本發(fā)明涉及一種純化材料的設(shè)備,特別涉及一種超重力旋轉(zhuǎn)外甩,使氣體與液體分離的純化液態(tài)材料的設(shè)備。
背景技術(shù):
現(xiàn)有美國(guó)專利第5616245號(hào)提出一種超重力分離器以分離固體,主要系以超重力分離器除去水中的氧氣或其它氣體。依照電子多晶硅是可以從除去不純物如硼、磷的三氯硅烷或三氯硅烷與四氯化硅的混合物而獲得,然而大多數(shù)不純物可用分餾法除去,硼、磷等微量不純物通常是以bcl3、pcl3、b2h6或ph3的形式存在,但以分餾減少這些污染至可接受的低水準(zhǔn)需幾道連續(xù)分餾手續(xù),因此非常費(fèi)時(shí)費(fèi)事,導(dǎo)致純化效率不高,主要是不純物氣體的氣泡不易自液態(tài)的三氯硅烷及四氯化硅抽離出來(lái),并且不純物氣體可能溶于液體中。還有的原因是bcl3的沸點(diǎn)12.5℃及pcl3的沸點(diǎn)74.2℃不夠高也不夠低,在溫度高于32℃提取三氯硅烷時(shí)可能與三氯硅烷一起跑出來(lái)。
美國(guó)專利第4283225號(hào)提出一種旋轉(zhuǎn)機(jī)臺(tái)于兩種液體具高效率質(zhì)傳作用的制程,然而卻無(wú)一種技術(shù)設(shè)備是利用旋轉(zhuǎn)機(jī)臺(tái)憑借離心力甩出以除去硅原料的不純物并且可以達(dá)到高效率的設(shè)備。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
爰此,本發(fā)明的主要目的,在于提供一種能徹底解決現(xiàn)有采分餾純化方式及設(shè)備需要幾道連續(xù)分餾手續(xù),費(fèi)時(shí)費(fèi)事造成純化效率無(wú)法提升問(wèn)題的液態(tài)純化材料的設(shè)備。
為達(dá)上述目的,本發(fā)明提供一種液態(tài)純化材料的設(shè)備,其特征在于,包括:
一機(jī)體,具一腔室、一材料的輸入口、一抽氣口及一輸出口;
一離心單元,具有一轉(zhuǎn)盤及一將該轉(zhuǎn)盤樞設(shè)于該機(jī)體的底部的轉(zhuǎn)軸,該轉(zhuǎn)盤的表面環(huán)形分布有復(fù)數(shù)葉片,該復(fù)數(shù)葉片將該轉(zhuǎn)盤表面界定出一材料注入空 間;
一驅(qū)動(dòng)源,與該轉(zhuǎn)軸連接以驅(qū)動(dòng)該轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn);及
一集料元件,組裝在該腔室內(nèi),具有至少一錐形的聚料環(huán),該聚料環(huán)環(huán)設(shè)于該復(fù)數(shù)葉片的外周,使附著于該葉片形成滴狀或薄膜狀的已純化的液態(tài)材料向外甩,并附著在該聚料環(huán)的表面再向下積于該機(jī)體并由該輸出口導(dǎo)出。
所述的液態(tài)純化材料的設(shè)備,其中,該注入空間的中心具有隨該轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)呈錐形的一甩料頭,該甩料頭的頂部低于該轉(zhuǎn)盤的頂部。
所述的液態(tài)純化材料的設(shè)備,其中,該機(jī)體具有與該腔室相通的一開口,該開口憑借一上蓋封設(shè),該材料的輸入口、該抽氣口、該輸出口設(shè)于該上蓋。
所述的液態(tài)純化材料的設(shè)備,其中,該上蓋設(shè)有環(huán)形的一第二空間,該第二空間連通該上蓋的一冷卻用的第二循環(huán)管路,該第二循環(huán)管路具有一第二入口及一第二出口,使冷卻水由該第二循環(huán)管路的第二入口進(jìn)入該第二空間再由該第二出口導(dǎo)出。
所述的液態(tài)純化材料的設(shè)備,其中,該機(jī)體與該上蓋之間設(shè)有環(huán)形的具有彈性的一密封條。
所述的液態(tài)純化材料的設(shè)備,其中,該機(jī)體的外周壁為雙層而具有環(huán)形的一第一空間,該第一空間連通該機(jī)體的一冷卻用的第一循環(huán)管路,該第一循環(huán)管路具有一第一入口及一第一出口,該第一入口銜接冷卻水進(jìn)入該第一空間內(nèi),并由該第一出口導(dǎo)出。
所述的液態(tài)純化材料的設(shè)備,其中,該集料元件具有復(fù)數(shù)聚料環(huán),該復(fù)數(shù)聚料環(huán)呈上下排列連接并環(huán)設(shè)于該復(fù)數(shù)葉片的外周側(cè),位在最上方的該聚料環(huán)高出于該復(fù)數(shù)葉片,該聚料環(huán)的大圓徑端臨近于該腔室的底部,且上一個(gè)聚料環(huán)屬大圓徑的底端含蓋著下一個(gè)聚料環(huán)的小圓徑的頂端。
所述的液態(tài)純化材料的設(shè)備,其中,該復(fù)數(shù)葉片是弧形彎曲并以同一方向等距環(huán)形排列于該轉(zhuǎn)盤的表面,相鄰兩個(gè)該葉片之間形成一間距。
所述的液態(tài)純化材料的設(shè)備,其中,該輸入口末端連接一噴嘴,使通過(guò)該噴嘴的液態(tài)硅材料呈霧狀噴出。
所述的液態(tài)純化材料的設(shè)備,其中,該機(jī)體的底部設(shè)有至少一支撐腳,該驅(qū)動(dòng)源位于該機(jī)體底部的中央位置。
如此,本發(fā)明使液態(tài)硅材料與氧氣輸入于機(jī)體的腔室內(nèi),憑借該離心單元的轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn),當(dāng)液態(tài)硅材料進(jìn)入轉(zhuǎn)盤的注入空間,隨著轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)朝外被甩出, 于外甩途中使純化的液態(tài)硅材料呈滴狀或薄膜狀附著于葉片表面,因此氣態(tài)不純物可與液體分離,并被超重力甩出附著于該集料元件的聚料環(huán)表面,再往下滴落于該機(jī)體的腔室底部,經(jīng)由抽氣口被抽取出來(lái),使液態(tài)硅原料中無(wú)任何氣泡也無(wú)氣體溶于其中而能達(dá)到純化目的。
由于集料元件的聚料環(huán)系以復(fù)數(shù)個(gè)依序套接環(huán)設(shè)在該離心單元的葉片外周,復(fù)數(shù)聚料環(huán)構(gòu)成的集料元件的高度高于該復(fù)數(shù)葉片的高度,且該聚料環(huán)大圓徑的一端朝向該腔室的底部,小圓徑的一端鄰近該上蓋方向,得以錐形由下向上縮合以罩著該集料元件的該復(fù)數(shù)葉片,如此附著于葉片表面呈滴狀或薄膜狀被甩出的液態(tài)硅材料,可被聚料環(huán)罩著擋下,而附著于該聚料環(huán)的內(nèi)表面,并順著聚料環(huán)的錐度下滑積于該機(jī)體的腔室,可聚集已純化的液態(tài)硅材料往下積于該腔室的底部。
另外,本發(fā)明離心單元的該復(fù)數(shù)葉片的彎曲方向順著該轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)方向弧形彎曲,并以同一方向等距環(huán)形排列于該轉(zhuǎn)盤的表面,具有較大的表面以供純化的液態(tài)硅材料附著,并使附著于葉片表面的純化的液態(tài)硅材料能順著葉片曲線方向外甩,以導(dǎo)引附著于該集料元件的聚料環(huán)表面,可防止已純化的液態(tài)硅材料外甩時(shí)任意噴濺問(wèn)題。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明實(shí)施例的分解立體圖。
圖2為本發(fā)明實(shí)施例的組合縱向剖視圖。
圖3為本發(fā)明實(shí)施例的組合橫向剖視圖。
圖4為本發(fā)明實(shí)施例顯示輸入口裝有噴嘴的組合縱向剖視圖。
附圖標(biāo)記說(shuō)明:a-第一間距;b-第二間距;c-滴狀;d-霧狀;10-機(jī)體;11-腔室;12-上蓋;121-輸入口;122-抽氣口;123-第二空間;124-第二循環(huán)管路;124a-第二入口;124b-第二出口;125-噴嘴;13-密封條;14-第一空間;15-第一循環(huán)管路;151-第一入口;152-第一出口;16-輸出口;20-離心單元;21-動(dòng)力源;22-轉(zhuǎn)盤;23-轉(zhuǎn)軸;24-葉片;25-注入空間;26-甩料頭;30-集料元件;31-聚料環(huán)。
具體實(shí)施方式
茲有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)內(nèi)容及技術(shù)說(shuō)明,現(xiàn)以實(shí)施例來(lái)作進(jìn)一步說(shuō)明,但應(yīng) 了解的是,所述的這些實(shí)施例僅為例示說(shuō)明之用,而不應(yīng)被解釋為本發(fā)明實(shí)施的限制。
請(qǐng)參閱圖1~圖3,本發(fā)明揭示一種液態(tài)純化材料的設(shè)備,包括:一機(jī)體10、一離心單元20、一驅(qū)動(dòng)源21及一集料元件30。
該機(jī)體10,具一腔室11、一材料的輸入口121及與外面相通的至少一抽氣口122及一輸出口16,于本實(shí)施例中,該機(jī)體10具有與該腔室11相通的一開口,該開口憑借一上蓋12封設(shè),該輸入口121與該抽氣口122設(shè)于該上蓋12并與該腔室11相通,該機(jī)體10與該上蓋12之間設(shè)有環(huán)形具彈性的一密封條13,又該機(jī)體10的外周壁為雙層而具有環(huán)形的一第一空間14,該第一空間14連通該機(jī)體10的一冷卻的第一循環(huán)管路15,該第一循環(huán)管路15具有一第一入口151及一第一出口152,該第一入口151銜接冷卻水進(jìn)入該第一空間14內(nèi),再由第一出口152導(dǎo)出,該上蓋12設(shè)有環(huán)形的一第二空間123,該第二空間123連通該上蓋12的一冷卻的第二循環(huán)管路124,該第二循環(huán)管路124具有一第二入口124a及一第二出口124b,該第二入口124a銜接冷卻水進(jìn)入該第二循環(huán)管路124再由該第二出口124b導(dǎo)出,使該機(jī)體10維持在預(yù)定溫度,該機(jī)體10的底部設(shè)有至少一支撐腳17,于本實(shí)施例中該機(jī)體10的底部等距環(huán)形排列有三根支撐腳17,使機(jī)體10能架設(shè)于地面上,使距離地面有相當(dāng)?shù)母叨染嚯x。
該離心單元20,包含該動(dòng)力源21如一馬達(dá)、一圓形的轉(zhuǎn)盤22及一轉(zhuǎn)軸23連接于該轉(zhuǎn)盤22的底部并樞設(shè)于該機(jī)體10的底部,該轉(zhuǎn)盤22的表面環(huán)形分布有復(fù)數(shù)葉片24,該復(fù)數(shù)葉片24是弧形彎曲并以同一方向等距環(huán)形排列于該轉(zhuǎn)盤22的表面,相鄰二該葉片24之間形成一第一間距a,該復(fù)數(shù)葉片24將該轉(zhuǎn)盤22表面界定出一材料的注入空間25,該注入空間25的中心具有錐形的一甩料頭26隨該轉(zhuǎn)軸23旋轉(zhuǎn),該甩料頭26的頂部低于該轉(zhuǎn)盤22的頂部,該動(dòng)力源21與該轉(zhuǎn)軸23連接以驅(qū)動(dòng)該離心單元20的轉(zhuǎn)軸23旋轉(zhuǎn),進(jìn)而驅(qū)動(dòng)該轉(zhuǎn)盤22產(chǎn)生旋轉(zhuǎn),該動(dòng)力源21位于該機(jī)體10底部的中央位置,并使該三根支撐腳17圍繞在該動(dòng)力源21的外周,使該動(dòng)力源21離地有合適距離。
該集料元件30,系組裝在該腔室11內(nèi),具有至少一個(gè)錐形的聚料環(huán)31,于本實(shí)施例中,該集料元件30由三個(gè)聚料環(huán)31以上下排列焊接套設(shè)連接有預(yù)定的高度而環(huán)設(shè)于該復(fù)數(shù)葉片24的外周側(cè),使位在最上方的該聚料環(huán)31高出于該復(fù)數(shù)葉片24的高度,該聚料環(huán)31的大圓徑端臨近于該腔室11的底部,且上一個(gè)聚料環(huán)31屬大圓徑的底端含蓋著下一個(gè)聚料環(huán)31的小圓徑的頂端有相 當(dāng)長(zhǎng)度,上下相鄰的兩該聚料環(huán)31之間具有一第二間距b,使附著于該葉片24形成滴狀或薄膜狀的已純化的液態(tài)材料向外甩出,并附著在該集料元件30表面,再向下積存于該機(jī)體10的腔室11的底部并由該輸出口16導(dǎo)出。
請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D4,系顯示上蓋12的材料的輸入口121末端連接一噴嘴125。
憑借上述的結(jié)構(gòu),請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D3,操作時(shí)啟動(dòng)該動(dòng)力源21以驅(qū)動(dòng)離心單元20的轉(zhuǎn)軸23旋轉(zhuǎn),進(jìn)而帶動(dòng)該轉(zhuǎn)盤22產(chǎn)生旋轉(zhuǎn),該輸入口121可輸入液態(tài)硅材料(如三氯硅烷、四氯化硅或三氯硅烷與四氯化硅的混合物)及氣體如氧氣于該機(jī)體10的腔室11內(nèi),使由該輸入口121末端輸出的液態(tài)硅材料被氧氣帶出呈滴狀c而落入離心單元20的注入空間25,該轉(zhuǎn)盤22的轉(zhuǎn)軸23以約1500rpm的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)時(shí),輸入的液態(tài)硅材料于注入空間25會(huì)憑借甩料頭26的導(dǎo)引,向下且向外快速以超重力向外甩出,于向外甩出的途中液體被轉(zhuǎn)盤22的葉片24阻擋,而形成小滴狀或呈薄膜狀附著于該葉片24的表面,因此氣態(tài)不純物可與液體分離經(jīng)由抽氣口被抽取出來(lái),使液態(tài)硅原料中無(wú)任何氣泡也無(wú)氣體溶于其中。而如圖4,液態(tài)硅材料(如三氯硅烷、四氯化硅或三氯硅烷與四氯化硅的混合物)及氣體如(氧氣)由該輸入口121再導(dǎo)入該噴嘴125,可使液態(tài)硅材料呈霧狀d噴出于離心單元20的注入空間25。
由于機(jī)體10的第一空間14連接冷卻的第一循環(huán)管路15,使冷卻水由第一入口151進(jìn)入第一空間14再由第一出口152導(dǎo)出,該上蓋12的第二空間123連通冷卻的第二循環(huán)管路124,使冷卻水由該第二循環(huán)管路124的第二入口124a進(jìn)入第二空間123再由第二出口124b導(dǎo)出,以控制本體10使腔室11溫度在預(yù)定的低溫狀態(tài),促使腔室11內(nèi)的氧氣在較低溫下因質(zhì)傳而與三氯硅烷內(nèi)的si-h健反應(yīng)而形成sioh粒子(species)進(jìn)而與存在于三氯硅烷內(nèi)的不純物復(fù)合,形成不純物的氫氧化硅復(fù)合物。已純化的液態(tài)硅材料可朝外甩出附著于該集料元件30的聚料環(huán)31的表面,再往下匯聚在該機(jī)體10的底部并由該機(jī)體的輸出口16導(dǎo)出已純化的液態(tài)硅材料,該抽氣口122連接一抽氣泵浦(圖未示)用以抽出腔室11內(nèi)的氣態(tài)不純物。
如此,本發(fā)明系使液態(tài)硅材料與氧氣共同輸入于機(jī)體10的腔室11內(nèi),憑借該離心單元20的轉(zhuǎn)盤22快速旋轉(zhuǎn),使液態(tài)硅材料進(jìn)入轉(zhuǎn)盤22,隨著轉(zhuǎn)盤22旋轉(zhuǎn)朝外被甩出,于外甩途中,使純化的液態(tài)硅材料呈滴狀或薄膜狀附著于葉片24表面,因此氣態(tài)不純物可與液體分離,并被超重力甩出附著于該集料元件30的該復(fù)數(shù)聚料環(huán)31的表面,再往下滴落于該機(jī)體10的腔室11底部,經(jīng)由抽 氣口被抽取出來(lái),使液態(tài)硅原料中無(wú)任何氣泡也無(wú)氣體溶于其中達(dá)到純化目的。
值得一提的是,本發(fā)明集料元件30的聚料環(huán)31系以復(fù)數(shù)個(gè)依序套接環(huán)設(shè)在該離心單元20的葉片24外周,復(fù)數(shù)聚料環(huán)31以上下排列構(gòu)成的集料元件30的高度高于該復(fù)數(shù)葉片24的高度,且該聚料環(huán)31大圓徑的一端系朝向該腔室的底部,小圓徑的一端鄰近該上蓋12方向,以錐形罩著該集料元件30的該復(fù)數(shù)葉片24,如此附著于葉片24表面呈滴狀或薄膜狀被甩出的液態(tài)硅材料,可被聚料環(huán)31擋下,而附著于該聚料環(huán)31的內(nèi)表面,并順著聚料環(huán)31的錐度下滑積于該機(jī)體10的腔室11,可聚集已純化的液態(tài)硅材料往下積于該腔室的底部。
另外,本發(fā)明離心單元20的該復(fù)數(shù)葉片24的彎曲方向系順著該轉(zhuǎn)軸23旋轉(zhuǎn)方向弧形彎曲,并以同一方向等距環(huán)形排列于該轉(zhuǎn)盤22的表面,具有較大的表面以供純化的液態(tài)硅材料附著,并使附著于葉片24表面的純化的液態(tài)硅材料能順著葉片24曲線方向外甩,以導(dǎo)引而附著于該集料元件30的聚料環(huán)31表面,可防止已純化的液態(tài)硅材料外甩時(shí)任意噴濺。
本發(fā)明進(jìn)行液能純化的效率高并且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單易操作,極具產(chǎn)業(yè)的利用性,而在申請(qǐng)的前經(jīng)查公報(bào)及市面并未發(fā)現(xiàn)有相同或近似的產(chǎn)品,誠(chéng)能符合專利新穎性及創(chuàng)造性的要件,爰依專利法的規(guī)定向鈞局提出發(fā)明專利申請(qǐng)。
以上說(shuō)明對(duì)本發(fā)明而言只是說(shuō)明性的,而非限制性的,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解,在不脫離權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下,可作出許多修改、變化或等效,但都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。