下，其內(nèi)部成為開口部。托架21的形成可以 使在長(zhǎng)度方向上形成有多個(gè)磁頭滑塊S的長(zhǎng)形條B因自身重量而被支撐。具體 來講，托架21的相互面對(duì)的兩個(gè)邊上形成有可放置長(zhǎng)形條B的臺(tái)階部23，長(zhǎng) 形條B的兩端部B1、 B2被放置在臺(tái)階部23上并通過自身重量而被保持。托架 21也可以具有利用真空卡具固定長(zhǎng)形條B的功能。托架21使多個(gè)長(zhǎng)形條B具 有相互平行的位置關(guān)系而保持。
底座22上連接有移動(dòng)裝置(圖未示)，第一平臺(tái)2可以在水平面上的， 長(zhǎng)形條的長(zhǎng)度方向x以及垂直于此的方向y上移動(dòng)。
托架21具有保管長(zhǎng)形條B的功能，其具備與現(xiàn)有技術(shù)中所使用過的托架 相同的結(jié)構(gòu)。不過在本實(shí)施例中，托架21使》茲頭滑塊的第一表面朝向上方而 構(gòu)成。在磁頭滑塊制造工序中的大部分情況下單獨(dú)使用托架21, ^又僅在有必要 進(jìn)行磁頭滑塊的外觀檢查的情況下，才組裝在磁頭滑塊檢查裝置1上。
第二平臺(tái)3設(shè)置在第一平臺(tái)2的開口部?jī)?nèi)，并且從長(zhǎng)形條B的下方抵接在 長(zhǎng)形條B的下表面上，由此，從托架21中分離長(zhǎng)形條B并移向檢查位置T而 可以在上下方向X上移動(dòng)。第二平臺(tái)3與第一平臺(tái)2可以聯(lián)動(dòng)，由此可以在長(zhǎng) 形條的長(zhǎng)度方向X上移動(dòng)(以上可以參照?qǐng)D中的粗黑箭頭)。
第二平臺(tái)3的上方設(shè)置有第一 第三相機(jī)11、 12、 13。第一相機(jī)ll設(shè)置方 式如下預(yù)先對(duì)準(zhǔn)檢查位置T而設(shè)置光軸，并且可以拍攝到媒體相對(duì)面或成為 媒體相對(duì)面的表面的磁頭滑塊的第一表面M1 (參照?qǐng)D3)地、面向垂直方向的 下方而被設(shè)置。第一相機(jī)11可以替換200倍與500倍的兩個(gè)倍率，由此，可 以利用恰當(dāng)?shù)谋堵蕘頇z查一個(gè)磁頭滑塊的整體第一表面與元件(pole)周圍。
第二相機(jī)12設(shè)置方式如下預(yù)先對(duì)準(zhǔn)檢查位置T而設(shè)置光軸，并且可以 拍攝到磁頭滑塊的成膜面地、面向水平方向而被設(shè)置。第二相機(jī)12可以利用 200倍的倍率檢查一個(gè)^t頭滑塊的整個(gè)成膜面。不過，第二相機(jī)12所拍攝到的 磁頭滑塊的表面可以為成膜面之外的其他表面，磁頭滑塊編號(hào)附在其他表面時(shí) 可以為該表面，也可以檢查到有必要檢查的磁頭滑塊的某一特定表面。即，第 二相機(jī)12可拍攝到的磁頭滑塊的表面可以為第一表面Ml以及下表面之外的任 意第二表面M2。
第三相機(jī)13也預(yù)先對(duì)準(zhǔn)檢查位置T而設(shè)置光軸，并且可以拍攝到磁頭滑 塊的背面(晶圓背面?zhèn)?地、面向水平方向而^皮設(shè)置。第三相4幾13可以利用 200倍的倍率檢查一個(gè)磁頭滑塊的整個(gè)背面。當(dāng)沒必要拍攝晶圓背面時(shí)，可以 省略第三相機(jī)13。并且，第三相機(jī)13所拍攝的磁頭滑塊的表面并不一定是晶 圓背面，其還可以拍攝到磁頭滑塊的某一特定表面。即，第三相機(jī)n可拍攝 到的磁頭滑塊的表面為，不同于磁頭滑塊的第一表面M1、下面、以及第二表面 M2的第三表面M3。
作為各個(gè)相機(jī)ll、 12、 13可以使用搭載CCD (Charge-Coupled Device )的 數(shù)碼相機(jī)，但是，并不局限于此，可以利用任意拍攝裝置。并且，并不局限于 上述倍率，也可以采用可變倍率。
各個(gè)相機(jī)ll、 12、 13均被連接在圖像顯示裝置14上。圖像顯示裝置14 將把各個(gè)相機(jī)11、 12、 13所拍攝到的數(shù)據(jù)可以同時(shí)顯示在被分割的同一畫面 上。各個(gè)相機(jī)ll、 12、 13及圖像顯示裝置14也可以連接在圖像處理及圖形顯 示用計(jì)算機(jī)(圖未示)上。
接下來，結(jié)合圖2所示的流程圖說明應(yīng)用上述檢查裝置的磁頭滑塊的檢查 方法。圖3表示磁頭滑塊檢查中的狀態(tài)的模式圖，圖3(a)為從a-a方向觀察 到圖1的側(cè)視圖，圖3 (b)為從b - b方向觀察到圖1的側(cè)視圖。
(步驟S1)首先，如圖l所示，使第一表面朝向上方而將把從晶圓切出的 多個(gè)長(zhǎng)形條B放置在托架21上。如上所述，長(zhǎng)形條B是將多個(gè)^f茲頭滑塊沿著 長(zhǎng)度方向x排成一列的磁頭滑塊集合體。磁頭滑塊大致呈長(zhǎng)方體狀，其一側(cè)表 面上形成有媒體相對(duì)面或經(jīng)研磨而成為媒體相對(duì)面的表面的第 一表面Ml 。
(步驟SU接下來，沿著y軸方向移動(dòng)第一平臺(tái)2 (圖3 (a)中的空心箭 頭方向)，由此，使作為檢查對(duì)象的長(zhǎng)形條B移到檢查位置T的正下方為止(第 二平臺(tái)3正上方)。
(步驟S3)在此狀態(tài)下，上升第二平臺(tái)3。第二平臺(tái)3通過底座22內(nèi)部 而沿著圖3(a)中的實(shí)心箭頭方向上升，這樣，其上端部抵接在作為檢查對(duì)象 的長(zhǎng)形條B的下表面上。第二平臺(tái)3繼續(xù)上升，長(zhǎng)形條B的第一表面Ml的背 面被支撐在第二平臺(tái)3而向上移動(dòng)，并停止在;f全查位置T上。由于長(zhǎng)形條B的 僅僅兩端部B1、 B2通過自身重量而被支撐在托架21上，因此，第二平臺(tái)3的 上端部抵接在長(zhǎng)形條B的下表面上，并且，通過第二平臺(tái)3進(jìn)一步向上移動(dòng)， 由此，輕易從托架21分離。
(步驟S4)接下來，如圖3(b)中的空心箭頭以及實(shí)心箭頭所示，沿著 長(zhǎng)度方向x移動(dòng)第一平臺(tái)2及第二平臺(tái)3，并且，當(dāng)作為檢查對(duì)象的磁頭滑塊 到達(dá)檢查位置T時(shí)停止移動(dòng)。第一平臺(tái)2及第二平臺(tái)3在長(zhǎng)度方向x上移動(dòng)相 同距離而預(yù)先被調(diào)整。另外，還可以僅僅移動(dòng)第二平臺(tái)3,從而使作為檢查對(duì) 象的磁頭滑塊移動(dòng)到檢查位置T上。此時(shí)，有必要規(guī)定第二平臺(tái)3的形狀，從 而避免其與第一平臺(tái)2之間的相互干涉。(步驟S5 )利用預(yù)先對(duì)準(zhǔn)檢查位置T而設(shè)置光軸的第一相機(jī)11檢查作為
檢查對(duì)象的磁頭滑塊的第一表面Ml。第一相機(jī)11可以通過自動(dòng)操作或者菜單 操作替換其倍率，從而可以取得第一表面Ml的整體圖像與兩極附近的放大圖 像。通過觀察整體圖像，由此，可以檢查第一表面Ml是否存在劃痕或者污垢 的現(xiàn)象。兩極附近是磁頭滑塊的功能上特別重要的部位，并且，其屬于有必要 再利用高倍率進(jìn)行檢查的部位。通過改變倍率并在恰當(dāng)范圍內(nèi)進(jìn)行拍攝，由此 可以提高檢查精度。利用第一相機(jī)11進(jìn)行拍攝的同時(shí)，通過預(yù)先對(duì)準(zhǔn)檢查位 置T而設(shè)置光軸的第二相機(jī)12獲得第二表面M2的整體圖像。第二表面M2可 以為貼附有磁頭滑塊編號(hào)的成膜面。在成膜面上設(shè)置有焊墊(圖未示)，并且， 由于清洗后的污垢或碎屑很容易構(gòu)成問題，因此很有必要對(duì)其進(jìn)行檢查。與此 同時(shí)，通過預(yù)先對(duì)準(zhǔn)檢查位置T而設(shè)置光軸的第三相機(jī)13獲得第三表面M3的 整體圖像。第三表面M3可以為晶圓背面?zhèn)鹊谋砻?成膜面的背面)。 一般來 講，在該表面上貼附有晶圓編號(hào)。另外，同時(shí)獲得圖像，或者說，同時(shí)進(jìn)行沖全 查并不是指嚴(yán)格地同時(shí)進(jìn)行，很顯然，可以相差一定的時(shí)間間隔。
圖4表示被顯示在圖像顯示裝置上的相機(jī)所拍攝圖像的概念圖。圖像顯示 裝置14的顯示屏分為4個(gè)界面，在各界面上同時(shí)顯示出上述第一表面Ml的整 體圖像(右下)、兩極附近(圖中A部)的放大圖像(右上)、第二表面M2 的整體圖像(左上)、以及第三表面M3 (左下)的整體圖像。同時(shí)顯示碎屑等 缺陷部C1、 C2,并且，還同時(shí)顯示出磁頭滑塊編號(hào)Nl、晶圓編號(hào)N2，因此， 確認(rèn)有無缺陷以及特定磁頭滑塊變得容易。可以取代同時(shí)表示4個(gè)圖像的方式 而采用在整個(gè)顯示屏上依次表示一個(gè)個(gè)圖像的方式，也可以采用選擇兩個(gè)或者 三個(gè)圖像并同時(shí)表示的方式。并且，當(dāng)不需要第三表面M3對(duì)應(yīng)圖像時(shí)，也可 以省略相機(jī)等拍攝手段。
(步驟S6 )當(dāng)檢查下一個(gè)磁頭滑塊時(shí)，使作為下一檢查對(duì)象的磁頭滑塊到 達(dá)檢查位置T而沿著長(zhǎng)度方向x移動(dòng)第一平臺(tái)2及第二平臺(tái)3 (圖3 (b)中的 空心箭頭及實(shí)心箭頭)，由此沿著長(zhǎng)度方向移動(dòng)長(zhǎng)形條B。其次，以到達(dá)檢查 位置T的磁頭滑塊為對(duì)象重復(fù)步驟5。
(步驟S7)當(dāng)結(jié)束一個(gè)長(zhǎng)形條B檢查之后，下降第二平臺(tái)3，并使長(zhǎng)形條 B支撐在托架21上。如上所述，由于長(zhǎng)形條B的僅僅兩端部Bl、 B2通過自身 重量被支撐在托架21上，因此，通過下降第二平臺(tái)3而長(zhǎng)形條B自動(dòng)^皮放置 在托架21的原來位置上。
(步驟S8 )進(jìn)而對(duì)其他長(zhǎng)形條B進(jìn)行檢查時(shí)，必要次數(shù)為止重復(fù)上述步驟 S2 S7。
如上所述，通過本實(shí)施例所述的檢查裝置及檢查方法，可以通過有效且可 靠的方法來同時(shí)檢查磁頭滑塊的多個(gè)表面。即，長(zhǎng)形條在收容于托架上的狀態(tài) 下，提升4某體相對(duì)面的背面?zhèn)榷舷乱苿?dòng)，由此減少通過鑷子等的接觸而在檢 查過程當(dāng)中對(duì)i某體相對(duì)面產(chǎn)生損傷的可能性。由于在圖像顯示裝置上同時(shí)顯^ 各表面的檢查結(jié)果，因此，可以輕易找到不合格磁頭滑塊，由此提高工作效率。 碎屑或污垢引起的不合格通常是在待檢查各表面上具有關(guān)聯(lián)性，由于同時(shí)顯示 各表面的檢查信息，因此，更輕易地進(jìn)行分析或查找原因。從提高工作效率的 角度來看，減少了設(shè)置多個(gè)利用光學(xué)顯微鏡的檢查裝置的必要性，由此，對(duì)工 作空間的消減也有貢獻(xiàn)。
并且，在本實(shí)施例中，可以使磁頭滑塊的第一表面朝向上方而保管長(zhǎng)形條。 由于在磁頭滑塊的第一表面朝向上方的狀態(tài)下進(jìn)行的工序比較多，因此，有必 要采取這樣的長(zhǎng)形條保管方法。在現(xiàn)有技術(shù)當(dāng)中，有必要頻繁確認(rèn)磁頭滑塊編 號(hào)，為此，多數(shù)采用成膜面朝向上方的方法。但是，在本實(shí)施例中，由于可以 輕易識(shí)別貼付在成膜面上的磁頭滑塊編號(hào)，因此，沒必要使成膜面朝向上方而 對(duì)其進(jìn)行保管，可以采用4吏在工序上有利的第 一表面朝向上方的保管方法。
在上述說明中，在長(zhǎng)形條的狀態(tài)下檢查磁頭滑塊，但是，從長(zhǎng)形條中切出 磁頭滑塊之后也可以適用本發(fā)明而進(jìn)行檢查。圖5表示將長(zhǎng)形條切斷成磁頭滑 塊時(shí)使用的切斷夾具的外形圖。切斷夾具31包括支撐板33,以及垂直安裝于 支撐板33上的磁頭滑塊支撐部32，磁頭滑塊支撐部32之間設(shè)置有間隙34。 長(zhǎng)形條通過粘接劑被固定在切斷夾具31上，并通過規(guī)定切斷工具而被分離。 間隙34的上部構(gòu)成長(zhǎng)形條的切斷間隙部，切斷工具通過間隙34而切斷長(zhǎng)形條
的切斷間隙部，被切斷的長(zhǎng)形條的各部位(磁頭滑塊S)被保持在磁頭滑塊支
撐部32上。為此，切斷長(zhǎng)形條之后的磁頭滑塊S通過切斷夾具31依然構(gòu)成一 體化的集合體。并且，如同上述長(zhǎng)形條，被固定在切斷夾具31上的磁頭滑塊S 安裝于托架21上，由此，可以適用相同的檢查方法。
并且，磁頭滑塊剝離于切斷夾具，并成為完全獨(dú)立的狀態(tài)之后也可以適用 相同的方法。圖6表示磁頭滑塊檢查裝置的其他實(shí)施例相關(guān)的簡(jiǎn)略結(jié)構(gòu)圖。第 一平臺(tái)2a具備支撐磁頭滑塊托架25的托架接受部26。磁頭滑塊托架25具備 收容各個(gè)磁頭滑塊的凹部28,各凹部28的底面具有貫通孔27。貫通孔27也 可以作為以每個(gè)磁頭滑塊托架25為單位清洗磁頭滑塊時(shí)的清洗水排水孔而使 用。第二平臺(tái)3a在其上端部上具有銷24，其設(shè)置方式如下其通過貫通孔2 而接觸到磁頭滑塊下表面上，由此，從磁頭滑塊托架25中分離磁頭滑塊且移 到^f全查位置T為止而可以上下運(yùn)動(dòng)。
可拍攝到磁頭滑塊的第一表面Ml的第一相機(jī)11將其光軸預(yù)先對(duì)準(zhǔn)檢查位 置T而被設(shè)置，與此相同地，可拍攝到磁頭滑塊的第二表面M2的第二相機(jī)12 將其光軸預(yù)先對(duì)準(zhǔn)檢查位置T而被設(shè)置。進(jìn)而，可拍攝到磁頭滑塊的第三表面 M3的第三相機(jī)13將其光軸預(yù)先對(duì)準(zhǔn)檢查位置T而被設(shè)置。各個(gè)相機(jī)ll、 l2、 13均被連接在圖像顯示裝置14上。這些相機(jī)ll、 12、 13以及圖像顯示裝置 14的構(gòu)成如同上述實(shí)施例。
檢查磁頭滑塊時(shí)，被收容在底面具有貫通孔27的磁頭滑塊托架25上的磁 頭滑塊的下表面通過貫通孔27接觸于第二平臺(tái)3a的銷24,并通過4巴第二平臺(tái) 3a向上方移動(dòng)，由此，從磁頭滑塊托架25提升磁頭滑塊，并朝向上方移動(dòng)為 好。相機(jī)ll、 12、 13的拍攝、以及利用圖像顯示裝置14的圖像顯示可以完全 相同于上述實(shí)施例。
權(quán)利要求
1.檢查大致呈長(zhǎng)方體形狀的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于包括如下步驟移動(dòng)步驟，即，所述磁頭滑塊通過其第一表面之外的表面作為下表面而被支撐，其中，所述第一表面是媒體相對(duì)面或?qū)⒊蔀槊襟w相對(duì)面的表面，同時(shí)，將所述磁頭滑塊向上方移動(dòng)，并停止在檢查位置上；及檢查步驟，即，利用預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而設(shè)置的第一相機(jī)檢查所述第一表面的同時(shí)，利用預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而設(shè)置的第二相機(jī)檢查不同于所述第一表面也不同于所述下表面的所述磁頭滑塊的第二表面。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所迷的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述檢查 步驟包括利用所述第一相積4全查所述第一表面的同時(shí)，利用預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn) 檢查位置而設(shè)置的第三相機(jī)來檢查不同于所述第一表面、也不同于所述下表 面、也不同于所述第二表面的所述磁頭滑塊的第三表面的步驟。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所 述移動(dòng)步驟包括將多個(gè)所述磁頭滑塊沿著長(zhǎng)度方向排成一列的磁頭滑塊集合 體向上方移動(dòng)，并在所述檢查位置上停止，所述檢查步驟之后還具備使被檢 查磁頭滑塊之外的磁頭滑塊到達(dá)所述檢查位置而將所述磁頭滑塊集合體向所 述長(zhǎng)度方向移動(dòng)，并以移到該檢查位置上的磁頭滑塊為對(duì)象重復(fù)進(jìn)行所述4全查 步驟。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述磁頭 滑塊集合體為形成有多個(gè)磁頭滑塊的長(zhǎng)形條。-
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述移動(dòng) 步驟包括僅僅兩端通過自身重量而被支撐在支撐體上的所述長(zhǎng)形條的所述下 表面抵接移動(dòng)平臺(tái)，并通過把所述移動(dòng)平臺(tái)向上移動(dòng)，從而使所述長(zhǎng)形條分離 于所述支撐體并向上移動(dòng)，所述檢查步驟之后還具備將下降所述移動(dòng)平臺(tái)， 并將所述長(zhǎng)形條支撐在所述支撐體上。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所述磁頭 滑塊集合體是，從形成有多個(gè)磁頭滑塊的長(zhǎng)形條中被切斷分離，并且一同被切 斷用夾具保-持的多個(gè)^f茲頭滑塊。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在于所 述移動(dòng)步驟包括使收容于底部具有貫通孔的托架內(nèi)的所述^f茲頭滑塊的下表面 通過該貫通孔而抵接移動(dòng)平臺(tái)，并通過將所述移動(dòng)平臺(tái)向上方移動(dòng)，從而將所 述磁頭滑塊分離于所述托架并向上方移動(dòng)，所述'檢查步驟之后還具備下降所 述移動(dòng)平臺(tái)，并將所述^f茲頭滑塊收容于所述托架內(nèi)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1至7的任一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在 于在所述4全查步驟中，同時(shí)檢查的所述^f茲頭滑塊的各表面狀況同時(shí)顯示在一 個(gè)圖像顯示裝置上。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1至8的任一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的^^查方法，其特征在 于所述磁頭滑塊使其第一表面作為上表面而被支撐。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1至9的任一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的檢查方法，其特征在 于所述磁頭滑塊使貼附有磁頭滑塊編號(hào)的棗面成為所述第二表面而被支撐。
11. 一種磁頭滑塊的檢查裝置，其特征在于包括第一平臺(tái)，其具有在長(zhǎng) 度方向上形成多個(gè)磁頭滑塊的長(zhǎng)形條的僅僅兩端通過自身重量而被支撐的支撐體；第二平臺(tái)，其從所述長(zhǎng)形條的下方與該長(zhǎng)形條的下表面4氐接，并且，使該長(zhǎng)形條從該支撐體分離且移動(dòng)到檢查位置為止而可以上下移動(dòng)；第一相機(jī)，其預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而被設(shè)置，并且可以拍攝到所述磁頭滑塊的媒體相對(duì)面或成為媒體相對(duì)面的表面的第一表面；第二相機(jī)，其預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查 位置而被設(shè)置，并且可以拍攝到不同于所述第一表面也不同于所述下表面的所 述》茲頭滑塊的第二表面。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的磁頭滑塊的檢查裝置，其特征在于該裝置 包括第三相機(jī)，其預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而被設(shè)置，并且可以拍攝到不同于 所述第一表面也不同于所述下表面，又不同于所述第二表面的所述》茲頭滑塊的 第三表面。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11或者12所述的磁頭滑塊的檢查裝置，其特征在于 該裝置還包括可以同時(shí)顯示所述各相機(jī)的拍攝信息的圖像顯示裝置。
14. 根據(jù)權(quán)利要求11至13的任一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的檢查裝置，其特征 在于所述第一相機(jī)具有多個(gè)倍率。
15. 根據(jù)權(quán)利要求11至14的任一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的檢查裝置，其特征 在于所述支撐體具有放置所述長(zhǎng)形條的臺(tái)階部。
16. 根據(jù)權(quán)利要求11至15的任一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的檢查裝置，其特征 在于所述支撐體使所述第一表面成為占表面而支撐所述長(zhǎng)形條。
17. 根據(jù)權(quán)利要求11至16的任一項(xiàng)所述的磁頭滑塊的檢查裝置，其特征 在于所述第一及第二平臺(tái)可以在所述長(zhǎng)形條的所述長(zhǎng)度方向上聯(lián)合移動(dòng)。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的磁頭滑塊的檢查裝置，其特征在于在所述 支撐體上多個(gè)長(zhǎng)形條相互平行而被;故置，所述第一平臺(tái)可以向著垂直于所述長(zhǎng) 度方向的方向在水平面的范圍內(nèi)移動(dòng)。
19. 一種磁頭滑塊的檢查裝置，其特征在于包括底部具有貫通孔且可以 收容磁頭滑塊的托架；通過所述貫通孔且抵接在所述磁頭滑塊下表面，并且使 》茲頭滑塊分離于所述托架并移動(dòng)到4全查位置為止而可以上下運(yùn)動(dòng)的移動(dòng)平臺(tái)； 預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而被設(shè)置，并且可以拍攝到所述^f茲頭滑塊的媒體相對(duì) 面或成為媒體相對(duì)面的表面的第一表面的第一相機(jī)；預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置 而被設(shè)置，并且可以拍攝到不同于所述第 一表面也不同于所述下表面的所述磁 頭滑塊的第二表面的第二相才幾。 '
全文摘要
本發(fā)明提供的磁頭滑塊檢查方法是一種大致呈長(zhǎng)方體形狀的磁頭滑塊的檢查方法，其包括如下步驟將媒體相對(duì)面或成為媒體相對(duì)面的表面的第一表面之外的表面作為下表面而支撐所述磁頭滑塊，同時(shí)，將磁頭滑塊向上方移動(dòng)，并停止在檢查位置上的移動(dòng)步驟(S2、S3)；利用預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而設(shè)置的第一相機(jī)檢查第一表面的同時(shí)，利用預(yù)先將光軸對(duì)準(zhǔn)檢查位置而設(shè)置的第二相機(jī)檢查不同于第一表面也不同于下表面的所述磁頭滑塊的第二表面的檢查步驟(S4)。通過本發(fā)明可以抑制對(duì)磁頭滑塊的影響的同時(shí)有效地進(jìn)行磁頭滑塊的外觀檢查。
文檔編號(hào)G01N21/88GK101101757SQ20071012648
公開日2008年1月9日 申請(qǐng)日期2007年6月19日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月27日
發(fā)明者藤井隆司 申請(qǐng)人:新科實(shí)業(yè)有限公司