均勻給料裝置及具有該均勻給料裝置的濕式磁選的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種均勻給料裝置及具有該均勻給料裝置的濕式磁選機(jī)。本實(shí)用新型的均勻給料裝置包括：給料管，所述的給料管連接三角形導(dǎo)板，所述的三角形導(dǎo)板的兩側(cè)設(shè)置有側(cè)擋板，所述的三角形導(dǎo)板上設(shè)置有一組垂直于三角形導(dǎo)板的圓錐體。本實(shí)用新型的具有該均勻給料裝置的磁選機(jī)，包括滾筒和設(shè)置在滾筒里面的磁系，所述的滾筒下面設(shè)置有尾礦槽和精礦槽，所述的滾筒上設(shè)置有上述的均勻給料裝置。本實(shí)用新型給料均勻，有助于提高選別效率，節(jié)能降耗，并且精礦品位高。
【專利說(shuō)明】均勻給料裝置及具有該均勻給料裝置的濕式磁選機(jī)

【技術(shù)領(lǐng)域】
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[0001]本實(shí)用新型涉及一種均勻給料裝置及具有該均勻給料裝置的濕式磁選機(jī)，屬于磁選設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
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[0002]磁選機(jī)是利用礦物的磁性將有用礦物和脈石礦物分離的設(shè)備，濕式磁選機(jī)是常用的磁選設(shè)備，當(dāng)物料給到磁力滾筒時(shí)，非磁性或磁性很弱的物質(zhì)在離心力和重力作用下脫離滾筒面，而磁性較強(qiáng)的物質(zhì)受磁力作用被吸在滾筒上由滾筒帶動(dòng)到?jīng)]有磁力的區(qū)域內(nèi)，由于磁場(chǎng)強(qiáng)度減弱甚至消失而落入磁性物質(zhì)收集槽中。濕式磁選的過(guò)程中，給料的均勻性和給料的料層厚度對(duì)選別的最終精礦品位有很大的影響，通常如果給料的料層比較厚，則磁性顆粒容易包裹著非磁性顆粒運(yùn)動(dòng)，造成非磁性顆粒選別不充分，精礦品位低，而現(xiàn)有技術(shù)中通常采用給料箱或者料管給料，為了避免料層過(guò)厚，給料比較慢，給料濃度低，造成選別效率低，能耗高。


【發(fā)明內(nèi)容】

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[0003]本實(shí)用新型的目的是針對(duì)上述存在的問(wèn)題提供一種均勻給料裝置及具有該均勻給料裝置的濕式磁選機(jī)，給料均勻，有助于提高選別效率，節(jié)能降耗，并且精礦品位高。
[0004]上述的目的通過(guò)以下的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0005]均勻給料裝置，包括:給料管，所述的給料管連接三角形導(dǎo)板，所述的三角形導(dǎo)板的兩側(cè)設(shè)置有側(cè)擋板，所述的三角形導(dǎo)板上設(shè)置有一組垂直于三角形導(dǎo)板的圓錐體。
[0006]所述的均勻給料裝置，所述的三角形導(dǎo)板傾斜放置，其背面與水平面的夾角為45。-75。。
[0007]所述的均勻給料裝置，所述的圓錐體為交錯(cuò)式分布，所述的圓錐體的底面直徑不大于30mm，相鄰兩個(gè)圓錐體之間的距離與所述的圓錐體的地面直徑相等。
[0008]具有該均勻給料裝置的磁選機(jī)，包括滾筒和設(shè)置在滾筒里面的磁系，所述的滾筒下面設(shè)置有尾礦槽和精礦槽，所述的滾筒上設(shè)置有上述的均勻給料裝置。
[0009]所述的具有該均勻給料裝置的磁選機(jī)，所述的給料裝置的三角形導(dǎo)板的底邊長(zhǎng)度與所述的滾筒的寬度相等。
[0010]所述的具有該均勻給料裝置的磁選機(jī)，所述的磁系的包角為220°。
[0011]有益效果:
[0012]1.本實(shí)用新型當(dāng)物料通過(guò)給料管給到導(dǎo)板上以后，物料沿著導(dǎo)板下行，在下行的過(guò)程中，導(dǎo)板上的圓錐體起到分流物料的作用，物料逐漸被均勻分流，最終從導(dǎo)板底部流到磁選機(jī)的滾筒上，給料均勻，有助于提高選別效率，節(jié)能降耗，并且精礦品位高。
[0013]2.三角形導(dǎo)板傾斜角度過(guò)大，容易造成礦物在重力的作用下直上直下，分流效果差，同時(shí)三角形導(dǎo)板如果傾斜角度過(guò)低，容易造成礦物被圓錐體堵塞，流動(dòng)不暢，因此經(jīng)過(guò)多次試驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，三角形導(dǎo)板傾斜放置，其背面與水平面的夾角為45° -75。時(shí)分流效果最好。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
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[0014]圖1是本實(shí)用新型的均勻給料裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖2是本實(shí)用新型的具有該均勻給料裝置的磁選機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖中:1、給料管；2、三角形導(dǎo)板；3、側(cè)擋板；4、圓錐體；5、滾筒；6、磁系；7、尾礦槽；8、精礦槽。

【具體實(shí)施方式】
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[0017]實(shí)施例1:
[0018]如圖1所示，本實(shí)施例的均勻給料裝置，包括:給料管1，所述的給料管連接三角形導(dǎo)板2，所述的三角形導(dǎo)板的兩側(cè)設(shè)置有側(cè)擋板3，所述的三角形導(dǎo)板上設(shè)置有一組垂直于三角形導(dǎo)板的圓錐體4。
[0019]本實(shí)施例中，所述的三角形導(dǎo)板傾斜放置，其背面與水平面的夾角為45° -75。。
[0020]本實(shí)施例中,所述的圓錐體為交錯(cuò)式分布,所述的圓錐體的底面直徑不大于30mm,相鄰兩個(gè)圓錐體之間的距離與所述的圓錐體的地面直徑相等。本實(shí)施例所述的交錯(cuò)式分布，即三角形導(dǎo)板的上部靠近頂點(diǎn)處設(shè)置一個(gè)圓錐體，第二排設(shè)置兩個(gè)圓錐體并且這兩個(gè)圓錐體的連線的中點(diǎn)經(jīng)過(guò)第一排的一個(gè)圓錐體，第三排設(shè)置三個(gè)圓錐體，中間的圓錐體在第一排的一個(gè)圓錐體的正下方，兩側(cè)的兩個(gè)圓錐體與中間的圓錐體的連線的中點(diǎn)分別經(jīng)過(guò)第二排的兩個(gè)圓錐體，依次排列。如圖1所示。
[0021]實(shí)施例2:
[0022]如圖2所示，本實(shí)施例的具有該均勻給料裝置的磁選機(jī)，包括滾筒5和設(shè)置在滾筒里面的磁系6，所述的滾筒下面設(shè)置有尾礦槽7和精礦槽8，所述的滾筒上設(shè)置有上述的均勻給料裝置。
[0023]本實(shí)施例中，所述的給料裝置的三角形導(dǎo)板的底邊長(zhǎng)度與所述的滾筒的寬度相等。這樣，物料經(jīng)過(guò)三角形導(dǎo)板的分流以后能夠均勻地流到滾筒上，并且布滿整個(gè)滾筒，分選效率高。
[0024]本實(shí)施例中，所述的磁系的包角為220°。
[0025]本實(shí)用新型方案所公開的技術(shù)手段不僅限于上述技術(shù)手段所公開的技術(shù)手段，還包括由以上技術(shù)特征等同替換所組成的技術(shù)方案。本實(shí)用新型的未盡事宜，屬于本領(lǐng)域技術(shù)人員的公知常識(shí)。
【權(quán)利要求】
1.一種均勻給料裝置，包括:給料管，其特征是:所述的給料管連接三角形導(dǎo)板，所述的三角形導(dǎo)板的兩側(cè)設(shè)置有側(cè)擋板，所述的三角形導(dǎo)板上設(shè)置有一組垂直于三角形導(dǎo)板的圓錐體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻給料裝置，其特征是:所述的三角形導(dǎo)板傾斜放置，其背面與水平面的夾角為45° -75。。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的均勻給料裝置，其特征是:所述的圓錐體為交錯(cuò)式分布，所述的圓錐體的底面直徑不大于30mm，相鄰兩個(gè)圓錐體之間的距離與所述的圓錐體的地面直徑相等。
4.一種具有該均勻給料裝置的磁選機(jī)，其特征是:包括滾筒和設(shè)置在滾筒里面的磁系，所述的滾筒下面設(shè)置有尾礦槽和精礦槽，所述的滾筒上設(shè)置有上述的均勻給料裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的具有該均勻給料裝置的磁選機(jī)，其特征是:所述的給料裝置的三角形導(dǎo)板的底邊長(zhǎng)度與所述的滾筒的寬度相等。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的具有該均勻給料裝置的磁選機(jī)，其特征是:所述的磁系的包角為220°。
【文檔編號(hào)】B03C1/10GK203853162SQ201420295107
【公開日】2014年10月1日 申請(qǐng)日期:2014年5月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月29日
【發(fā)明者】周凌, 李娟 , 李正峰 申請(qǐng)人:無(wú)錫商業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院