帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器，包括箱體和靜電除塵組件，所述靜電除塵組件裝設(shè)于箱體內(nèi)，所述箱體內(nèi)腔設(shè)有用于浸沒(méi)所述靜電除塵組件的儲(chǔ)水區(qū)域，所述箱體上設(shè)有向所述儲(chǔ)水區(qū)域加水的注水口，所述箱體底部設(shè)有用于排放儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)積水的排放口，所述箱體內(nèi)設(shè)有用于控制儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)儲(chǔ)水量的水位控制裝置，該帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器具有清洗效率高、清洗用水利用率高、耗水量少、節(jié)能環(huán)保且安全可靠的優(yōu)點(diǎn)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種空氣過(guò)濾裝置，尤其涉及帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有的空氣過(guò)濾裝置中，靜電過(guò)濾器過(guò)濾效果較好、使用壽命較長(zhǎng)，但為了保證除塵效果和通風(fēng)效率，需要定期對(duì)其中的除塵組件進(jìn)行清洗。
[0003]早期的清洗方式是將除塵組件從靜電過(guò)濾器的箱體卸下后，單獨(dú)對(duì)除塵組件進(jìn)行清洗，這種清洗方式操作復(fù)雜，費(fèi)時(shí)費(fèi)力，且在對(duì)除塵組件進(jìn)行拆卸的過(guò)程中容易振落除塵組件上的污物，有可能導(dǎo)致箱體排風(fēng)端的空間被污染，使靜電過(guò)濾器輸出的空氣質(zhì)量受清洗作業(yè)的影響而降低。
[0004]目前，市面上出現(xiàn)了可自動(dòng)清洗的靜電過(guò)濾器，該靜電過(guò)濾器采用立式布置結(jié)構(gòu)，其將除塵組件布置在箱體的中間高度位置，在箱體底部設(shè)進(jìn)風(fēng)口，進(jìn)入箱體的氣流經(jīng)除塵組件除塵后從箱體的頂部排出，在此結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，還在箱體內(nèi)部于除塵組件周邊設(shè)有多個(gè)噴淋清洗頭，清洗除塵組件時(shí)，由噴淋清洗頭對(duì)除塵組件噴水，除塵組件上的部分塵垢在噴淋水的作用下自由降落，再通過(guò)箱體底部的排污口集中排出。該靜電過(guò)濾器的優(yōu)勢(shì)是實(shí)現(xiàn)了除塵組件的自動(dòng)清洗，且不需要對(duì)除塵組件進(jìn)行拆裝，操作簡(jiǎn)單、省時(shí)省力，且由于采用立式布置結(jié)構(gòu)，使被噴淋水沖落的塵垢自由落下后集中在箱體底部排出，不會(huì)污染箱體上部空間(即除塵組件上部的排風(fēng)端)，避免靜電過(guò)濾器輸出的空氣質(zhì)量受清洗作業(yè)的影響而降低。但是，該靜電過(guò)濾器仍存在以下缺陷:
1、噴淋清洗方式為了達(dá)到較好的清洗效果必須長(zhǎng)時(shí)間噴淋，并且一邊噴淋，一邊將水排出，其清洗效率低，耗水量很大，達(dá)不到節(jié)能環(huán)保要求；
2、噴淋清洗的效果一般，受?chē)娏芙嵌认拗?，無(wú)法保證除塵組件上每個(gè)角落都被清洗到，存在清洗死角，因此除塵組件上仍會(huì)有部分塵垢殘留；
3、進(jìn)風(fēng)口和排污口均在箱體下端，一旦清洗過(guò)程中排污口發(fā)生堵塞，進(jìn)風(fēng)口很有可能出現(xiàn)倒灌出水的現(xiàn)象；
4、受?chē)婎^最大噴射角度的限制，噴頭必須與除塵組件保持足夠大距離才能完全覆蓋除塵組件，這勢(shì)必會(huì)增大設(shè)備的體積，為了提高箱體內(nèi)部空間的利用率，一般噴淋清洗式的靜電過(guò)濾器均采用立式布置結(jié)構(gòu)，這導(dǎo)致其在豎直方向上的空間過(guò)于龐大，以至于難以與周邊設(shè)備形成良好的銜接，并且加大了安裝難度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種清洗效率高、清洗用水利用率高、耗水量少、節(jié)能環(huán)保且安全可靠的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器。
[0006]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器，包括箱體和靜電除塵組件，所述靜電除塵組件裝設(shè)于箱體內(nèi)，所述箱體內(nèi)腔設(shè)有用于浸沒(méi)所述靜電除塵組件的儲(chǔ)水區(qū)域，所述箱體上設(shè)有向所述儲(chǔ)水區(qū)域加水的注水口，所述箱體底部設(shè)有用于排放儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)積水的排放口，所述箱體內(nèi)設(shè)有用于控制儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)儲(chǔ)水量的水位控制裝置。
[0007]所述水位控制裝置包括設(shè)于箱體內(nèi)的水位傳感器，所述水位傳感器位于儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)且高于靜電除塵組件。
[0008]所述水位控制裝置還包括溢流隔板、溢流室、排水孔，所述溢流隔板將所述溢流室與所述儲(chǔ)水區(qū)域隔離，所述溢流隔板上端與所述儲(chǔ)水區(qū)域上端面處于同一高度，所述排水孔設(shè)置在所述溢流室底部。
[0009]所述水位控制裝置還包括溢流管和排水開(kāi)孔，所述排水開(kāi)孔設(shè)置在所述水箱的底部，所述溢流管上端與所述儲(chǔ)水區(qū)域上端面處于同一高度，所述溢流管下端與所述排水開(kāi)孔連通。
[0010]所述水位控制裝置還包括設(shè)置在所述箱體側(cè)壁上的溢流孔，所述溢流孔最低點(diǎn)與所述儲(chǔ)水區(qū)域上端面處于同一高度。
[0011]所述靜電除塵組件將箱體內(nèi)腔分隔為橫向排列的進(jìn)風(fēng)腔和排風(fēng)腔，所述箱體上設(shè)有與進(jìn)風(fēng)腔相通的進(jìn)風(fēng)口以及與排風(fēng)腔相通的排風(fēng)口，所述進(jìn)風(fēng)口和排風(fēng)口均高于所述儲(chǔ)水區(qū)域所在位置，所述靜電除塵組件與進(jìn)風(fēng)腔相鄰的一側(cè)設(shè)有初濾板，所述初濾板位于所述儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)。
[0012]所述靜電除塵組件將箱體內(nèi)腔分隔為位于下部的進(jìn)風(fēng)腔和位于上部的排風(fēng)腔，所述箱體上設(shè)有與進(jìn)風(fēng)腔相通的進(jìn)風(fēng)口以及與排風(fēng)腔相通的排風(fēng)口，所述排風(fēng)口高于所述儲(chǔ)水區(qū)域所在位置，所述進(jìn)風(fēng)口設(shè)有可控制通斷的密封閥門(mén)，所述靜電除塵組件與進(jìn)風(fēng)腔相鄰的一側(cè)設(shè)有初濾板，所述初濾板位于所述儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)。
[0013]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:
本發(fā)明的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器，在箱體內(nèi)腔設(shè)有用于浸沒(méi)靜電除塵組件的儲(chǔ)水區(qū)域，箱體上設(shè)有向儲(chǔ)水區(qū)域加水的注水口，箱體底部設(shè)有用于排放儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)積水的排放口，水箱內(nèi)設(shè)有用于控制儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)儲(chǔ)水量的水位控制裝置，進(jìn)入自潔模式時(shí)，先關(guān)閉排放口，從注水口向箱體內(nèi)腔的儲(chǔ)水區(qū)域注水，儲(chǔ)水區(qū)域中的水將靜電除塵組件完全浸沒(méi)后由水位控制裝置控制儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)的儲(chǔ)水量，避免水位過(guò)高導(dǎo)致設(shè)備故障，浸沒(méi)一段時(shí)間后，靜電除塵組件上的塵垢在水的浸泡作用下全部脫落，然后打開(kāi)排放口將儲(chǔ)水區(qū)域內(nèi)的積水排出，塵垢也隨水流一同排出。這種清洗方式不需要長(zhǎng)時(shí)間注水，耗水量大大減少，滿足節(jié)能環(huán)保的要求，而且整個(gè)靜電除塵組件完全浸沒(méi)在水中，不存在清洗死角，清洗徹底、清潔度高，且不會(huì)出現(xiàn)水位超過(guò)正常值而溢出箱體或影響電控設(shè)備的情況，安全可靠。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1是本發(fā)明第一種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖2是本發(fā)明第二種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖3是本發(fā)明第三種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖4是本發(fā)明第四種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖中各標(biāo)號(hào)表不:1、箱體；2、靜電除塵組件；3、水位控制裝置；30、水位傳感器；31、溢流隔板；32、溢流室；33、排水孔；34、排水開(kāi)孔；35、溢流管；36、溢流孔；4、初濾板；5、密封閥門(mén)；11、進(jìn)風(fēng)腔；12、排風(fēng)腔；13、注水口 ；14、排放口 ；15、儲(chǔ)水區(qū)域；16、進(jìn)風(fēng)口 ；17、排風(fēng)口。
【具體實(shí)施方式】
[0019]圖1示出了本發(fā)明的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器的第一種實(shí)施例，該帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器包括箱體1和靜電除塵組件2，靜電除塵組件2裝設(shè)于箱體1內(nèi)，箱體1內(nèi)腔設(shè)有用于浸沒(méi)靜電除塵組件2的儲(chǔ)水區(qū)域15，箱體1上設(shè)有向儲(chǔ)水區(qū)域15加水的注水口 13，箱體1底部設(shè)有用于排放儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)積水的排放口 14，箱體1內(nèi)設(shè)有水位控制裝置3，進(jìn)入自潔模式時(shí)，先將排放口 14關(guān)閉，然后從注水口 13向箱體1內(nèi)腔的儲(chǔ)水區(qū)域15注水，儲(chǔ)水區(qū)域15中的水將靜電除塵組件2完全浸沒(méi)后由水位控制裝置3控制儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)的儲(chǔ)水量，避免水位過(guò)高導(dǎo)致設(shè)備故障，浸泡一段時(shí)間后，靜電除塵組件2上的塵垢在水的浸泡作用下全部脫落，然后打開(kāi)排放口 14將儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)的積水排出，塵垢也隨水流一同排出，這種清洗方式不需要長(zhǎng)時(shí)間注水噴淋，耗水量大大減少，滿足節(jié)能環(huán)保的要求，整個(gè)靜電除塵組件2完全浸沒(méi)在水中，不存在清洗死角，清洗徹底、清潔度高，由于設(shè)置了水位控制裝置3，不會(huì)出現(xiàn)水位超過(guò)正常值而溢出箱體1或影響電控設(shè)備的情況，安全可靠。
[0020]本實(shí)施例中，水位控制裝置3包括設(shè)于箱體1內(nèi)的水位傳感器30，水位傳感器30位于儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)且高于靜電除塵組件2，在注水過(guò)程中，當(dāng)儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)的水浸沒(méi)靜電除塵組件2并到達(dá)水位傳感器30所在位置時(shí)，水位傳感器30向控制裝置發(fā)送信號(hào)，控制裝置發(fā)出指令關(guān)閉進(jìn)水閥，停止向儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)注水。
[0021]本實(shí)施例中，水位控制裝置3還包括溢流隔板31、溢流室32、排水孔33，溢流隔板31將溢流室32與所述儲(chǔ)水區(qū)域15隔離，溢流隔板31上端與儲(chǔ)水區(qū)域15上端面處于同一高度，排水孔33設(shè)置在溢流室32底部，注水口 13位于儲(chǔ)水區(qū)域15的正上方，從注水口 13注入的水不會(huì)直接進(jìn)入溢流室32中，在注水過(guò)程中，當(dāng)水位到達(dá)水位傳感器30所在位置時(shí)，若水位傳感器30或控制裝置出現(xiàn)延遲或故障，未能及時(shí)停止向儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)注水，儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)的水位繼續(xù)上升，當(dāng)水位到達(dá)溢流隔板31的上端時(shí)，多余的水將進(jìn)入溢流室32并通過(guò)排水孔33排出，避免水位超出儲(chǔ)水區(qū)域15。
[0022]本實(shí)施例中，靜電除塵組件2將箱體1內(nèi)腔分隔為橫向排列的進(jìn)風(fēng)腔11和排風(fēng)腔12，箱體1上設(shè)有與進(jìn)風(fēng)腔11相通的進(jìn)風(fēng)口 16以及與排風(fēng)腔12相通的排風(fēng)口 17，進(jìn)風(fēng)口16和排風(fēng)口 17均高于儲(chǔ)水區(qū)域15所在位置，避免水流倒灌進(jìn)入進(jìn)風(fēng)口 16和排風(fēng)口 17，采用橫向排列的結(jié)構(gòu)可減少靜電過(guò)濾器在豎直方向上的占用空間，便于與周邊設(shè)備形成良好的銜接，并降低設(shè)備安裝難度，靜電除塵組件2與進(jìn)風(fēng)腔11相鄰的一側(cè)設(shè)有初濾板4，初濾板4位于儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)，在對(duì)靜電除塵組件2浸泡清洗的同時(shí)，初濾板4也被浸泡清洗。
[0023]圖2示出了本發(fā)明的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器的第二種實(shí)施例，本實(shí)施例與第一種實(shí)施例基本相同，區(qū)別僅在于:本實(shí)施例中，水位控制裝置3還包括溢流管35和排水開(kāi)孔34，排水開(kāi)孔34設(shè)置在箱體1的底部，溢流管35上端與儲(chǔ)水區(qū)域15上端面處于同一高度，溢流管35下端與排水開(kāi)孔34連通，在注水過(guò)程中，當(dāng)水位到達(dá)水位傳感器30所在位置時(shí)，若水位傳感器30或控制裝置出現(xiàn)延遲或故障，未能及時(shí)停止向儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)注水，儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)的水位繼續(xù)上升，當(dāng)水位到達(dá)溢流管35的上端時(shí)，多余的水將進(jìn)入溢流管35并通過(guò)排水開(kāi)孔34排出，避免水位超出儲(chǔ)水區(qū)域15。
[0024]圖3示出了本發(fā)明的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器的第三種實(shí)施例，本實(shí)施例與第一種實(shí)施例基本相同，區(qū)別僅在于:本實(shí)施例中，水位控制裝置3還包括設(shè)置在箱體1側(cè)壁上的溢流孔36，溢流孔36最低點(diǎn)與儲(chǔ)水區(qū)域15上端面處于同一高度，在注水過(guò)程中，當(dāng)水位到達(dá)水位傳感器30所在位置時(shí)，若水位傳感器30或控制裝置出現(xiàn)延遲或故障，未能及時(shí)停止向儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)注水，儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)的水位繼續(xù)上升，當(dāng)水位到達(dá)溢流孔36的最低點(diǎn)時(shí)，多余的水將通過(guò)溢流孔36排出，避免水位超出儲(chǔ)水區(qū)域15。
[0025]圖4示出了本發(fā)明的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器的第四種實(shí)施例，本實(shí)施例與第一種實(shí)施例的區(qū)別在于:本實(shí)施例中，靜電除塵組件2將箱體1內(nèi)腔分隔為位于下部的進(jìn)風(fēng)腔11和位于上部的排風(fēng)腔12，箱體1上設(shè)有與進(jìn)風(fēng)腔11相通的進(jìn)風(fēng)口 16以及與排風(fēng)腔12相通的排風(fēng)口 17，排風(fēng)口 17高于所述儲(chǔ)水區(qū)域15所在位置，進(jìn)風(fēng)口 16設(shè)有可控制通斷的密封閥門(mén)5，在注水前先將進(jìn)風(fēng)口 16的密封閥門(mén)5關(guān)閉，避免水向進(jìn)風(fēng)口 16倒灌，靜電除塵組件2與進(jìn)風(fēng)腔11相鄰的一側(cè)設(shè)有初濾板4，初濾板4位于儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)，在對(duì)靜電除塵組件2浸泡清洗的同時(shí)，初濾板4也被浸泡清洗，水位控制裝置3包括設(shè)于箱體1內(nèi)的水位傳感器30，水位傳感器30位于儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)且高于靜電除塵組件2，水位控制裝置3還包括設(shè)置在箱體1側(cè)壁上的溢流孔36，溢流孔36最低點(diǎn)與儲(chǔ)水區(qū)域15上端面處于同一高度，在注水過(guò)程中，當(dāng)儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)的水浸沒(méi)靜電除塵組件2并到達(dá)水位傳感器30所在位置時(shí)，水位傳感器30向控制裝置發(fā)送信號(hào)，控制裝置發(fā)出指令關(guān)閉進(jìn)水閥，停止向儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)注水，若此時(shí)水位傳感器30或控制裝置出現(xiàn)延遲或故障，未能及時(shí)停止向儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)注水，儲(chǔ)水區(qū)域15內(nèi)的水位繼續(xù)上升，當(dāng)水位到達(dá)溢流孔36的最低點(diǎn)時(shí)，多余的水將通過(guò)溢流孔36排出，避免水位超出儲(chǔ)水區(qū)域15。
[0026]雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍的情況下，都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾，均應(yīng)落在本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器，包括箱體(1)和靜電除塵組件(2)，所述靜電除塵組件(2)裝設(shè)于箱體(1)內(nèi)，其特征在于:所述箱體(1)內(nèi)腔設(shè)有用于浸沒(méi)所述靜電除塵組件(2)的儲(chǔ)水區(qū)域(15)，所述箱體(1)上設(shè)有向所述儲(chǔ)水區(qū)域(15)加水的注水口(13)，所述箱體(1)底部設(shè)有用于排放儲(chǔ)水區(qū)域(15)內(nèi)積水的排放口(14)，所述箱體(1)內(nèi)設(shè)有用于控制儲(chǔ)水區(qū)域(15)內(nèi)儲(chǔ)水量的水位控制裝置(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器，其特征在于:所述水位控制裝置(3)包括設(shè)于箱體(1)內(nèi)的水位傳感器(30)，所述水位傳感器(30)位于儲(chǔ)水區(qū)域(15)內(nèi)且高于靜電除塵組件(2)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器，其特征在于:所述水位控制裝置(3)還包括溢流隔板(31)、溢流室(32)、排水孔(33)，所述溢流隔板(31)將所述溢流室(32)與所述儲(chǔ)水區(qū)域(15)隔離，所述溢流隔板(31)上端與所述儲(chǔ)水區(qū)域(15)上端面處于同一高度，所述排水孔(33 )設(shè)置在所述溢流室(32 )底部。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器，其特征在于:所述水位控制裝置(3)還包括溢流管(35)和排水開(kāi)孔(34)，所述排水開(kāi)孔(34)設(shè)置在所述箱體(1)的底部，所述溢流管(35)上端與所述儲(chǔ)水區(qū)域(15)上端面處于同一高度，所述溢流管(35)下端與所述排水開(kāi)孔(34)連通。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器，其特征在于:所述水位控制裝置(3 )還包括設(shè)置在所述箱體(1)側(cè)壁上的溢流孔(36 )，所述溢流孔(36 )最低點(diǎn)與所述儲(chǔ)水區(qū)域(15)上端面處于同一高度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器，其特征在于:所述靜電除塵組件(2)將箱體(1)內(nèi)腔分隔為橫向排列的進(jìn)風(fēng)腔(11)和排風(fēng)腔(12)，所述箱體(1)上設(shè)有與進(jìn)風(fēng)腔(11)相通的進(jìn)風(fēng)口(16)以及與排風(fēng)腔(12)相通的排風(fēng)口(17)，所述進(jìn)風(fēng)口(16)和排風(fēng)口(17)均高于所述儲(chǔ)水區(qū)域(15)所在位置，所述靜電除塵組件(2)與進(jìn)風(fēng)腔(11)相鄰的一側(cè)設(shè)有初濾板(4)，所述初濾板(4)位于所述儲(chǔ)水區(qū)域(15)內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的帶水位控制裝置的儲(chǔ)水自潔式靜電過(guò)濾器，其特征在于:所述靜電除塵組件(2)將箱體(1)內(nèi)腔分隔為位于下部的進(jìn)風(fēng)腔(11)和位于上部的排風(fēng)腔(12)，所述箱體(1)上設(shè)有與進(jìn)風(fēng)腔(11)相通的進(jìn)風(fēng)口(16)以及與排風(fēng)腔(12)相通的排風(fēng)口(17)，所述排風(fēng)口(17)高于所述儲(chǔ)水區(qū)域(15)所在位置，所述進(jìn)風(fēng)口(16)設(shè)有可控制通斷的密封閥門(mén)(5)，所述靜電除塵組件(2)與進(jìn)風(fēng)腔(11)相鄰的一側(cè)設(shè)有初濾板(4)，所述初濾板(4)位于所述儲(chǔ)水區(qū)域(15)內(nèi)。
【文檔編號(hào)】B03C3/34GK103639056SQ201310630888
【公開(kāi)日】2014年3月19日 申請(qǐng)日期:2013年12月2日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月18日
【發(fā)明者】戴若夫 申請(qǐng)人:戴若夫