技術總結
本發(fā)明公開了一種在純鋁表面形成納米級多孔膜層的方法，具有以下步驟：①對純鋁表面進行預處理；②將步驟①預處理后的純鋁作為陽極且與作為陰極的鉑電極一起放入電化學拋光溶液中，并使陰陽極間距為50mm～70mm，然后在環(huán)境溫度下，在80mA/cm2～160mA/cm2的電流密度下進行電化學拋光10s～90s，從而在純鋁表面形成納米級多孔膜層；所述的電化學拋光溶液由1,2?丙二醇與高氯酸按照9∶1～2∶1的體積比組成；③對步驟②電化學拋光后的純鋁進行清洗和烘干。本發(fā)明通過電化學拋光在純鋁表面形成納米級多孔膜層，大大縮短了多孔陽極氧化鋁膜的生產周期，而且所得到的納米級多孔膜層還具有范圍大、高度有序等優(yōu)點。

技術研發(fā)人員：馬迪;李樹白;陳祥燕
受保護的技術使用者：江蘇理工學院
文檔號碼：201510746725
技術研發(fā)日：2013.05.17
技術公布日：2017.06.16