專利名稱：真空處理設(shè)備、控制真空處理設(shè)備的方法及器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
閘閥107包括布置在真空室105中的閥體lll和驅(qū)動(dòng)閥體lll 的驅(qū)動(dòng)部分112。驅(qū)動(dòng)部分112具有一組桿部113a和113b以及一組缸 114a和114b。桿部113a和113b沿著接近排氣口 110的方向(圖3中箭 頭b的方向)和從排氣口 110分離的方向(圖3中箭頭a的方向)驅(qū)動(dòng) 閥體111。缸114a和114b分別驅(qū)動(dòng)桿部113a和113b。
0004桿部113a和113b與閥體111的運(yùn)動(dòng)方向平行地延伸，并且 各自在其一端處支承閥體ill。這組缸U4a和114b布置在橫過(guò)排氣口 110彼此相對(duì)的位置處。桿部113a和113b各自的另一端部連接至相應(yīng)的 缸114a和114b。驅(qū)動(dòng)部分112設(shè)有分別覆蓋桿部113a和113b的外表面 的波紋管118a和118b,以將桿部113a和113b以及缸114a和114b密封 在真空狀態(tài)中。本發(fā)明的其它特征將從以下參照附圖的典型實(shí)施例說(shuō)明變得 清楚。


以下將參照

本發(fā)明的實(shí)施例。
(第一實(shí)施例)
圖1-1A是根據(jù)第一實(shí)施例的真空處理設(shè)備的剖視圖，并且圖1-1B 是從圖1-1A中箭頭X的方向看到的根據(jù)第一實(shí)施例的真空處理設(shè)備的 部分側(cè)視圖。釭14設(shè)有端口 51a和51b以及法蘭52。通過(guò)端口 51a和51b供應(yīng)或排出操作缸14的工作介質(zhì)。在工作介質(zhì)通過(guò)端口 51a供應(yīng)至缸14 時(shí)，供應(yīng)至法蘭52的下表面?zhèn)鹊墓ぷ鹘橘|(zhì)的一部分向上推法蘭52。當(dāng)法 蘭52向上運(yùn)動(dòng)時(shí)，位于法蘭52的上表面?zhèn)鹊墓ぷ鹘橘|(zhì)的一部分通過(guò)端 口 51b排出。桿部13連接至法蘭52并隨著法蘭52向上運(yùn)動(dòng)而向上運(yùn)動(dòng)。 在桿部13向上運(yùn)動(dòng)時(shí)，連接至桿部13的閥體11運(yùn)動(dòng)以到達(dá)封閉位置 Pl。在該狀態(tài)中，閥體ll封閉真空室5的排氣口 10。
[0028在工作介質(zhì)通過(guò)端口 51b供應(yīng)至釭14時(shí)，供應(yīng)至法蘭52上 表面?zhèn)鹊墓ぷ鹘橘|(zhì)的一部分向下推法蘭52。當(dāng)法蘭52向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，位于 法蘭52的下表面?zhèn)鹊墓ぷ鹘橘|(zhì)的一部分通過(guò)端口 51a排出。在法蘭52 向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，桿部13也向下運(yùn)動(dòng)。在桿部13向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，連接至桿部 13的閥體11運(yùn)動(dòng)以到達(dá)打開(kāi)位置P2。在該狀態(tài)中，閥體ll打開(kāi)真空室 5的排氣口 10，并且真空室5的內(nèi)部通過(guò)連接部分8而與排氣泵6相通。
[0029J假設(shè)在連接部分8的內(nèi)部被排氣泵6抽空的情況下，閥體ll 處在封閉位置Pl且真空室5的內(nèi)部將被加壓至接近大氣壓力。由于閥體 11布置在真空室5中，該閥體ll接收作用在排氣口 IO上的大氣壓力。 大氣壓力偏壓面對(duì)真空室5內(nèi)部的閥體11的下表面。例如，當(dāng)閥體11 處在開(kāi)口位置P2時(shí)，由大氣壓力產(chǎn)生的偏壓能夠形成驅(qū)動(dòng)閥體11的驅(qū) 動(dòng)力的一部分。在此情況下，由大氣壓力產(chǎn)生的偏壓不會(huì)依賴于通過(guò)缸 14關(guān)閉閥體ll的驅(qū)動(dòng)力。在面對(duì)連接部分側(cè)的閥體11的上表面?zhèn)?，?氣泵6排空連接部分8的內(nèi)部。由此，在閥體11從打開(kāi)位置P2運(yùn)動(dòng)至 封閉位置P1的同時(shí)，向上推位于閥體ll上表面?zhèn)鹊臍怏w以使閥體ll運(yùn) 動(dòng)的負(fù)荷被減少。通過(guò)由排氣泵6抽空連接部分8的內(nèi)部以及由大氣壓 力產(chǎn)生的偏壓，可以使缸14制成比較小的尺寸，其僅僅具有在關(guān)閉閥體 11時(shí)使閥體11和桿部13沿著箭頭b的方向運(yùn)動(dòng)所必要的驅(qū)動(dòng)力。結(jié)果， 根據(jù)該實(shí)施例，當(dāng)與驅(qū)動(dòng)部分要求等于或高于作用在排氣口上的大氣壓 力的驅(qū)動(dòng)力的傳統(tǒng)布置相比較時(shí)，可以使驅(qū)動(dòng)部分12的缸14緊湊。
[00301如圖1-1A中所示，必要時(shí)，可變孔口 23可以布置在排氣口 6和連接部分8之間。0031關(guān)于根據(jù)具有以上布置的該實(shí)施例的真空處理設(shè)備1，將說(shuō) 明抽空真空室5的內(nèi)部的操作。
[0032當(dāng)抽空真空室5的內(nèi)部時(shí)，控制器180驅(qū)動(dòng)排氣泵6以抽空 連接部分8的內(nèi)部。這時(shí)，閥體11可以位于封閉位置Pl或打開(kāi)位置P2。 用作探測(cè)閥體ll位置的探測(cè)器的傳感器(未示出)探測(cè)閥體ll的位置。 探測(cè)輸出被輸入到控制器180。
[00331首先，當(dāng)恢復(fù)時(shí)，即打開(kāi)僅真空室5的內(nèi)部以接近大氣壓力 時(shí)，在控制器180的控制下，缸14被驅(qū)動(dòng)，使得閥體11沿著箭頭b的 方向運(yùn)動(dòng)并在封閉位置P1處停止。然后，僅真空室5的內(nèi)部開(kāi)放到接近 大氣壓力。
[0034相繼地，當(dāng)真空室5的內(nèi)部待抽空成真空時(shí)，控制器180驅(qū) 動(dòng)輔助泵(未示出)以抽空真空室5的內(nèi)部。然后，缸14使桿部13沿 著箭頭a的方向運(yùn)動(dòng)，使得閥體11在打開(kāi)位置P2處停止。
0035根據(jù)該實(shí)施例的真空處理設(shè)備1,連接部分8沿著從閥體11 的運(yùn)動(dòng)方向傾斜的方向延伸，并且驅(qū)動(dòng)部分12的桿部13沿著閥體11的 運(yùn)動(dòng)方向延伸。借助該布置，可以減少真空室5外安裝用于閘閥7的驅(qū) 動(dòng)部分12的缸14和排氣泵6所必要的空間，由此減少空間。因此，借 助真空處理設(shè)備l，整個(gè)設(shè)備可以制造得緊湊。
0036根據(jù)該實(shí)施例，閥體11小于真空室5的排氣口 10，并且密 封部分16在連接部分8的端部處形成。因而，包括閘閥7和排氣泵6的 排氣系統(tǒng)可以從真空室5去除并以組裝狀態(tài)附裝至真空室5。更具體地， 閘閥7可以比較容易地從真空室5去除而不用完全拆卸閘閥7和排氣泵 6。因此，借助真空處理設(shè)備l，維持了工作效率，例如閘閥7的驅(qū)動(dòng)部 分12可以改進(jìn)。
[0037而且，根據(jù)該實(shí)施例，在岡體11布置在真空室5中時(shí)，驅(qū)動(dòng) 部分12的缸14可以制造得緊湊。00381 (第二實(shí)施例)
在上述第一實(shí)施例中，釆用排氣泵6通過(guò)連接部分8與真空室5相通的布置。或者，可以采用在真空室5和連接部分8之間另外布置另一 連接部分的布置。
[0039圖2-2A和2B是根據(jù)第二實(shí)施例的真空處理設(shè)備的剖視圖。 在第二實(shí)施例中，與第一實(shí)施例的真空處理設(shè)備的組成構(gòu)件以相同的方 式起作用的組成構(gòu)件用相同的附圖標(biāo)記表示，并且將省略重復(fù)的說(shuō)明。
0040如圖2-2A和2B所示，第二實(shí)施例的真空處理設(shè)備2包括與 第 一實(shí)施例中的連接部分8相對(duì)應(yīng)的第 一連接部分28。第 一連接部分28 的一端連接至第二連接部分29。第一連接部分28的另 一端連接至排氣泵 6。第二連接部分29形成直管。第二連接部分29的一端插入并連接至真 空室5的排氣口 10。第二連接部分29的另一端連接并固定至第一連接部 分28。
[0041閘閥7的閥體11的外形的尺寸大于插入并連接至排氣口 10 的第二連接部分29的一端的開(kāi)口區(qū)域。當(dāng)閥體11運(yùn)動(dòng)至封閉位置Pl時(shí)， 閥體11可以封閉第二連接部分29的一端。閥體ll的外形的尺寸小于真 空室5的排氣口 IO的開(kāi)口區(qū)域。第二連接部分29的一端設(shè)有密封部分 16以與閥體11密封真空室5的內(nèi)部。因而，當(dāng)閥體ll運(yùn)動(dòng)至封閉位置 Pl時(shí)，閥體11通過(guò)密封部分16抵靠第二連接部分29的一端的端面， 由此能夠密封地封閉真空室5的內(nèi)部。
[00421第二實(shí)施例也可以采用以與第 一 實(shí)施例相同的方式將可變孔 口 23布置在排氣泵6和第一連接部分28之間的布置。
[0043第二實(shí)施例的真空處理設(shè)備2的操作與上述第一實(shí)施例的真 空處理設(shè)備l的操作相同，并且因此將省略重復(fù)的說(shuō)明。
[0044在該實(shí)施例的真空處理設(shè)備2中，第二連接部分29在真空室 5的排氣口 10和沿著從閥體11的運(yùn)動(dòng)方向傾斜的方向延伸的第一連接部 分28之間形成。借助這種布置，第一連接部分28的位置可以相對(duì)于真 空室5的排氣口 10在閥體11的運(yùn)動(dòng)方向上移動(dòng)。由此可以確保真空室5 和排氣泵6之間的空間。換句話說(shuō)，因?yàn)檎婵仗幚碓O(shè)備2包括第二連接 部分29，所以可以確?？拷艢饪?10的期望的空間。0045(器件制造方法)
可以在半導(dǎo)體制造處理或液晶制造處理中的襯底處理中適當(dāng)?shù)夭捎?根據(jù)各第一和第二實(shí)施例的真空處理設(shè)備。制造半導(dǎo)體器件或液晶器件 (下文將僅僅稱為"器件，，)的器件制造方法具有用于使用根據(jù)第一或第 二實(shí)施例的真空處理設(shè)備處理襯底的處理。
[00461雖然已經(jīng)參照典型實(shí)施例說(shuō)明本發(fā)明，但應(yīng)理解本發(fā)明不限 制于所公開(kāi)的典型實(shí)施例。下述權(quán)利要求的范圍將與最廣泛解釋一致， 從而包含所有這些修改和等同結(jié)構(gòu)以及功能。
權(quán)利要求
1. 一種包括真空室的真空處理設(shè)備，其包括布置在所述真空室中的閘閥，所述閘閥包括閥體和用于使所述閥體運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置，所述閥體沿著接近和離開(kāi)所述真空室的排氣口的方向運(yùn)動(dòng)以打開(kāi)/封閉所述排氣口；連接部分，所述連接部分的一端連接至所述真空室的所述排氣口，并且所述連接部分沿著從所述閥體的運(yùn)動(dòng)方向傾斜的方向形成；以及排氣泵，所述排氣泵連接至所述連接部分的另一端且能夠抽空所述連接部分的內(nèi)部，其中所述閘閥布置在所述連接部分的所述一端和所述另一端之間，以及所述閘閥布置在所述連接部分的外部。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空處理設(shè)備，其中所述閥體形成為大于所述連接部分的所述一端的開(kāi)口區(qū)域。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空處理設(shè)備，其中所述閥體形成為小于所述真空室的所述排氣口的開(kāi)口區(qū)域，以及所述連接部分的所述一端設(shè)有密封部分，所述密封部分接觸所述 閥體并維持所述真空室中形成的密封狀態(tài)。
4. 一種包括真空室的真空處理設(shè)備，其包括 布置在所述真空室中的閘閥，所述閘閥包括閥體和用于使所述閥體運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置，所述閥體沿著接近和離開(kāi)所述真空室的排氣口的方向運(yùn)動(dòng)以打開(kāi)/封閉所述排氣口 ；沿著從所述閥體的運(yùn)動(dòng)方向傾斜的方向形成的第一連接部分； 第二連接部分，所述第二連接部分的一端連接至所述真空室的所述排氣口且另一端連接至所述第一連接部分的一端，并且所述第二連接部分沿著與所述閥體的運(yùn)動(dòng)方向平行的方向形成；以及排氣泵，所述排氣泵連接至所迷第一連接部分的另一端并能夠抽空所述第一連接部分的內(nèi)部和所述第二連接部分的內(nèi)部，其中所述閘閥布置在所述第二連接部分的所述一端和所述另一端之間，以及所述閘閥布置在所述第二連接部分的外部。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空處理設(shè)備，其中所述閥體形成為大于所述第二連接部分的所述一端的開(kāi)口區(qū)域。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空處理設(shè)備，其中所述閥體形成為小于所述真空室的所述排氣口的開(kāi)口區(qū)域，以及所述第二連接部分的所述一端設(shè)有密封部分，所述密封部分接觸 所述閥體并維持所述真空室中形成的密封狀態(tài)。
7. —種控制真空處理設(shè)備的方法，所述真空處理設(shè)備包括真空室 和閘閥，所述閘閥布置在所述真空室中并且包括閥體和用于使所述閥 體運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置，所述閥體沿著接近和離開(kāi)所述真空室的排氣口的 方向運(yùn)動(dòng)以打開(kāi)/封閉所述排氣口 ，所述方法包括排氣步驟，驅(qū)動(dòng)排氣泵，由此抽空所述連接部分的內(nèi)部，所述排 氣泵通過(guò)沿著從所述閥體的運(yùn)動(dòng)方向傾斜的方向形成的連接部分而連 接至所述真空室的所述排氣口；以及運(yùn)動(dòng)步驟，在所述連接部分的內(nèi)部在所述排氣步驟中被排空之后 通過(guò)驅(qū)動(dòng)所述閘閥的所述驅(qū)動(dòng)裝置而4吏所述閥體運(yùn)動(dòng)。
8. —種器件制造方法，其包括使用根據(jù)權(quán)利要求l所述的真空處 理設(shè)備處理襯底的步驟。
9. 一種器件制造方法，其包括使用根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空處 理設(shè)備處理村底的步驟。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種真空處理設(shè)備、控制其的方法及器件制造方法，其中減小安裝閘閥的驅(qū)動(dòng)部分和排氣泵所必要的空間使整個(gè)設(shè)備緊湊。該設(shè)備包括真空室(5)、與真空室(5)的排氣口(10)相通的排氣泵(6)、以及具有閥體(11)的閘閥(7)，該閥體沿著接近和離開(kāi)排氣口(10)的方向運(yùn)動(dòng)以打開(kāi)/封閉排氣口(10)。真空室(5)設(shè)有沿著從閥體(11)的運(yùn)動(dòng)方向傾斜的方向從排氣口(10)延伸的連接部分(8)。連接部分(8)連接至排氣泵(6)。閘閥(7)包括設(shè)在真空室(5)中的閥體(11)、具有沿閥體(11)的運(yùn)動(dòng)方向延伸且驅(qū)動(dòng)閥體(11)的桿部(13)的驅(qū)動(dòng)部分(12)。驅(qū)動(dòng)部分(12)布置在連接部分(8)的外部。
文檔編號(hào)F16K24/00GK101532582SQ200910126498
公開(kāi)日2009年9月16日 申請(qǐng)日期2009年3月13日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月14日
發(fā)明者白井泰幸 申請(qǐng)人:佳能安內(nèi)華股份有限公司