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閥板電泳屏蔽治具的制作方法

文檔序號:40553438發(fā)布日期:2025-01-03 11:13閱讀:11來源:國知局
閥板電泳屏蔽治具的制作方法

本技術(shù)涉及精密制造技術(shù)及使用裝備,具體的,是一種閥板電泳屏蔽治具。


背景技術(shù):

1、如圖1所示的閥板100,閥板100的周邊需要做電泳處理,閥板面101又要求全部研磨處理,當前的工藝:粗磨-拋光去毛刺-電泳-精磨,產(chǎn)品粗磨后進行電泳加工,再用精磨設(shè)備磨掉閥板100端面上的電泳漆。

2、精磨時,閥板100通過閥板裝配孔102固定在治具上以保證閥板100沿周涂層不備破壞,這就導致一些高效率的通過式端面磨床不能用于該類零件生產(chǎn),在閥板零件生產(chǎn)中只能使用單端面磨床,生產(chǎn)效率很低,精磨成本比較高。

3、因此,需要提供一種閥板電泳屏蔽治具來解決上述問題。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的是提供一種閥板電泳屏蔽治具。

2、本實用新型通過如下技術(shù)方案實現(xiàn)上述目的:

3、一種閥板電泳屏蔽治具,包括下固定板,下固定板上設(shè)置有若干定位柱,閥板或隔離墊片其中之一通過定位柱,精準定位式的載入,形成高精準定位載入結(jié)構(gòu),并再次通過高精準定位載入結(jié)構(gòu)隔離墊片或閥板另一,形成墊板隔離墊片組合結(jié)構(gòu),后依次通過高精準定位載入結(jié)構(gòu)、墊板隔離墊片組合結(jié)構(gòu)裝載至電泳做業(yè)數(shù)量所需;并對應定位柱設(shè)置上方壓板,形成只進行閥板周邊電泳的閥板電泳屏蔽治具。

4、進一步的,隔離墊片由耐高溫硅膠墊構(gòu)成。

5、進一步的,隔離墊片的直徑大于閥板0.3mm-0.8mm。

6、進一步的,定位柱數(shù)量為2-5個。

7、進一步的,下固定板和上方壓板對應閥板裝載面設(shè)置有研磨見光層。

8、進一步的,研磨見光層直徑和閥板一致,跟耐高溫屏蔽墊片接觸,防止電泳后電泳漆堆積。

9、進一步的,上方壓板上設(shè)置有吊裝環(huán)。

10、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型通過只進行閥板周邊電泳的閥板電泳屏蔽治具,不需要進行墊板面的后續(xù)電泳漆清除,不存在電泳破壞的問題,可以采用高效率的雙端面研磨設(shè)備,大幅度的提升生產(chǎn)效率,降低成本。



技術(shù)特征:

1.一種閥板電泳屏蔽治具,其特征在于:包括下固定板,下固定板上設(shè)置有若干定位柱,閥板或隔離墊片其中之一通過定位柱,精準定位式的載入,形成高精準定位載入結(jié)構(gòu),并再次通過高精準定位載入結(jié)構(gòu)隔離墊片或閥板另一,形成墊板隔離墊片組合結(jié)構(gòu),后依次通過高精準定位載入結(jié)構(gòu)、墊板隔離墊片組合結(jié)構(gòu)裝載至電泳做業(yè)數(shù)量所需;并對應定位柱設(shè)置上方壓板,形成只進行閥板周邊電泳的閥板電泳屏蔽治具。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種閥板電泳屏蔽治具,其特征在于:隔離墊片由耐高溫硅膠墊構(gòu)成。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種閥板電泳屏蔽治具,其特征在于:隔離墊片的直徑大于閥板0.3mm-0.8mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種閥板電泳屏蔽治具,其特征在于:定位柱數(shù)量為2-5個。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種閥板電泳屏蔽治具,其特征在于:下固定板和上方壓板對應閥板裝載面設(shè)置有研磨見光層。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種閥板電泳屏蔽治具,其特征在于:研磨見光層直徑和閥板一致,跟耐高溫屏蔽墊片接觸,防止電泳后電泳漆堆積。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種閥板電泳屏蔽治具,其特征在于:上方壓板上設(shè)置有吊裝環(huán)。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)閥板電泳屏蔽治具,包括下固定板,下固定板上設(shè)置有若干定位柱,閥板或隔離墊片其中之一通過定位柱,精準定位式的載入,形成高精準定位載入結(jié)構(gòu),并再次通過高精準定位載入結(jié)構(gòu)隔離墊片或閥板另一,形成墊板隔離墊片組合結(jié)構(gòu),后依次通過高精準定位載入結(jié)構(gòu)、墊板隔離墊片組合結(jié)構(gòu)裝載至電泳做業(yè)數(shù)量所需;并對應定位柱設(shè)置上方壓板,形成只進行閥板周邊電泳的閥板電泳屏蔽治具。

技術(shù)研發(fā)人員:洪福卿,陳菊林,洪匯敏
受保護的技術(shù)使用者:蘇州運恒精沖科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20231211
技術(shù)公布日:2025/1/2
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