專利名稱:一種寬溫、寬電流、寬光亮型無氰堿性鍍鋅工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種鍍鋅工藝方法,具體地說是一種寬溫、寬電流、寬光亮型無氰堿性鍍鋅工藝。
背景技術(shù):
再無氰堿性鍍鋅中加入光亮劑(單體、中間體以及它們的混合復(fù)配物)后,宏觀上看鍍層表面的光亮度、光潔度都有很大程度地提高,基本上也可以滿足一般的需要;但從微觀上看,鍍層織構(gòu)的晶粒比較粗糙、疏松,有的還有不太明顯的氣流疤痕或腫瘤狀,而且高、 低電流區(qū)的沉積層厚度之差也比較大,甚至有高區(qū)粗糙、低區(qū)漏鍍之現(xiàn)象。這些缺陷固然與光亮劑的分散性能即業(yè)內(nèi)人常講的“走位性”有關(guān),然而深入研究后發(fā)現(xiàn),主要還是與光亮劑在鍍液中不能充分地溶解、分散有關(guān);并且,由此還致使光亮劑消耗量過大。眾所周知,在酸性體系的氯化物鍍鋅、硫酸鹽鍍鋅中,出現(xiàn)上述出現(xiàn)的問題相對而言就顯得少多了,表現(xiàn)在鍍層外觀細致、光亮、柔和等。究其原因可知,酸性體系的鍍鋅液中,加入的光亮劑是由載體添加劑、主光劑和輔助劑組合而成。其主光劑是很難溶于鍍液中而需要靠“載體”來助溶的。如果沒有載體助溶,所得到的鍍層亦是呈疤痕或腫瘤狀的較亮外觀;沒有輔助劑,整個鍍層外觀就不會均勻、柔和。由此,可以想到堿性鍍鋅中的光亮劑,也應(yīng)該選擇一些合適的“載體”來助溶,使主光劑本身體更完全地溶解、分散于鍍液中, 釋放出更光亮、柔和、均勻的效果。盡管堿性鍍鋅的光亮劑的單體、中間體、合成體在水溶液中的溶解性要遠比酸性鍍鋅中的芐叉丙酮、鄰-氯苯甲醛等容易得多,但也還是需要“載體”促使其更加完全地溶解。在堿性鍍鋅中,可作為主光劑的物質(zhì)很多。除了常規(guī)的無機金屬鹽、有機鹽及化合物之外,當(dāng)今作為主光劑的中間體有芐基煙酸嗡鹽、咪唑丙氧基縮合物、氯化六次甲基三季胺鹽、二甲胺基丙胺和乙二胺與環(huán)氧氯丙烷的縮合物、水溶性陽離子季胺鹽;還有季胺化聚乙烯咪唑、低分子量的聚乙烯亞胺、甲氧基苯甲醛等。這些中間體各自或組合起來均有一定的增光作用,但對鍍層而言并不完善,在基礎(chǔ)液中僅加入主光劑,盡管鍍層的光亮度可大幅度地呈現(xiàn),但由于其未能充分地溶入本體鍍液中并均勻地吸附、潤濕在金屬/溶液界面,導(dǎo)致不可避免地在金屬表面特別是高電流區(qū)出現(xiàn)氣流、疤痕狀,在低電流區(qū)甚至有霧色、漏鍍現(xiàn)象。結(jié)晶晶粒較大,鍍層厚度極不均勻,且脆性較大。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是針對現(xiàn)有電鍍鋅工藝的缺陷,提供一種寬溫、寬電流、寬光亮型無氰堿性鍍鋅工藝。本發(fā)明工藝制得的鍍層光亮、均勻、脆性低,易鈍化。本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)一種寬溫、寬電流、寬光亮型無氰堿性鍍鋅工藝, 其工藝如下21108 ―12 8/1
00120 ― 140
光亮劑15 ―20 1111/1
鹵化氨基脲聚合物15 ― 20 1111/1
陰極電流密度0.5 ― 8.0^/(11112
操作溫度5 — 45 0。。
〔0008〕 其中所述的光亮劑由煙酸、乙胺四乙酸二鈉溶液、三醇基代聚颯、芐基煙酸鈉和四 氫噻唑硫酮溶液混合制備而成;所述的鹵化氨基脲聚合物的濃度為200-250克/1。鹵化氨 基脲聚合物為市場上購買的產(chǎn)品。
〔0009〕 較好的技術(shù)方案是所述的光亮劑由下述方法制備取100至150毫升濃度為0丨05 克I毫升的煙酸,80至100毫升濃度為0丨10^1的乙胺四乙酸二鈉溶液,80至120毫升的 三醇基代聚颯,40至60毫升的芐基煙酸鈉,150至200毫升濃度為0丨01 ^的四氫噻唑硫 酮溶液混在一起,補加蒸餾水至1000毫升,攪拌均勻即成。
〔0010〕 更好的技術(shù)方案是所述的光亮劑由下述方法制備取125毫升濃度為0.05克義毫 升的煙酸,100毫升濃度為0丨10^1的乙胺四乙酸二鈉溶液,100毫升的三醇基代聚颯,40 毫升的芐基煙酸鈉,180毫升濃度為0丨01^1的四氫噻唑硫酮溶液混在一起,補加蒸餾水 至1000毫升,攪拌均勻即成。
〔0011〕 本發(fā)明工藝制得的鍍層光亮、均勻、脆性低,易鈍化,操作容易控制,光亮劑的消耗 量下降,降低了成本,減少了污染。
具體實施例方式
〔0012〕 以下結(jié)合實施例對本發(fā)明做進一步描述
〔0013〕 實施例1
〔0014〕 本發(fā)明工藝如下
〔0015〕
2110 12 8/1 00140 8/1
光亮劑201111/1
鹵化氨基脲聚合物 20 1111/1
陰極電流密度8^/(1111 2
操作溫度45 0。。
〔0016〕 所述的鹵化氨基脲聚合物的濃度為250克/1。
〔0017] 所述的光亮劑由下述方法制備取100毫升濃度為0丨05克丨毫升的煙酸,100毫升 濃度為0丨10^1的乙胺四乙酸二鈉溶液,100毫升的三醇基代聚颯,40毫升的芐基煙酸鈉, 200毫升濃度為0丨01^1的四氫噻唑硫酮溶液混在一起,補加蒸餾水至1000毫升,攪拌均勻即成。實施例2本發(fā)明工藝如下
ZnO NaOH
光亮劑
鹵化氨基脲聚合物陰極電流密度
8g/l 120 g/1 15 ml/1 15 ml/1
ΙΑ/dm2
5C°c/L。
操作溫度所述的鹵化氨基脲聚合物的濃度為200克所述的光亮劑由下述方法制備取125毫升濃度為0. 05克/毫升的煙酸,100毫升濃度為0. 10g/mL的乙胺四乙酸二鈉溶液,100毫升的三醇基代聚颯,40毫升的芐基煙酸鈉, 180毫升濃度為0. Olg/mL的四氫噻唑硫酮溶液混在一起,補加蒸餾水至1000毫升,攪拌均勻即成。
實施例3
本發(fā)明工藝如下
ZnO NaOH
光亮劑
鹵化氨基脲聚合物陰極電流密度操作溫度
10 g/1 130 g/1 18 ml/1 18 ml/1 4A/ dm
20 C °o所述的鹵化氨基脲聚合物的濃度為225克/L。所述的光亮劑由下述方法制備取150毫升濃度為0. 05克/毫升的煙酸,80毫升濃度為0. 10g/mL的乙胺四乙酸二鈉溶液,120毫升的三醇基代聚颯,56毫升的芐基煙酸鈉, 150毫升濃度為0. Olg/mL的四氫噻唑硫酮溶液混在一起,補加蒸餾水至1000毫升,攪拌均勻即成。
權(quán)利要求
1.ー種寬溫、寬電流、寬光亮型無氰堿性鍍鋅エ藝,其エ藝如下ZnO8 —12 g/1NaOH120 — 140 g/1光亮劑15 —20 ml/1鹵化氨基脲聚合物15 — 20 ml/1陰極電流密度0.5 — 8.0 A/dm 2操作溫度5 — 45 C °。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ー種寬溫、寬電流、寬光亮型無氰堿性鍍鋅エ藝,其中所述的 光亮劑由煙酸、乙胺四乙酸ニ鈉溶液、三醇基代聚颯、芐基煙酸鈉和四氫噻唑硫酮溶液混合 制備而成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的ー種寬溫、寬電流、寬光亮型無氰堿性鍍鋅エ藝,其中所 述的光亮劑由下述方法制備取100至150毫升濃度為0. 05克/毫升的煙酸,80至100毫 升濃度為0. 10g/mL的乙胺四乙酸ニ鈉溶液,80至120毫升的三醇基代聚颯,40至60毫升 的芐基煙酸鈉,150至200毫升濃度為0. Olg/mL的四氫噻唑硫酮溶液混在一起,補加蒸餾水 至1000毫升,攪拌均勻即成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的ー種寬溫、寬電流、寬光亮型無氰堿性鍍鋅エ藝,其中 所述的光亮劑由下述方法制備取125毫升濃度為0. 05克/毫升的煙酸,100毫升濃度為 0. 10g/mL的乙胺四乙酸ニ鈉溶液,100毫升的三醇基代聚颯,40毫升的芐基煙酸鈉,180毫 升濃度為0. Olg/mL的四氫噻唑硫酮溶液混在一起,補加蒸餾水至1000毫升,攪拌均勻即 成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ー種寬溫、寬電流、寬光亮型無氰堿性鍍鋅エ藝,其中所述的 鹵化氨基脲聚合物的濃度為200-250克/L。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種鍍鋅工藝方法,具體地說是一種寬溫、寬電流、寬光亮型無氰堿性鍍鋅工藝。其工藝如下ZnO 8-12g/l、NaOH 120-140g/l、光亮劑15-20ml/l、鹵化氨基脲聚合物15-20ml/l、陰極電流密度0.5-8.0A/dm 2、操作溫度5-45℃。本發(fā)明工藝制得的鍍層光亮、均勻、脆性低,易鈍化,操作容易控制,光亮劑的消耗量下降,降低了成本,減少了污染。
文檔編號C25D3/22GK102304731SQ20111024259
公開日2012年1月4日 申請日期2011年8月23日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月23日
發(fā)明者周自強, 宋文超, 左正忠, 胡哲 申請人:武漢吉和昌化工科技有限公司