1.鎂電解槽流水線，包括通過連接通道(4)依次相連的頭槽(1)、電解槽(2)和分離槽(3)，所述電解槽(2)包括多個且相互串聯(lián)，其特征是：所述每個電解槽(2)的兩端之間均設(shè)有一段旁路通道(5)，旁路通道(5)的兩端與連接通道(4)相連，所述分離槽(3)內(nèi)設(shè)有氣壓泵(6)，氣壓泵(6)用于將分離槽(3)中的電解質(zhì)熔體輸送到頭槽(1)形成循環(huán)流水線。
2.如權(quán)利要求1所述的鎂電解槽流水線，其特征是：所述流水線上從頭槽(1)到電解槽(2)，再到分離槽(3)，每個槽體之間均設(shè)有2～10mm的落差。
3.如權(quán)利要求1所述的鎂電解槽流水線，其特征是：所述電解槽(2)兩端的連接通道(4)和旁路通道(5)內(nèi)均可臨時(shí)設(shè)置可以調(diào)節(jié)流量的擋板(7)。
4.如權(quán)利要求1所述的鎂電解槽流水線，其特征是：所述流水線內(nèi)電解質(zhì)溫度控制在670～710℃。
5.如權(quán)利要求4所述的鎂電解槽流水線，其特征是：所述氣壓泵(6)采用能經(jīng)受670～730℃高溫的材質(zhì)制作，且能經(jīng)受以氯化鎂、氯化鉀、氯化鈉、氯化鈣為主要成份的熔體的侵蝕。
6.采用如權(quán)利要求1～5任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的鎂電解槽流水線進(jìn)行單槽運(yùn)行并入流水線的方法，其特征是，包括以下步驟：
a、將單獨(dú)運(yùn)行的電解槽內(nèi)熔體液位提升到與靠近的連接通道內(nèi)的熔體液面基本持平的位置；
b、打開該單獨(dú)運(yùn)行的電解槽的進(jìn)口端使其與電解流水線保持熔體互通，在該電解槽運(yùn)行正常后，打開該電解槽另一端出口，使該電解槽保持雙通道運(yùn)行；
c、當(dāng)該單獨(dú)的電解槽兩端的連接通道運(yùn)行正常后，關(guān)閉該電解槽兩端之間的旁路通道，該電解槽即正常并入流水線循環(huán)運(yùn)行。
7.如權(quán)利要求6所述單槽運(yùn)行并入流水線的方法，其特征是：步驟a中單獨(dú)運(yùn)行的電解槽內(nèi)熔體溫度達(dá)到670～730℃后再進(jìn)行步驟b。
8.如權(quán)利要求6所述單槽運(yùn)行并入流水線的方法，其特征是：在步驟b中電解槽保持雙通道運(yùn)行后，通過調(diào)節(jié)連接通道和旁路通道上的擋板來對流經(jīng)電解槽和旁路通道的流量進(jìn)行調(diào)節(jié)，以使電解槽及其兩端的連接通道運(yùn)行正常。
9.如權(quán)利要求6所述單槽運(yùn)行并入流水線的方法，其特征是：單獨(dú)運(yùn)行的電解槽內(nèi)熔體與連接通道內(nèi)熔體互通后，當(dāng)該槽產(chǎn)生的鎂通過熔體互通不能全部進(jìn)入流水線流到分離槽時(shí)，則采用人工趕鎂的方式將該槽電解產(chǎn)生的鎂趕入旁路通道。
10.如權(quán)利要求6所述單槽運(yùn)行并入流水線的方法，其特征是：單獨(dú)運(yùn)行的電解槽內(nèi)熔體與連接通道內(nèi)熔體互通后，當(dāng)槽內(nèi)電解質(zhì)成份達(dá)不到電解工藝要求時(shí)，需通過單獨(dú)加料調(diào)節(jié)，使其與流水線內(nèi)其它電解質(zhì)成份保持基本一致。