本發(fā)明涉及軸裝置，具有機架和可運動地支承在機架處的軸以及具有支承機構，所述支承機構構造用于相對于機架來轉(zhuǎn)動支承所述軸，其中，支承機構包括永磁體裝置和超導體，其構造用于在軸和機架之間無觸碰地、磁場支持地傳遞支承力。

背景技術：

由文件WO 2012/019919 A1已知用于旋轉(zhuǎn)地支承機器元件的超導性的磁體支承件。磁體支承件包括定子，所述定子由超導性的材料形成。此外，設置有相對于定子能夠旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子，所述轉(zhuǎn)子同樣由超導性的材料制造而成。定子和轉(zhuǎn)子共同布置在殼體中，所述殼體構造用于調(diào)節(jié)定子和轉(zhuǎn)子的溫度，從而其能夠作為超導性的材料在其轉(zhuǎn)變溫度之下來運行。此外，設置有能夠抗扭轉(zhuǎn)地安置在機器元件處的聯(lián)接元件，所述聯(lián)接元件在殼體之外與轉(zhuǎn)子同軸地布置并且所述聯(lián)接元件抗扭轉(zhuǎn)地與轉(zhuǎn)子磁地耦聯(lián)。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的任務在于，提供如下的軸裝置，利用所述軸裝置能夠開拓出用于能夠轉(zhuǎn)動地支承的軸的大量不同的應用領域。

所述任務對于開頭提及的類型的軸裝置而言利用權利要求1的特征解決，在此設置成，支承機構構造為用于軸的徑向支承件。與此相應地，相對于由現(xiàn)有技術已知的用于能夠轉(zhuǎn)動地支承的軸的軸向支承件而言，尤其在這樣支承的軸的實用的可用性方面開拓了大量新的應用可行性。根據(jù)本發(fā)明，軸的徑向的端部區(qū)域是自由地可到達的，因為不需要軸向?qū)χ玫夭贾玫闹С袡C構。由此，例如能夠?qū)崿F(xiàn)側(cè)向上地輸送待偏轉(zhuǎn)的材料軌道、如例如物料、紙或薄膜軌道。此外能夠設置成，軸沿著其旋轉(zhuǎn)軸線也在端部區(qū)域旁邊來支承，從而細長的軸也能夠（其關于其長度能夠具有小的橫截面和因此小的彎曲強度）通過合適地布置相應的支承機構甚至在較大的力橫向于旋轉(zhuǎn)軸線作用的情況下也基本上保持形狀穩(wěn)定。因此，根據(jù)本發(fā)明的軸裝置還適用于使用在如下的裝置中，在其中以高的速度進行柔韌的材料軌道的運輸，因為基于徑向的支承和用于沿著旋轉(zhuǎn)軸線來多重支撐軸的可行性而能夠選取小的軸直徑，從而相應的軸具有小的慣性，這對于大量加工過程而言是有利的。

本發(fā)明的有利的改進方案在從屬權利要求中說明。

適宜的是，永磁體裝置安置在軸處并且超導體安置在機架處。尤其當軸裝置應該使用在如下的周圍環(huán)境中（在其中溫度在超導體的轉(zhuǎn)變溫度附近存在、例如在20至40攝氏度的范圍中的通常的室溫）時，那么這是有利的。在這種情況中，為了實現(xiàn)和保持用于超導體的超導性的效果，需要冷卻超導體，所述冷卻能夠例如借助于液化的氣體、尤其液化的氮，和/或通過使用尤其構造為斯特林馬達的冷卻機構來實現(xiàn)。無關于選取的冷卻方法有利的是，在靜止的機架處保證超導體的冷卻（至少只要沒有已知其轉(zhuǎn)變溫度處在大于250開爾文的范圍中的超導性的材料的話）。

在本發(fā)明的一種備選的實施方式中，設置有軸的或軸的部分區(qū)域的無接觸的冷卻，從而支承機構的超導體安置在旋轉(zhuǎn)的軸處。在軸的足夠大的直徑的情況下，如有可能還能夠設置冷卻機構到軸中的集成。

優(yōu)選地設置成，軸構造為偏轉(zhuǎn)機構用于將柔韌的材料軌道從第一運輸方向偏轉(zhuǎn)到第二運輸方向中。軸能夠例如作為偏轉(zhuǎn)件使用在用于紙的處理機、尤其印刷機或紡織處理機、尤其用于浸漬物料的機器中。軸能夠用于將由物料、紙、或薄膜形成的柔韌的材料軌道從第一運輸方向偏轉(zhuǎn)到第二運輸方向中。在此有利的是，軸基于無觸碰的、磁場支持的、支承力的力傳遞而無摩擦地得到支承并且因此沒有不期望的制動力施加到待偏轉(zhuǎn)的柔韌的材料軌道上。

在本發(fā)明的一種有利的改進方案中設置成，為所述軸分配至少兩個沿著轉(zhuǎn)動軸線間隔開地、尤其在軸的彼此相反的端部區(qū)域處布置的支承機構。通過所述至少兩個支承機構間隔開，到軸上的橫向力（所述橫向力法向于轉(zhuǎn)動軸線來作用）能夠以合適的方式通過支承機構導出到機架中。為了以小的數(shù)量的支承機構來保證軸相對于橫向力的高的負荷能力，所述支承機構能夠布置在軸的彼此相反的端部區(qū)域處。補充性地或備選地能夠設置成，至少一個支承機構布置在軸的端部區(qū)域旁邊，例如用以減少或阻止軸基于其在細長的外形的情況下的自重和/或巨大的橫向力而引起的彎曲。

一種特殊情況形成如下的支承機構，其至少幾乎、尤其剛好沿著軸延伸并且因此保證了在軸的整個長度上完全地支撐軸。在這種情況中有利的是，整個軸構造為尤其由永磁的材料制成的永磁體裝置。

優(yōu)選地設置成，為所述機架分配調(diào)節(jié)器件、尤其電的或流體的調(diào)節(jié)驅(qū)動器用于調(diào)整支承機構相對于機架的位置。借助于這種調(diào)節(jié)器件例如能夠應用特定化地調(diào)整轉(zhuǎn)動軸線的位置。特別有利的是，設置有如下的傳感器器件，借助于所述傳感器器件能夠確定轉(zhuǎn)動軸線的空間上的位置，用以在中間接入合適的控制機構的情況下執(zhí)行轉(zhuǎn)動軸線的空間上的位置的調(diào)節(jié)。特別有利的是，為支承機構中的每個分配至少一個單獨的調(diào)節(jié)驅(qū)動器，用以使得軸的空間上的位置能夠沿著至少一個空間方向或在由兩個相對彼此垂直的空間方向確定的運動平面中或在由三個相對彼此垂直的空間方向確定的運動空間中在很大程度上地調(diào)整。

在本發(fā)明的一種有利的改進方案中設置成，為所述超導體分配磁體線圈裝置和用于控制用于磁體線圈裝置的線圈電流的控制機構以用于影響在超導體和永磁體裝置之間的磁的相互作用。借助于磁體線圈裝置能夠示例性地取決于由控制機構提供的線圈電流來產(chǎn)生磁場，所述磁場關于永磁體裝置的磁場具有能夠預設的取向并且所述磁場實現(xiàn)對軸的空間上的位置的影響，而不要求影響超導體。此外，由磁體線圈裝置能夠提供的磁場能夠例如用于暫時地減弱在永磁體裝置和超導體之間的磁的相互作用，用以例如實現(xiàn)軸從超導體的影響范圍中移除。

有利的是，為所述控制機構分配用于求得軸的空間上的位置的傳感器器件，用以實現(xiàn)調(diào)整、尤其調(diào)節(jié)在超導體和永磁體裝置之間的間距。傳感器器件能夠例如構造為光學的測量機構用于無接觸地求得在軸和機架之間的間距。備選地，傳感器器件還能夠構造用于無觸碰地感應地或電容式地測量在軸和機架之間的間距。

在本發(fā)明的另一設計方案中設置成，磁體線圈裝置由超導性的材料制造而成。優(yōu)選地，磁體線圈裝置熱地與用于超導體的冷卻機構耦聯(lián)并且能夠因此以與超導體相同的方式在所述磁體線圈裝置的轉(zhuǎn)變溫度之下來運行，從而能夠為磁體線圈裝置保證至少幾乎無損耗的運行方式。

適宜的是，在軸的至少一個軸向的端部區(qū)域處布置有磁體聯(lián)接器，所述磁體聯(lián)接器構造用于將驅(qū)動力矩從驅(qū)動器件無觸碰地傳遞到軸上。由此軸能夠以機軸（Welle）的類型用于提供轉(zhuǎn)矩。備選地能夠設置成，軸裝備有徑向磁化的永磁體裝置并且從外部借助于合適的磁體線圈作用有（aufpr?gen）磁的行波場，從而借此實現(xiàn)到軸上的無接觸的轉(zhuǎn)矩耦合。

被驅(qū)動的軸例如能夠用作用于運輸柔韌的材料軌道的驅(qū)動機軸。備選地，這樣構造的軸能夠沿著其轉(zhuǎn)動軸線設有螺旋形的凹處或突起部，用以例如實現(xiàn)以螺旋運輸機的類型的流體的運輸，只要軸容納在合適的橫截面中。

為此，有利的是，機架布置在第一空間體積中并且軸布置在第二空間體積中，其中，第二空間體積利用封閉的殼體與第一空間體積分離。通過軸裝置的這種設計方案，能夠例如在封閉的殼體中進行柔韌的材料軌道的偏轉(zhuǎn)，而為此不需要與殼體的周圍環(huán)境接觸。這種軸裝置能夠例如用于處理在化學的反應器中的柔韌的材料軌道，在所述反應器中必須運輸靈活的材料軌道，用以能夠以合適的方式與反應氣體或反應液體進入接觸。為此，封閉的化學的反應器能夠設有多個這種軸裝置，其中至少一個還設有無觸碰地工作的驅(qū)動機構，用以能夠促使靈活的材料軌道的期望的運動。

在本發(fā)明的一種有利的改進方案中設置成，支承機構構造用于軸橫向于轉(zhuǎn)動軸線進行平移運動。由此，軸能夠除了圍繞其轉(zhuǎn)動軸線旋轉(zhuǎn)之外還實施橫向于轉(zhuǎn)動軸線的平移運動。由此能夠例如在使用用于偏轉(zhuǎn)靈活的材料軌道的軸的情況下，實行調(diào)整材料軌道相對于加工機器的另外的構件的角度，所述加工機器構造用于產(chǎn)生或加工材料軌道。

附圖說明

本發(fā)明的有利的實施方式在附圖中示出。在此：

圖1示出了具有兩個徑向的支承機構的軸裝置的第一實施方式，所述支承機構在端部側(cè)布置在軸處，

圖2示出了具有兩個徑向的支承機構的軸裝置的第二實施方式，所述支承機構布置成與軸的端部區(qū)域間隔開并且所述支承機構沿著空間方向可運動地布置在機架處，

圖3示出了軸裝置的第三實施方式，在其中設置有用于無接觸地將轉(zhuǎn)矩耦合到軸上的驅(qū)動機構，

圖4示出了軸的第一實施方式，

圖5示出了軸的第二實施方式，以及

圖6示出了軸裝置的第四實施方式，在其中設置有用于無接觸地將轉(zhuǎn)動和平移運動耦合到軸上的驅(qū)動機構。

具體實施方式

在圖1中示出的軸裝置1示例性地包括兩個支承機構2、3，所述支承機構2、3相對于示意性地示出的機架4處于位置固定的關系中。支承機構2、3設置用于使得軸5無接觸地圍繞轉(zhuǎn)動軸線6可轉(zhuǎn)動運動地來支承。這種軸5能夠例如設置用于偏轉(zhuǎn)沒有示出的柔韌的材料軌道，所述材料軌道從第一、切向上貼靠在示例性地構造有圓形的橫截面的軸5的表面7處的第一運輸方向被偏轉(zhuǎn)到同樣切向上貼靠在表面7處的并且與第一運輸方向不同的第二運輸方向中。優(yōu)選地，這兩個運輸方向法向于轉(zhuǎn)動軸線6來取向，同樣能夠傾斜地偏轉(zhuǎn)靈活的材料軌道，在其中這兩個運輸方向分別以一致的且相對彼此互補的、可預設的角度相對于轉(zhuǎn)動軸線6來取向。

為了無接觸地轉(zhuǎn)動支承軸5，在軸裝置1中設置成，支承機構2、3分別在端部側(cè)布置在軸5處。支承機構2、3中的每個包括永磁體裝置8、9以及分別配屬于相應的永磁體裝置8、9的超導體10、11。在此，利用概念“超導體”來描述如下的裝置，所述裝置在支承機構2的情況中示例性地包括構造成杯形的冷卻體12、與冷卻體12處于熱的耦聯(lián)的、尤其構造為斯特林馬達的、能夠電地運行的冷卻機構15以及布置在冷卻體12的敞開的邊緣處的封閉蓋16。示例性地構造成盤形的封閉蓋16包括由超導性的材料制成的環(huán)17，在其中央中布置有用于密封由冷卻體12和由封閉蓋16確定的空間體積的覆蓋盤18。

支承機構3基本上具有與支承機構2相同的結構，然而區(qū)別在于，在利用19表示的覆蓋盤中容納有線圈裝置20，所述線圈裝置20優(yōu)選地構造為環(huán)線圈并且所述線圈裝置20與控制機構21電連接。線圈裝置20構造用于提供橫向于轉(zhuǎn)動軸線6取向的磁場，所述磁場能夠使用用于，影響在超導性的環(huán)17和永磁體裝置9之間的磁的相互作用。

示例性地設置成，永磁體裝置8和9分別構造成同類的并且示例性地構造為分別三個徑向磁化的環(huán)磁體22、23、24的彼此串聯(lián)（Aneinanderreihung）。在此，分別相鄰地布置的環(huán)磁體22、23、24相對彼此反向地來磁化，從而環(huán)磁體22和24示例性地具有處于徑向外部的北極，而環(huán)磁體23示例性地具有處于徑向外部的南極。

為了實現(xiàn)軸5相對于超導體10、11的無觸碰的、磁場支持的支承，能夠首先設置成，使得軸5在如下的時間點通過沒有示出的定位器件被置于相對于超導體10、11的期望的位置中，在所述時間點超導性的環(huán)17沒有被冷卻到其轉(zhuǎn)變溫度之下。在接下來的步驟中，激活冷卻機構15，用以實現(xiàn)將相應的超導性的環(huán)17冷卻到相應的轉(zhuǎn)變溫度之下并且由此將從相應的永磁體裝置8、9出發(fā)的磁的場在一定程度上儲存在相應的超導性的環(huán)17中。一旦冷卻機構15已經(jīng)將相應的超導性的環(huán)17冷卻直到轉(zhuǎn)變溫度之下，則能夠移除沒有示出的定位器件。從該時間點起，在保持超導性的環(huán)17冷卻在其轉(zhuǎn)變溫度之下的情況下，在相應的永磁體裝置8、9和相應的超導性的環(huán)17之間的無觸碰的、磁的耦聯(lián)得到保證。

借助于線圈裝置20（其構造在第二支承機構3中）能夠通過提供由控制機構21而引起的線圈電流來提供附加的磁場，借助于所述磁場能夠施加相對于永磁體裝置9的吸引力或排斥力，用以影響軸5尤其沿著橫向于轉(zhuǎn)動軸線6取向的空間方向相對于支承機構3的空間上的位置。

示例性地能夠在軸5的端部區(qū)段處布置有光學的鏡25，所述光學的鏡25為傳感器器件26的部件，所述傳感器器件26能夠使用用于確定轉(zhuǎn)動軸線6的空間上的位置。傳感器器件26示例性地包括構造為激光二極管的光源27以及二極管矩陣28，所述二極管矩陣28構造用于接收由光源27發(fā)出的并且在鏡25處反射的光束。在合適地校準傳感器器件26的情況下，光源27的光束取決于轉(zhuǎn)動軸線6的空間上的位置來撞擊到二極管矩陣28的不同的感光的單元上，其中，由關于在二極管矩陣上的撞擊點的信息，能夠在控制機構21中使用預設的計算算法的條件下來實行轉(zhuǎn)動軸線6的位置確定。在接下來的步驟中，能夠通過合適地操控線圈裝置20來實行修正轉(zhuǎn)動軸線6的空間上的位置。優(yōu)選地，控制機構21和傳感器器件26構造用于調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)動軸線6的空間上的位置。

根據(jù)圖2的軸裝置31（在其中對于功能相同的構件而言使用與在圖1的情況下相同的附圖標記）與根據(jù)圖1的軸裝置1的區(qū)別在于，永磁體裝置8、9布置在軸35的端部區(qū)域32、33旁邊。示例性地設置成，這兩個支承機構36、37以由圖1已知的支承機構3的類型來構造，也就是說其也分別具有線圈裝置20和配屬的控制機構21，其中，工作方式與支承機構3的工作方式是一致的。附加地，這兩個支承機構36、37相對于機架34能夠移位地來支承，用以實現(xiàn)沿著轉(zhuǎn)動軸線6來軸向調(diào)整軸35的位置。為此，示例性地設置有電的線性驅(qū)動機構38，其與支承機構37的控制機構21電連接。為了轉(zhuǎn)動軸線6的協(xié)調(diào)的取向，支承機構36、37的兩個控制機構21電地與彼此連接。轉(zhuǎn)動軸線6的取向能夠以與在軸裝置1中那樣相同的方式通過合適的傳感器器件來設置。備選地，能夠例如設置，能夠借助于軸35偏轉(zhuǎn)的、沒有示出的靈活的材料軌道的行為利用合適的傳感器來監(jiān)視并且由此軸35的空間上的位置的結論被得出并且軸的空間上的位置取決于所述傳感器的傳感器信號來進行調(diào)節(jié)。補充性地，在根據(jù)圖2的實施方式中，設置整個軸裝置31借助于線性驅(qū)動機構38沿著轉(zhuǎn)動軸線6的線性的移位。

在圖3中示出的、軸裝置41的實施方式示例性地涉及根據(jù)圖2的軸裝置31的一種改進方案。區(qū)別于根據(jù)圖2的軸裝置31，在軸裝置41中示例性地在左邊的端部區(qū)域31處設置有聯(lián)接機構42，所述聯(lián)接機構42構造用于利用驅(qū)動馬達43進行無觸碰地轉(zhuǎn)矩耦聯(lián)。示例性地，聯(lián)接機構42實施為渦流聯(lián)接器并且包括配屬于軸35的盤44，在所述盤44中圓周形地環(huán)繞地布置有永磁體45。在此，永磁體45的磁化如下來取向，使得所述永磁體提供沿著合適的方向、示例性地徑向地或軸向地相對于轉(zhuǎn)動軸線6伸延的場線。在驅(qū)動馬達43的驅(qū)動軸46處布置有由導電的、非鐵磁的材料制成的渦流盤47，在所述渦流盤47中，在相對于盤44相對運動時通過永磁體45誘發(fā)如下的渦流，所述渦流引起力反饋到盤44上并且因此實現(xiàn)轉(zhuǎn)矩從驅(qū)動馬達43無接觸地傳遞到軸35上。轉(zhuǎn)動運動的另一示例性的耦合能夠借助于由兩個或更多線圈產(chǎn)生的轉(zhuǎn)動場來進行，所述轉(zhuǎn)動場作用于配屬于軸35的盤44，從而能夠省去驅(qū)動馬達43、驅(qū)動軸46和渦流盤47。

在圖4和5中示出了不同地繪制的軸的剖面，其設置用于對材料施加影響。在圖4中示出的軸55的情況中（其局部地構造為具有面向彼此的逐漸變細的區(qū)域的雙錐體），帶或線例如能夠被偏轉(zhuǎn)，其中，基于雙錐形的輪廓保證了帶或線相對于軸55的自身定心。在圖5中示出的軸65的情況中，表面67的輪廓設置有輪廓元件66，所述輪廓元件66根據(jù)圖5的圖示構造為凹口，然而也能夠以沒有示出的方式實施為突起部。優(yōu)選地，設置所述輪廓元件66與沒有示出的另一軸的相對應的、尤其相應地相反成形的輪廓元件的相互作用。所述另一軸優(yōu)選地平行于軸65取向并且能夠可選地利用傳統(tǒng)的支承件或利用根據(jù)本發(fā)明的支承機構能夠轉(zhuǎn)動地來支承。在將材料輸送到這兩個軸之間時，能夠例如尤其通過沖壓、穿孔、壓延、印刷來引起材料軌道的表面變化。備選地，固態(tài)的或粉末形的材料能夠在經(jīng)過由這兩個軸確定的工作間隙時被磨碎、混合、配量、調(diào)溫或以其它方式被影響。

在本發(fā)明的一種沒有示出的實施方式中，在中央在軸處布置有支承機構，從而軸的無觸碰的、磁場支持的支承已經(jīng)利用唯一的支承機構實現(xiàn)。在本發(fā)明的另一沒有示出的實施方式中，支承機構基本上在軸的整個長度上延伸，從而保證特別穩(wěn)定地支承軸。

在本發(fā)明的另一沒有示出的實施方式中，沿著至少兩個相對彼此垂直的空間方向能夠運動到支承機構中，從而浮動地支承的軸能夠至少沿著這兩個空間方向運動。假如附加地，借助于合適的線圈裝置能夠進行影響在永磁體裝置和超導體之間的間距，則軸能夠沿著三個相對彼此垂直的空間方向在其位置方面進行調(diào)整。

在上面提及的實施方式的一種改進方案中，為了提供用于軸的疊加的轉(zhuǎn)動運動和平移運動，設置軸裝置71的在圖6中示出的實施方式。在此，軸裝置71具有兩個布置成與彼此間隔開的支承機構72、73，所述支承機構72、73固定在共同的機架74處或分離的機架處。

軸75在永磁體裝置78和79方面具有與在圖1中示出的軸5相同的結構。此外，軸75示例性地在中間的區(qū)域中包括另一永磁體裝置84，所述永磁體裝置84包括徑向磁化的永磁體85、86，所述永磁體85、86分別以交替的極性布置在軸75處。

支承機構72和73分別包括成排的超導體模塊87，所述超導體模塊87示例性地分別具有方形的基面。優(yōu)選地構造成一致的超導體模塊87中的每個包括箱形的冷卻體88，所述冷卻體88的上側(cè)面由兩個由超導性的材料制成的板條89和布置在中央的封閉蓋90的組合來形成。在封閉蓋90中容納有線圈91，所述線圈91以相同的方式用于針對軸75進行間距調(diào)節(jié)，如這在圖1中示出的支承機構2和3中為這樣的情況。

冷卻體88包圍沒有示出的空心空間，所述空心空間與同樣沒有示出的冷卻機構熱連接，用以實現(xiàn)源自空心空間的熱量導出并且由此使得這兩個由超導性的材料制成的板條89能夠在其轉(zhuǎn)變溫度之下來運行。

通過超導體模塊87的彼此串聯(lián)形成了用于軸75的運動軌道，沿著所述運動軌道在每個位置處在永磁體裝置78、79和由超導性的材料制成的板條89之間保證了磁的相互作用，用以使得在軸75和超導體模塊87之間維持可預設的間距。軸75必須能夠線性移位，用以進行反應，這應該如下來實現(xiàn)：

為了能夠促使用于軸75的疊加的轉(zhuǎn)動運動和平移運動，平行于這兩排超導體模塊87設置有驅(qū)動線圈92的彼此串聯(lián)，所述驅(qū)動線圈92與控制機構93單獨地電連接。為了示意性地示出在線圈91和控制機構93之間的單獨的電的連接，示出了端口94，其中，出于簡化原因，在控制機構93處示出了僅僅一個端口94。為了示意性地示出在驅(qū)動線圈92和控制機構93之間的單獨的電的連接，示出了端口95，其中，出于簡化原因在控制機構93處示出了僅僅一個端口95。

示例性地，驅(qū)動線圈92以及同樣與控制機構93電連接的線圈91為卷繞的線材線圈，所述線材線圈的圈布置成基本上平行于圖6的圖紙平面。

在此能夠設置成，線圈91由傳統(tǒng)的材料如漆包銅線那樣卷繞而成。備選地，能夠設置成，線圈91由超導性的材料卷繞而成，用以在總歸布置在超導體模塊87處的并且與此相應地強烈冷卻的線圈91運行時實現(xiàn)特別有利的能量效率。

控制機構93構造用于通過合適地操控各個驅(qū)動線圈92產(chǎn)生磁的行波場（Wanderfeld），所述行波場通過與在軸75處的永磁體85、86的相互作用引起用于軸75的旋轉(zhuǎn)運動的轉(zhuǎn)矩以及引起用于軸75的平移運動的推動力。由此，能夠促使軸75的如下的運動，所述運動相應于滾動的軸在平坦的底座上的滾壓運動。在合適地操控驅(qū)動線圈92時，還能夠針對軸75預設沒有旋轉(zhuǎn)份額的純的平移運動或沒有平移份額的純的旋轉(zhuǎn)運動或能夠在平移份額和旋轉(zhuǎn)份額之間自由選擇的混合。