下、Si為0. 1%W上且2. 0%W下、其余為化及不可避免的雜質(zhì)元素的合金鋼形成， 且在該合金鋼的表層部具有含有0. 05質(zhì)量％W上的N和小于0. 5質(zhì)量％的C的表面層，上 述表面層中的N和C的含量W質(zhì)量％計(jì)滿足0.45%《（C+N)《1.5%的關(guān)系式。優(yōu)選為上 述合金鋼中的C和Cr含量W質(zhì)量％計(jì)滿足0. 04Cr%- 0. 39《C%《一0. 05Cr% +1. 41的 關(guān)系式。
[0040] 另外，作為其它不誘鋼，內(nèi)圈14a、16a、外圈14b、1化和滾珠14c、16c中的至少其中 之一由W質(zhì)量％計(jì)含有C為0.04%W上且0.8%W下、Si為1.0%W下、Mn為1.0%W下、 P為0. 1 %W下、S為0. 1 %W下、Ni為0.5%W下、Cr為10. 0%W上且18. 0%W下、其余為 化及不可避免的雜質(zhì)元素的合金鋼形成。
[0041] 另外，作為SUJ鋼，內(nèi)圈14a、16a、外圈14b、16b和滾珠14c、16c中的至少其中之 一由W質(zhì)量％計(jì)含有C為0. 95%W上且1. 10%W下、Si為0. 15%W上且0. 35%W下、Mn 為 0.50%W下、P為 0.03%W下、S為 0.03%W下、Cr為 1.20%W上且 1.65%W下、其余 為化及不可避免的雜質(zhì)元素構(gòu)成的合金鋼（高碳銘軸承鋼）形成。
[0042]并且，在本實(shí)施方式中，通過提高各構(gòu)件的表面硬度，能夠減小皿D在驅(qū)動(dòng)條件下 磁頭臂保持力隨著經(jīng)過時(shí)間導(dǎo)致的磁滯轉(zhuǎn)矩變動(dòng)、提高磁頭臂的響應(yīng)性。具體而言，使內(nèi)圈 14曰、16a和外圈14b、1化的表面硬度為Hv700W上且小于Hv800,優(yōu)選為Hv720~780 ; 使?jié)L珠14c、16c的表面硬度為Hv945W上且小于Hv1060,優(yōu)選為Hv945~1050。
[0043]此外，作為改變各構(gòu)件的表面硬度的方法，除了改變材料澤火條件、對(duì)滾動(dòng)體表面 的噴丸硬化處理之外，還可舉出改變鋼種、使用陶瓷材料W及在構(gòu)件表面W表面成膜劑成 膜等。但是，由于當(dāng)線膨脹系數(shù)、彈性模量等材料物性發(fā)生變化時(shí)，對(duì)皿D性能造成影響的 可能性很高，因而，對(duì)當(dāng)前使用的上述鋼種實(shí)施了不影響其物性的表面硬度改性處理。 W44] 在此，將具有套圈和滾動(dòng)體表面硬度各不相同的滾動(dòng)軸承（現(xiàn)有例、參考例1~3W及實(shí)施例1~24)的各樞軸軸承單元裝配于皿D，使其高速擺動(dòng)，并進(jìn)行了再現(xiàn)試驗(yàn)。 W45] 試驗(yàn)開始后，將1小時(shí)運(yùn)一刻的滯環(huán)值設(shè)為100%，將此刻之后的變化率作為滯環(huán) 下降率。此外，在此，所謂滯環(huán)值是指皿D內(nèi)部的固定于樞軸軸承的磁頭臂從內(nèi)徑側(cè)移向外 徑側(cè)W及從外徑側(cè)移向內(nèi)徑側(cè)時(shí)保持磁頭臂所需的力在方向性上的差異，并非軸承的轉(zhuǎn)矩 滯環(huán)其本身的值。
[0046]當(dāng)出現(xiàn)滯環(huán)下降率超過50%運(yùn)樣的大幅度降低時(shí)，會(huì)對(duì)皿D的控制造成不良影 響，因而優(yōu)選滯環(huán)下降率值較低。在下述表1中，將經(jīng)過16小時(shí)之際的上述滯環(huán)下降率超 過50%的標(biāo)記為"X"，將上述滯環(huán)下降率為50%W下但25%W上的標(biāo)記為"A"，將上述滯 環(huán)下降率為25 %W下但10 %W上的標(biāo)記為"O"，將上述滯環(huán)下降率為10 %W下的標(biāo)記為 此外，在現(xiàn)有例、參考例1~3和實(shí)施例1~24中，除了改變套圈或滾動(dòng)體的表面硬 度W外，其它條件相同。另外，作為用于滾動(dòng)軸承的潤滑脂，使用了含有礦油和聚a-締控 系合成潤滑油（PAO)為基油、和尿素系增稠劑的潤滑脂。
[0047]表1示出了現(xiàn)有例、參考例1~3 W及實(shí)施例1~24中的套圈和滾動(dòng)體的表面硬 度、16小時(shí)后的滯環(huán)變化率、尺寸穩(wěn)定性W及兩構(gòu)件綜合后的綜合判定。
[0048]表1
[0049]
[0050] 例如，在內(nèi)外圈硬度為Hv700、滾珠硬度為Hv920的標(biāo)準(zhǔn)滾珠軸承（現(xiàn)有例）中， 滯環(huán)變化率的時(shí)效變動(dòng)大，其下降率超過了 50%。另外，在內(nèi)外圈的硬度為Hv750、滾珠硬 度為Hv1050的本發(fā)明滾珠軸承（實(shí)施例17)中，滯環(huán)變化率的時(shí)效變動(dòng)非常小，其下降率 在10%W內(nèi)。另外，在內(nèi)外圈的硬度為Hv750、滾珠的硬度為Hv920的本發(fā)明滾珠軸承 (實(shí)施例11)中，滯環(huán)變化率的時(shí)效變動(dòng)小于標(biāo)準(zhǔn)滾珠軸承，其下降率在30%W內(nèi)。進(jìn)而， 在內(nèi)外圈的硬度為Hv700、滾珠的硬度為Hv1050的本發(fā)明滾珠軸承（實(shí)施例3)中，滯環(huán) 的時(shí)效變化小于標(biāo)準(zhǔn)滾珠軸承，其下降率在20%W內(nèi)。此外，圖2是表示運(yùn)些現(xiàn)有例（標(biāo)準(zhǔn) 試樣）、實(shí)施例3 (硬質(zhì)滾珠）、實(shí)施例11 (硬質(zhì)套圈）和實(shí)施例17 (硬質(zhì)套圈和硬質(zhì)滾珠） 的滯環(huán)變化率的時(shí)效變化曲線圖。
[0051] 因此，由上述結(jié)果能夠確認(rèn)：對(duì)于將樞軸軸承組裝于皿D之后進(jìn)行測(cè)量的滯環(huán)值， 通過改變套圈、滾珠的表面硬度，能夠降低該時(shí)效變化。并且可知：盡管改變套圈或滾珠其 中之一的硬度也能降低變化率，但對(duì)滾珠的影響更大，而且通過改變兩者，能夠進(jìn)一步增大 效果。
[0052] 此外，存在通過將澤火溫度變得更高來提升硬度的方法，但是，當(dāng)澤火溫度上升到 超過必要溫度時(shí)，硬度提高的同時(shí)，殘余奧氏體（丫時(shí)也提高，會(huì)對(duì)尺寸穩(wěn)定性造成不良影 響，因此，優(yōu)選在不對(duì)軸承的其它性能造成影響的范圍內(nèi)設(shè)定硬度上限值。（參照參考例 1~3)
[0053] 另外，為了確認(rèn)基于硬度改變的滯環(huán)下降率與軸承的轉(zhuǎn)矩的絕對(duì)值之間的相關(guān) 性，使用了上述的現(xiàn)有例和實(shí)施例3、11、17,并且改變實(shí)施例17的滾珠軸承的預(yù)壓，進(jìn)行確 認(rèn)。其結(jié)果示于表2中。
[0054]表2
[0056] 因此，從表2的結(jié)果能夠確認(rèn)：轉(zhuǎn)矩值與滯環(huán)下降率沒有相關(guān)性。
[0057] 此外，本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式，也可進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖冃魏透牧嫉取?br>[0058] 例如，滾動(dòng)軸承14、16并不特別限于圖示結(jié)構(gòu)，也可根據(jù)皿D的使用目的或使用條 件等而設(shè)計(jì)成任意結(jié)構(gòu)。另外，上述例中，軸構(gòu)件12被設(shè)置為軸屯、部沿著延伸方向貫通的 中空結(jié)構(gòu)，但也可設(shè)為實(shí)屯、結(jié)構(gòu)。
[0059] 本發(fā)明是基于2011年7月27日提出的日本專利申請(qǐng)（特愿2011-164758)W及 2012年1月27日提出的國際申請(qǐng)（PCT/JP2012/051848)而提出，在此將其內(nèi)容作為參照引 入。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種硬盤磁頭臂驅(qū)動(dòng)用滾動(dòng)軸承單元，其特征在于，具有： 軸構(gòu)件、和并列配置于所述軸構(gòu)件周圍的一對(duì)滾動(dòng)軸承， 所述一對(duì)滾動(dòng)軸承分別具有：內(nèi)圈、外圈、配置在所述內(nèi)圈和外圈之間的多個(gè)滾動(dòng)體、 和分別把持所述多個(gè)滾動(dòng)體的保持架，并支承著設(shè)于硬盤驅(qū)動(dòng)器的磁頭臂，且所述硬盤磁 頭臂能夠自由擺動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)， 所述內(nèi)圈和所述外圈的表面硬度分別為Hv 700以上、低于800,所述滾動(dòng)體的表面硬 度為Hv 945以上、低于1060。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬盤磁頭臂驅(qū)動(dòng)用滾動(dòng)軸承單元，其特征在于， 所述內(nèi)圈和所述外圈的表面硬度為Hv 720~780,所述滾動(dòng)體的表面硬度為Hv 945~1050。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的硬盤磁頭臂驅(qū)動(dòng)用滾動(dòng)軸承單元，其特征在于， 所述內(nèi)圈、所述外圈和所述滾動(dòng)體分別由不銹鋼或SUJ鋼制成。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種能夠減小HDD在驅(qū)動(dòng)條件下磁頭臂保持力隨著經(jīng)過時(shí)間導(dǎo)致的磁滯轉(zhuǎn)矩變動(dòng)、提高磁頭臂的響應(yīng)性的硬盤磁頭臂驅(qū)動(dòng)用滾動(dòng)軸承。該HDD磁頭臂驅(qū)動(dòng)用滾動(dòng)軸承(14、16)具有：內(nèi)圈(14a、16a)；外圈(14b、16b)；配置于該內(nèi)圈(14a、16a)與外圈(14b、16b)之間的多個(gè)滾動(dòng)體(14c、16c)；以及用于分別保持該多個(gè)滾動(dòng)體(14c、16c)的保持架(14d、16d)，其支承著設(shè)置于硬盤驅(qū)動(dòng)器的磁頭臂，使其能夠自由擺動(dòng)和轉(zhuǎn)動(dòng)。內(nèi)圈(14a、16a)和外圈(14b、16b)的表面硬度為Hv？700以上且低于Hv？800，且上述滾動(dòng)體的表面硬度為Hv？945以上且低于Hv？1060。
【IPC分類】F16C33/58, F16C19/04, F16C33/32
【公開號(hào)】CN105202015
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510501795
【發(fā)明人】七澤透, 坂上賢太郎, 堀內(nèi)直人
【申請(qǐng)人】日本精工株式會(huì)社
【公開日】2015年12月30日
【申請(qǐng)日】2012年7月24日
【公告號(hào)】CN103026084A, CN103026084B, US20130170776, WO2013014954A1, WO2013015291A1