本發(fā)明涉及印制線路板化學品技術(shù)領域，特別是涉及一種電鍍銅鍍液。

背景技術(shù)：

酸銅電鍍在電子工業(yè)，尤其是在印制線路板和半導體的制造中具有重要應用。典型的酸性鍍銅液含硫酸銅和硫酸，其作用是為電鍍提供銅源和導電性。電鍍液中還含有cl^-、光亮劑、抑制劑和整平劑，以便使電鍍能順利進行，提高鍍層質(zhì)量和深鍍能力。cl^-和光亮劑(也稱促進劑)能促進銅在鍍板上的沉積并使鍍層表面光亮。抑制劑起著潤濕鍍板、抑制銅的沉積速度。整平劑在電鍍中起著特別重要的作用，它使基材凹凸不平的表面平滑并能提高鍍孔的深鍍能力，以獲得高質(zhì)量的鍍件。

酸性鍍銅工藝中，電鍍陽極一般都是采用可溶性的銅球，其含有99.9％以上的銅、0.03～0.06％左右的磷以及其他金屬。在電鍍的過程中，銅陽極中的銅和磷會在陽極表面形成一層黑色的cu3p膜，防止亞銅離子直接進入到槽液中生成銅粉或者銅顆粒。在生產(chǎn)過程中，由于銅球逐漸被消耗，陽極泥逐漸增加，加上受槽液中沖刷的影響，這種黑色的cu3p會逐漸脫落，沉積在鈦籃的底部，造成陽極泥過多，從而影響電鍍均勻性，造成電鍍過程中板件上下的銅厚相差較大，因此，工廠一般2到3個月需要提出鈦籃，進行陽極清洗。

因此需要開發(fā)一種能延緩陽極泥脫落，延長清洗陽極周期的電鍍銅鍍液。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

基于此，本發(fā)明的目的是提供一種能延緩陽極泥脫落，延長清洗陽極周期的電鍍銅鍍液。

具體的技術(shù)方案如下：

一種電鍍銅鍍液，包括如下組分：

在其中一些實施例中，該電鍍銅鍍液包括如下組分：

在其中一些實施例中，所述過渡金屬鹽的陽離子選自vo²⁺、mn²⁺、fe²⁺、co²⁺或zro²⁺中的一種或幾種。

在其中一些實施例中，所述過渡金屬鹽的陰離子選自s2o3^2-或cl^-。

在其中一些實施例中，所述光亮劑選自聚二硫二丙磺酸鈉、苯基二硫代丙烷磺酸鈉、n,n-二甲基硫代氨基甲?；榛撬徕c、咪唑啉基聚二硫丙烷磺酸鈉、n,n-二乙基硫脲中一種或幾種。

在其中一些實施例中，所述光亮劑選自聚二硫二丙磺酸鈉、苯基二硫代丙烷磺酸鈉中一種或兩種。

在其中一些實施例中，所述抑制劑選自聚亞烷基二醇化合物、聚乙烯醇、羧甲基纖維素、聚乙二醇，硬脂酸聚乙二醇酯，烷氧基萘酚，油酸聚乙二醇酯，聚(乙二醇-丙二醇)無規(guī)共聚物，聚(聚乙二醇-聚丙二醇-聚乙二醇)嵌段共聚物，聚(聚丙二醇-聚乙二醇-聚丙二醇)嵌段共聚物中一種或幾種。

在其中一些實施例中，所述抑制劑選自聚(聚丙二醇-聚乙二醇-聚丙二醇)嵌段共聚物、聚(乙二醇-丙二醇)無規(guī)共聚物或聚乙二醇中一種或幾種。

上述電鍍銅鍍液中，加入和50-1000mg/l(ppm)的過渡金屬鹽，該過渡金屬鹽能很好吸附在銅陽極表面，保護陽極上的cu3p的黑膜不易脫落，從而延緩銅陽極泥的脫落。該過渡金屬鹽在電鍍銅生產(chǎn)過程中消耗極低或不消耗，不需要額外補充。

附圖說明

圖1為實施例1電鍍銅鍍液正常生產(chǎn)三個月后陽極泥的照片；

圖2為對比例1電鍍銅鍍液正常生產(chǎn)三個月后陽極泥的照片。

具體實施方式

為了便于理解本發(fā)明，下面將對本發(fā)明進行更全面的描述。但是，本發(fā)明可以以許多不同的形式來實現(xiàn)，并不限于本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對本發(fā)明的公開內(nèi)容的理解更加透徹全面。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學術(shù)語與屬于本發(fā)明的技術(shù)領域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本發(fā)明的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在于限制本發(fā)明。本文所使用的術(shù)語“和/或”包括一個或多個相關(guān)的所列項目的任意的和所有的組合。

實施例1

一種電鍍銅鍍液，包括如下組分：

過渡金屬鹽可以通過如下方法加入：在50kg的容器中，添加38.85kg的去離子水，再緩慢加入1.9kg的98％濃硫酸，攪拌均勻，在攪拌下添加9.25kg的voso4·4h2o，攪拌至溶解完全，讓溶液降到室溫，最后采用孔徑5μ孔徑的濾芯過濾，得到添加劑。

連續(xù)生產(chǎn)三個月的銅陽極，在線外清洗干凈后，放回到電鍍槽中。分析調(diào)配電鍍藥水濃度在工作范圍內(nèi)后，按3ml/l的量加入添加劑，即可再正常生產(chǎn)。

實施例2

一種電鍍銅鍍液，包括如下組分：

過渡金屬鹽可以通過如下方法加入：在100kg的容器中，添加68kg的去離子水，再緩慢加入1.0kg的98濃硫酸和1.0kg的37％甲醛，攪拌均勻，在攪拌下添加5kg的mnso4·7h2o，攪拌至溶解完全，讓溶液降到室溫，最后采用5μ孔徑的濾芯過濾，得到添加劑。

新開線的電鍍槽，將銅球酸洗干凈后置于電鍍槽中，配制好新的電鍍藥水，包括硫酸銅、硫酸、氯離子以及適量的電鍍添加劑。分析調(diào)配藥水到工作范圍后，以1ml/l的量加入添加劑，攪拌均勻，即可進行新開缸的正常生產(chǎn)。

實施例3

一種電鍍銅鍍液，包括如下組分：

過渡金屬鹽可以通過如下方法加入：在100kg的容器中，添加86.7kg的去離子水，再緩慢加入2.5kg的濃硫酸和0.8kg的37％甲醛，攪拌均勻，在攪拌下添加20kg的coso4·7h2o，攪拌至溶解完全，讓溶液降到室溫，最后采用孔徑5μ孔徑的濾芯過濾，得到添加劑。

清洗銅陽極后的電鍍槽或新開缸的電鍍槽以5ml/l的量加入添加劑，即可按照正常生產(chǎn)。

實施例4

一種電鍍銅鍍液，包括如下組分：

過渡金屬鹽可以通過如下方法加入：在50kg的容器中，添加32.5kg的去離子水，再緩慢加入2.5kg的98％濃硫酸，攪拌均勻，在攪拌下添加8kg的feso4·9h2o和10kg放入voso4·4h2o，攪拌至溶解完全，讓溶液降到室溫，最后采用孔徑5μ孔徑的濾芯過濾，得到添加劑。

清洗銅陽極后的電鍍槽或新開缸的電鍍槽以1ml/l的量加入添加劑，即可按照正常生產(chǎn)。

實施例5

一種電鍍銅鍍液，包括如下組分：

過渡金屬鹽可以通過如下方法加入：在50kg的容器中，添加24.8kg的去離子水，再緩慢加入2.7kg的98％濃硫酸和0.5kg的37％甲醛，攪拌均勻，在攪拌下添加4kg的fecl3·6h2o和8kg放入zroso4·4h2o，攪拌至溶解完全，讓溶液降到室溫，最后采用孔徑5μ孔徑的濾芯過濾，得到添加劑。

清洗銅陽極后的電鍍槽或新開缸的電鍍槽以4ml/l的量加入添加劑，即可按照正常生產(chǎn)。

實施例6

一種電鍍銅鍍液，包括如下組分：

過渡金屬鹽可以通過如下方法加入：清洗銅陽極后的電鍍槽或新開缸的電鍍槽，添加1000ppm的mnso4·7h2o，開啟循環(huán)攪拌均勻后，即可按照正常生產(chǎn)。

實施例7

一種電鍍銅鍍液，包括如下組分：

過渡金屬鹽可以通過如下方法加入：清洗銅陽極后的電鍍槽或新開缸的電鍍槽，添加50ppm的voso4·4h2o和50ppm的zroso4·4h2o，開啟循環(huán)攪拌均勻后，即可按照正常生產(chǎn)。

對比例1

一種電鍍銅鍍液，包括如下組分：

實施例1和對比例1的電鍍銅鍍液在正常生產(chǎn)3個月后，陽極泥的照片分別如圖1和圖2所示。

圖1為含有過渡金屬鹽的電鍍銅溶液，使用3個月后，鈦籃底部陽極泥很少，無紅色的銅粉出現(xiàn)；圖2為不含過渡金屬鹽的電鍍銅溶液，使用3個月后，鈦籃底部有大量陽極泥和紅色的銅粉出現(xiàn)。

以上所述實施例的各技術(shù)特征可以進行任意的組合，為使描述簡潔，未對上述實施例中的各個技術(shù)特征所有可能的組合都進行描述，然而，只要這些技術(shù)特征的組合不存在矛盾，都應當認為是本說明書記載的范圍。

以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對發(fā)明專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此，本發(fā)明專利的保護范圍應以所附權(quán)利要求為準。