1.一種產(chǎn)品，包括：
至少一個工作摩擦表面，其包括至少兩層，所述至少兩層包括化合物層和氮擴散層，其中，所述化合物層具有范圍為約19％至約50％的孔隙率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品，其中，所述工作摩擦表面包括低合金鑄鐵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品，其中，所述化合物層的深度范圍為約10微米至約20微米變化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品，其中，所述化合物層包括e-天然焦炭相、滲碳體、碳化物或氮化物中至少之一。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品，其中，所述氮擴散層的深度范圍為約350微米至約400微米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品，其中，所述氮擴散層包括氮、鐵氧化物和針狀氮化物。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品，其中，所述化合物層具有約50％的孔隙率。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品，其中，所述化合物層具有范圍為約30％至約50％的孔隙率。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品，其中，所述工作摩擦表面具有范圍為約1.2Ra至最大值約1.6Ra的表面處理粗糙度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)品，其中，所述產(chǎn)品包括具有轉(zhuǎn)子頰板的制動轉(zhuǎn)子，其中所述工作表面區(qū)域在所述轉(zhuǎn)子頰板上并且還包括位于所述第一化合物區(qū)下面并且厚度范圍為約350微米至約400微米的第二擴散區(qū)。