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測有機(jī)膜和高分子膜厚度的前處理方法

文檔序號:5887910閱讀:614來源:國知局
專利名稱:測有機(jī)膜和高分子膜厚度的前處理方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于測有機(jī)膜和高分子膜厚度的前處理方法。
本發(fā)明根據(jù)以上的X射線衍射測量有機(jī)膜和高分子膜厚度、X射線光電子能譜測量膜的厚度、掃描電鏡測量膜的厚度、橢偏儀測量膜厚度時的局限性和準(zhǔn)確性而提出的,特別對納米膜的處理方法。
本發(fā)明將旋涂在硅片上的待測樣品膜用銅薄把膜遮擋住一部分,以雙面膠帶將銅薄與樣品膜粘合,然后將露出部分用氬離子進(jìn)行剝離,氬離子槍的束能3-10千伏,聚焦電壓3-8千伏,束流3-20微安,剝離后將銅薄去掉;樣品膜可以是1層或2層。


附圖1是聚丙烯酸甲酯膜剝離后的示意中1)聚丙烯酸甲酯膜2)硅片本發(fā)明的處理方法在操作上對樣品沒有任何要求和限制,處理過程非常簡單,對沒有剝離的膜不具有破壞性。有機(jī)膜和高分子膜經(jīng)過本發(fā)明提供的方法的處理后,避免了目前測量的各種條件限制,具有非常好的直觀性。
實(shí)施例2將旋涂在硅片上的聚氯乙烯膜用銅薄把膜遮擋住一部份,以雙面膠帶將銅薄與樣品膜粘合,然后將露出部分用氬離子進(jìn)行剝離,氬離子槍的束能4千伏,聚焦電壓3千伏,束流5微安,剝離后將銅薄去掉;用原子力顯微鏡測膜厚度為43納米。
實(shí)施例3將分別旋涂在硅片上的聚乙二醇和聚丙交酯膜用銅薄把膜遮擋住一部份,以雙面膠帶將銅薄與樣品膜粘合,然后將露出部分用氬離子進(jìn)行剝離,氬離子槍的束能7千伏,聚焦電壓6千伏,束流20微安,剝離后將銅薄去掉;用原子力顯微鏡測其膜厚度分別為聚乙二醇28納米,聚丙交酯45納米。
權(quán)利要求
1.一種測有機(jī)膜和高分子膜厚度的前處理方法,其特征在于將旋涂在硅片上的待測樣品膜用銅薄把膜遮擋住一部分,以雙面膠帶將銅薄與樣品膜粘合,然后將露出部分用氬離子進(jìn)行剝離,氬離子槍的束能3-10千伏,聚焦電壓3-8千伏,束流3-20微安,剝離后將銅薄去掉;
2.如權(quán)利要求1所述的測有機(jī)膜和高分子膜厚度的前處理方法,其特征在于樣品膜可以是1層或2層。
全文摘要
本發(fā)明提供一種測有機(jī)膜和高分子膜厚度的前處理方法。特別對納米級的膜更顯出優(yōu)勢。有目前測量各種膜厚度的方法有很多。但是,都有各自的局限性,受各種條件的制約。X射線衍射測量有機(jī)膜和高分子膜厚度時,樣品必須是晶體;X射線光電子能譜測量膜的厚度時,受到樣品和儀器條件的限制;掃描電鏡測量膜的厚度時,受到樣品制備的限制;橢偏儀測量膜厚度時,受到標(biāo)準(zhǔn)模型選擇的制約。有機(jī)膜和高分子膜經(jīng)過本發(fā)明提供的方法的處理后,避免了目前測量的各種條件限制,具有非常好的直觀性。
文檔編號G01B15/02GK1470849SQ0314501
公開日2004年1月28日 申請日期2003年6月20日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月20日
發(fā)明者李興林 申請人:中國科學(xué)院長春應(yīng)用化學(xué)研究所
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