專利名稱:含鎳硫化物的處理方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種從礦石或精礦石中分離含鎳硫化物的方法。更具體地,本發(fā)明涉及一種從礦石或精礦石中分離含鎳硫化物的濕法冶金法。更具體地,本發(fā)明涉及一種從礦石或精礦石中分離含鎳硫化物的濕法冶金法,包 括從含有滑石的礦石或精礦石的泥漿中泡沫浮選出含鎳硫化物礦物。
背景技術(shù):
詞語“含鎳硫化物”在這里應理解為包括硫化鎳和硫化鎳鐵。含鎳硫化物的例子 包括鎳黃鐵礦、針鎳礦和紫硫鎳礦礦物。本申請人在凱斯山(Mount Keith)鎳礦床的研究和工作期間做出本發(fā)明。在1990年代初期發(fā)現(xiàn)了凱斯山礦床。該礦床含有含鎳硫化物。當時主要的任務(wù) 是找到一種可處理這種低級別的鎳礦石以制得能在現(xiàn)有的澳大利亞和芬蘭的兩種熔爐中 處理的品質(zhì)精礦的方法。當時研發(fā)的并在礦井中使用的方法能處理高達90%的礦石。由于 滑石的存在,剩余10%左右包含高級別的滑石礦石的礦石無法被處理成可接受的精礦。在 礦體內(nèi)部滑石礦石以不連續(xù)的礦脈存在。已經(jīng)被挖掘出的滑石礦石仍儲存在礦山中。處理凱斯山礦山中滑石礦石以及從礦石中分離出含鎳硫化物是主要目標。此外,處理滑石礦石的方法并不限于凱斯山礦山,也可以成為位于澳大利亞以及 其他地區(qū)的許多其他礦床的處理方法。本申請人進行的研究和研發(fā)工作獲得以下重要發(fā)現(xiàn)。1、降低Eh值,例如通過加入連二亞硫酸鈉,使硫化鎳礦石的疏水性比滑石顆粒 差,結(jié)果使瓜爾膠將選擇性地包圍滑石而不是硫化鎳,隨后例如通過加入空氣提高Eh值, 可提高硫化鎳礦物的浮選性,使硫化鎳礦石選擇性地漂浮起來,而使滑石顆粒剩余在泥漿 中。瓜爾膠(也可與其他此類表面改性劑)的作用是使瓜爾膠包圍的滑石顆粒聚集到一起, 由此抑制滑石顆粒的浮選性。瓜爾膠改變滑石顆粒的表面特性的能力是已知的。然而,本 申請人:發(fā)現(xiàn),瓜爾膠對于凱斯山礦石類并不十分有效。本申請人發(fā)現(xiàn)在自然的浮選條件下, 瓜爾膠與滑石和硫化鎳發(fā)生疏水地相互作用。因而,在自然的浮選條件下瓜爾膠同時包圍 滑石和硫化鎳,結(jié)果是瓜爾膠對滑石和硫化鎳起到相同作用,在自然浮選條件下無法促進 滑石和硫化鎳分離。上述Eh值的調(diào)節(jié)使之可以利用瓜爾膠來抑制滑石浮選,而允許選擇性 地硫化鎳礦石的浮選。2、本申請人發(fā)現(xiàn),如這里所說的對選出的泡沫產(chǎn)品進行依次再磨處理能出乎意料 地極大改善浮選出的精礦對滑石的排斥度,因而可顯著改善滑石和硫化鎳的分離。本申請 人發(fā)現(xiàn),僅僅部分滑石顆粒的表面使顆粒粘附在氣泡上(即,起到疏水的作用),在(當制備 浮選顆粒時進行的)初磨步驟之后對滑石顆粒進行再磨處理能提高不趨于出現(xiàn)這種粘附 的滑石表面比例。因此,例如在自然浮選條件下,再磨滑石顆粒能增大滑石的親水性,使滑 石顆粒的浮選性較硫化鎳礦物差。詞語“連續(xù)的再磨”在這里應理解為該方法在初磨步驟 之后包括對該方法的各個階段的生產(chǎn)液流中的顆粒進行一系列再磨的步驟,因而顆粒將經(jīng)歷多于一次的碾磨操作。
發(fā)明內(nèi)容
本說明書涉及上述發(fā)現(xiàn)的第一方面。廣義上,本發(fā)明提供一種從包含滑石顆粒的礦石或精礦石中分離含鎳硫化物的方 法,該方法包括至少一個浮選階段,該階段包括調(diào)節(jié)礦石或精礦石的泥漿的Eh值以及使礦 石或精礦石中含鎳硫化物顆粒的疏水性較礦石或精礦石中滑石顆粒的差,然后從泥漿中浮 選出含鎳硫化物顆粒。依據(jù)本發(fā)明,提供了一種從包含滑石顆粒的礦石或精礦石中分離含鎳硫化物的方 法,該方法包括至少一個浮選階段,該浮選階段包括調(diào)節(jié)礦石或精礦石的泥漿的Eh值,使 礦石或精礦石中的含鎳硫化物顆粒的疏水性較礦石或精礦石中滑石顆粒的差,向泥漿中加 入這里所述的表面改性劑,使表面改性劑包圍滑石顆粒而不包圍含鎳硫化物顆粒,然后從 泥漿中浮選出含鎳硫化物顆粒而將滑石顆粒保留在所述泥漿中的步驟。礦石或精礦石可以僅包括滑石礦或精礦,或者非滑石和滑石礦石和精礦石的混合 物。詞語“表面改性劑”在這里應理解為能抑制被試劑包圍的顆粒的浮選性的試劑。此 類表面改性劑包括例如瓜爾膠(包括化學改良的瓜爾膠)、多糖(諸如糊精)、以及合成得 到的具有所需特性的聚合物。優(yōu)選的表面改性劑是瓜爾膠。優(yōu)選地,向泥漿中加入表面改性劑的步驟包括加入酸和所述表面改性劑調(diào)整泥 漿的PH值,以改善后續(xù)浮選步驟中的浮選率的步驟。優(yōu)選地,該方法包括通過降低泥漿的Eh值,使礦石或精礦石中的含鎳硫化物的 疏水性變差的步驟。優(yōu)選地,該方法包括通過向泥漿中加入還原劑來降低泥漿的Eh值的步驟。優(yōu)選地,所述還原劑可以是含氧硫磺化合物(oxy-sulphur),該含氧硫磺化合物游 離在泥漿中,以形成具有以下通式的含氧硫離子SnO,其中η大于1,y大于2,ζ是離子的化合價。優(yōu)選地,該方法包括將所述泥漿的Eh值降低至少IOOmV,優(yōu)選降低200mV的步
馬聚ο優(yōu)選地,該方法包括在向所述泥漿加入所述表面改性劑之后調(diào)節(jié)所述泥漿的Eh 值的步驟,使含鎳硫化物顆粒的疏水性更強,從而改善顆粒的浮選性。優(yōu)選地,該方法包括通過提高所述泥漿的Eh值使礦石或精礦石中含鎳硫化物顆 粒的疏水性更強的步驟。優(yōu)選地,該方法包括通過向所述泥漿中提供氧化劑而提高所述泥漿的Eh值的步
馬聚ο優(yōu)選地,所述氧化劑是含氧的氣體,優(yōu)選空氣。優(yōu)選地,該方法包括將所述泥漿的Eh值提高至少IOOmV,優(yōu)選提高至少200mV的步驟。
所述泥漿可以具有任意適宜的固體含量。優(yōu)選地,該方法包括根據(jù)顆粒尺寸將泥漿分成粗顆粒流和細顆粒流的步驟,以及 經(jīng)上述的浮選階段處理每種生產(chǎn)液流的步驟,因而該方法將包括粗顆粒浮選階段和細顆粒 浮選階段。優(yōu)選地,細顆粒流包括小于40 μ m的顆粒。優(yōu)選地,該方法包括在至少一個濾清回路(cleaner circuit)中處理各個浮選 階段流出的粗顆粒生產(chǎn)液流和細顆粒生產(chǎn)液流的步驟。優(yōu)選地,該方法包括在分離的粗選階段中處理粗顆粒生產(chǎn)液流和細顆粒生產(chǎn)液 流的步驟,無需將精礦或殘渣返回粗選單元。優(yōu)選地,該方法包括對這里描述的至少一個生產(chǎn)液流中的顆粒進行依次碾磨的步驟。
優(yōu)選地,該方法包括在前端濾清回路中濾清從粗顆粒浮選階段的粗選單元流出 的精礦流的步驟。優(yōu)選地,該方法包括在所述前端濾清回路中濾清精礦流(concentrate stream) 之前,對從粗顆粒浮選階段的粗選單元流出的所述精礦流中的顆粒進行再磨的步驟。優(yōu)選地,碾磨步驟包括將顆粒碾磨至40 μ m的P80的步驟。優(yōu)選地,該方法包括在所述前端濾清回路中濾清從細顆粒浮選階段的粗選單元 流出的第一部分精礦流的步驟。優(yōu)選地,在后端濾清回路中濾清從細顆粒浮選階段的粗選單元中流出的第二部分 精礦的步驟。優(yōu)選地,該方法包括在所述后端濾清回路中濾清從所述粗顆粒浮選階段的掃選 單元流出的殘渣流的步驟。優(yōu)選地,該方法包括在所述后端濾清回路中濾清精礦流之前,碾磨從所述粗顆粒 浮選階段的掃選單元流出的精礦流中的顆粒的步驟。優(yōu)選地,所述碾磨步驟包括將顆粒碾磨至60 μ m的P80的步驟。優(yōu)選地,該方法包括在所述后端濾清回路中濾清從所述前端濾清回路流出的殘 渣流的步驟。優(yōu)選地,該方法包括在所述后端濾清回路中碾磨來自以下任一種或多種的精礦 (i)從所述細顆粒浮選階段的粗選單元流出的第二部分精礦,(ii)從所述粗顆粒浮選階段 的掃選單元流出的殘渣流,以及(iii)在所述后端濾清回路濾清精礦之前從所述前端濾清 回路流出的殘渣流。優(yōu)選地,所述碾磨步驟包括將顆粒碾磨至25 μ m的P80的步驟。依據(jù)本發(fā)明,還提供了 一種實施上述方法的設(shè)備。
以下將參照附圖例示地描述本發(fā)明,附圖是依據(jù)本發(fā)明所述從開采的礦石中分離 含鎳硫化物礦物的方法的一個實施例的流程圖。
具體實施例方式參見附圖,經(jīng)棒磨機3向旋風分離器5中輸送包含含鎳硫化物的40%固體礦物泥 漿,根據(jù)顆粒尺寸將泥漿分成兩種液流。泥漿中的礦物成為經(jīng)沖洗和碾磨操作已經(jīng)減小了 尺寸的礦石流出。具有粗顆粒的下溢流(underflow stream)經(jīng)隨后描述的一系列浮選和濾清階段 的處理。上溢流(overflow stream)被供應至第二旋風分離器7,根據(jù)顆粒尺寸被分為細 顆粒下溢流和礦泥上溢流。細顆粒下溢流經(jīng)隨后描述的一系列浮選和濾清器階段的處理。液流分離點的顆粒尺寸如下所示(a)粗顆粒下溢流-大于40 μ m ;(b)細顆粒上溢流-小于40 μ m ;以及(c)礦泥上溢流-小于10-15 μ m。礦泥上溢流被泵至殘渣壩。附圖示出的流程圖中對粗顆粒下溢流和細顆粒下溢流有4個主要的處理階段。簡單來說(a)第一階段是粗顆粒浮選階段9,其中通過加入連二亞硫酸鈉形式的還原劑調(diào) 節(jié)液流的Eh值來預處理旋風分離器5流出的粗顆粒下溢流,隨后在存在硫酸和瓜爾膠形式 的表面改性劑的情況下在浮選單元中高密度地進行處理;(b)第二階段是細顆粒浮選階段11,其中通過加入連二亞硫酸鈉調(diào)節(jié)液流的Eh值 來預處理旋風分離器7流出的細顆粒下溢流,隨后在存在硫酸、檸檬酸和瓜爾膠的情況下 低密度地進行浮選;(c)第三階段是“前端”濾清回路13,其中粗顆粒浮選階段9流出的粗選精礦經(jīng)再 磨,與細顆粒浮選階段11的第一組單元流出的粗選精礦合并,在存在硫酸和瓜爾膠的情況 下進行濾清;以及(d)第四階段是“后端”濾清回路15,其中來自(i)粗顆粒浮選階段9流出的掃選 精礦,(ii)細顆粒浮選階段11的最后一組單元流出的粗選精礦,以及(iii)前端濾清器13 流出的殘渣的浮選精礦經(jīng)再磨后,在存在包括硫酸和瓜爾膠的組合試劑的情況下進行濾清。隨后將更詳細地描述上述任一階段以及相關(guān)的操作條件。粗顆粒浮選階段9首先,通過加入連二亞硫酸鈉調(diào)節(jié)液流的Eh值來預處理旋風分離器5流出的粗顆 粒下溢流,隨后在存在硫酸和瓜爾膠的情況下于粗浮選單元51中高密度地進行處理。如上所述,加入連二亞硫酸鹽的目的是降低Eh值至所需的范圍,通常至少降低 IOOmV,使液流中含鎳硫化物的疏水性弱至足以使瓜爾膠包圍滑石顆粒而不是含鎳硫化物 顆粒的程度,由此抑制滑石顆粒的浮選性。此外,在存在空氣(起到氧化劑作用)的情況下,在浮選單元中依次處理液流將起 到提高液流Eh值的作用,借此浮選出含鎳硫化物,從而形成精礦。從粗選單元51流出的精礦被泵至前端濾清回路13通過加入連二亞硫酸鈉調(diào)節(jié)液流的Eh值來預處理粗選單元51流出的殘渣,隨后如上所述在存在硫酸和瓜爾膠的情況下于掃選浮選單元55中高密度地進行處理。從掃選單元55流出的殘渣被泵至殘渣濃縮機57。從掃選單元55流出的精礦被泵至塔式磨機81中,在磨機中再磨成60 μ m的P80。隨后,將再磨精礦供應至后端濾清回路15細顆粒浮詵階段11通過加入連二亞硫酸鈉調(diào)節(jié)液流的Eh值來預處理旋風分離器7流出的細顆粒下 溢流,隨后如上所述在存在硫酸、檸檬酸和瓜爾膠的情況下于粗選單元61中低密度地進行 浮選。從粗選單元61的第一組流出的精礦被泵至前端濾清回路13從粗選單元61的最后一組流出的精礦被泵至后端濾清回路15。從粗選單元61流出的殘渣被泵至殘渣濃縮機79前端濾清回路13粗顆粒浮選階段9的粗選單元51流出的精礦被泵至閃蒸浮選單元(flash floatation cell) 19 前的旋風機 17。 具有35 μ m的P80的旋風機17的上溢流被泵至濾清器單元21,在存在包含硫酸和 瓜爾膠的組合試劑的情況下進行濾清。此外,從細顆粒浮選階段11中的第一組單元流出的上述精礦被泵至濾清器單元 21,同樣在存在包含硫酸和瓜爾膠的組合試劑的情況下進行濾清。旋風機17的下溢流被供應至閃蒸浮選單元19。從(i)閃蒸單元19以及(ii)濾清器單元21流出的精礦被供應至重濾清器單元 23,在存在包含硫酸和瓜爾膠的組合試劑的情況下進行濾清。重濾清器單元23制得硫化鎳產(chǎn)物流,并被供應至濃縮機49。閃蒸浮選單元19流出的殘渣重力沉降至塔式磨機25,經(jīng)再磨成為35微米的額定 P80。塔式磨機25的產(chǎn)物被供應至旋風機17,如上所述進行處理。重濾清器單元23流出的殘渣被供應至濾清器單元21,在濾清器中進行處理。濾清 器單元21流出的殘渣被泵至后端濾清回路15。后端濾清回路15后端濾清回路15處理來自(i)粗顆粒浮選階段9的掃選單元55流出的精礦,(ii) 細顆粒浮選階段11的最后一組粗選單元流出的精礦,以及(iii)后端濾清器13流出的殘 渣的浮選精礦。這些液流首先被泵至后端濾清回路15上游的掃選階段29的單元。掃選階段29流出的精礦被泵至旋風機31。旋風機31流出的具有25 μ m的P80的上溢流被泵至濾清器單元35,在存在包含硫 酸和瓜爾膠的組合試劑的情況下進行濾清。濾清器單元35流出的精礦被泵至濾清器單元37,在存在包含酸和瓜爾膠的組合 試劑的情況下經(jīng)再次濾清。濾清器單元35流出的殘渣被泵至殘渣濃縮機41。濾清器單元37制得硫化鎳產(chǎn)物流被供應至濃縮機43。
8
濾清器單元37流出的殘渣返回至濾清器單元35。旋風機31流出的下溢流經(jīng)重力返回塔式磨機33以進行額外的再磨至25μπι的 Ρ80ο磨機排出物重新泵回至旋風機31。由于滑石顆粒的自然浮選性,設(shè)計附圖示出的本發(fā)明方法的流程圖的例子時一個 目標就是最小化再循環(huán)次數(shù)。加入與前段濾清器13相分離的后端濾清器15能在無需返回 前段濾清器的情況下實現(xiàn)精礦級的目標。在“后端”濾清器15前設(shè)置另一個再磨階段也是 有利的。連二亞硫酸鹽本發(fā)明方法的一個重要特征是Eh值的調(diào)節(jié),S卩,在將液流供應至浮選單元之前降 低生產(chǎn)液流的Eh值以及在選擇性包圍滑石顆粒而不是硫化鎳顆粒之后提高Eh值。如上所述,這個Eh值的調(diào)節(jié)使硫化鎳礦物的疏水性較滑石顆粒差,結(jié)果是瓜爾膠 將選擇性包圍滑石而不是硫化鎳顆粒。隨后例如通過向浮選單元中加入空氣來提高Eh值的方式能夠提高Eh值并改善硫 化鎳礦物的浮選性,使硫化鎳礦物可選擇性浮選出,而使滑石顆粒保留在生產(chǎn)液流中。連續(xù)的再磨處理實驗室作業(yè)已經(jīng)顯示,前端濾清器13流出的殘渣以及粗顆粒浮選階段9的掃選單 元55流出的精礦的再磨處理將減少隨后與含鎳硫化物一起浮選出的滑石的量,從而有利 于這些液流隨后的浮選反應。^M本申請人在實驗室作業(yè)中發(fā)現(xiàn),與瓜爾膠一起加入硫酸可在該方法感興趣的整個 顆粒尺寸范圍中改善含鎳硫化物相對于滑石顆粒的浮選率。實驗室作業(yè)發(fā)現(xiàn),最優(yōu)的ρΗ值是大約4. 5,進一步降低ρΗ值需要加更多的酸,并沒 有對冶金術(shù)有任何改進。實驗室作業(yè)發(fā)現(xiàn),當加入硫酸以便賦予4. 5的浮選ρΗ值時能清楚顯著地實現(xiàn)改變 性能的步驟。舉例來說,實驗室作業(yè)發(fā)現(xiàn),對于14% Ni (0.5% MgO回收)的精礦級別目標 來說,加入硫酸將提高大約15%的回收率。此外,實驗室作業(yè)發(fā)現(xiàn),與常規(guī)流程圖相比較,本發(fā)明方法減少了 20 25%硫酸 的使用。此外,實驗室作業(yè)發(fā)現(xiàn),對細粒粗選階段11來說,與硫酸一起加入連二亞硫酸鹽 和檸檬酸至ρΗ值為7與加入硫酸至ρΗ值為4. 5同樣有效。在細粒粗選_掃選浮選中,連 二亞硫酸鹽和檸檬酸可部分代替硫酸這個發(fā)現(xiàn)非常重要。這種代替可減少40 50%的硫 酸損耗。瓜爾膠在許多年處理和檢測滑石礦石的過程中,已經(jīng)評估了滑石浮選抑制劑的差異。這些浮選抑制劑包括多種不同的瓜爾膠,包括化學改良的瓜爾膠;多糖,諸如糊 精;以及包含多種不同的功能基團的合成制得的聚合物。盡管做了大量的工作,但瓜爾膠仍被選擇作為本發(fā)明方法的抑制劑。本申請人所進行的實驗室作業(yè)確認了與瓜爾膠制備相關(guān)的兩個重要發(fā)現(xiàn)。第一個發(fā)現(xiàn)是制備以及以0. 5%濃度加入瓜爾膠將得到與制備以及以0. 25%濃
9度加入瓜爾膠相同的反應。第二個發(fā)現(xiàn)是在超鹽水中制備的瓜爾膠與一般用水中制備的瓜爾膠具有相同的 反應。黃原酸鹽優(yōu)選的捕收劑是乙基黃原酸鈉。耜詵階段由于滑石顆粒的自然浮選性,設(shè)計本發(fā)明方法時的一個目標是最小化循環(huán)次數(shù)。 因此,流程圖包括對于粗顆粒流和細顆粒流的分離的粗選階段和開環(huán)回路階段,即,不需要 使精礦或殘渣重新返回粗選單元。迄今在進行的實驗室和試驗工廠作業(yè)顯示,本發(fā)明的方法對于從滑石礦石中選擇 性分離含鎳硫化物非常有效。在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下能對上述本發(fā)明所述方法的實施例進行
許多變型。例如,有時上述描述指的是再磨階段的特定的顆粒尺寸,但本發(fā)明并不僅限于此, 也可延伸至任意適宜的顆粒尺寸。再例如,有時上述描述將連二亞硫酸鈉稱作還原劑,但本發(fā)明并不僅限于此,也可 延伸至任意適宜的還原劑。再例如,有時上述描述將空氣稱作氧化劑,但本發(fā)明并不僅限于此,也可延伸至任 意適宜的氧化劑。再例如,有時上述描述將瓜爾膠稱作表面改性劑,但本發(fā)明并不僅限于此,也可延 伸至任意適宜的表面改性劑。再例如,有時上述描述將塔式磨機稱作用于生產(chǎn)液流中顆粒的再磨設(shè)備,但本發(fā) 明并不僅限于此,也可延伸至任意適宜的碾磨設(shè)備。
權(quán)利要求
一種從包含滑石顆粒的礦石或精礦石中分離含鎳硫化物的方法,該方法包括至少一個浮選階段,該階段包括調(diào)節(jié)礦石或精礦石的泥漿的Eh值使礦石或精礦石中的含鎳硫化物顆粒的疏水性較礦石或精礦石中滑石顆粒差的步驟、向所述泥漿中加入這里描述的表面改性劑以包圍滑石顆粒而不包圍含鎳硫化物顆粒的步驟、以及從所述泥漿中浮選出含鎳硫化物顆粒而將滑石顆粒保留在所述泥漿中的步驟。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中向所述泥漿中加入所述表面改性劑的步驟包括力口 入酸與表面改性劑以調(diào)節(jié)所述泥漿的PH值,由此改善隨后浮選步驟的浮選率。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法,其中包括通過降低所述泥漿的Eh值使礦石或精礦 石中含鎳硫化物的疏水性變差的步驟。
4.如權(quán)利要求3所述的方法,其中包括通過向所述泥漿中加入還原劑以降低所述泥漿 的Eh值的步驟。
5.如權(quán)利要求4所述的方法,其中所述還原劑是含氧硫磺化合物,該含氧硫磺化合物 游離在所述泥漿中,以形成具有以下通式的含氧硫離子SnO,其中,η大于1,y大于2,且ζ為離子的化合價。
6.如權(quán)利要求3 5中任一所述的方法,其中包括將所述泥漿的Eh值降低至少 100mV,優(yōu)選降低200mV的步驟。
7.如之前任一權(quán)利要求所述的方法,其中包括在向所述泥漿加入所述表面改性劑之 后調(diào)節(jié)所述泥漿的Eh值的步驟,使含鎳硫化物顆粒的疏水性更強,從而改善顆粒的浮選 性。
8.如權(quán)利要求7所述的方法,其中包括通過提高所述泥漿的Eh值使礦石或精礦石中 含鎳硫化物顆粒的疏水性更強的步驟。
9.如權(quán)利要求8所述的方法,其中包括通過向所述泥漿中提供氧化劑而提高所述泥 漿的Eh值的步驟。
10.如權(quán)利要求9所述的方法,其中所述氧化劑是含氧的氣體,優(yōu)選空氣。
11.如權(quán)利要求8 10中任一所述的方法,其中包括將所述泥漿的Eh值提高至少 100mV,優(yōu)選提高至少200mV的步驟。
12.如之前任一權(quán)利要求所述的方法,其中包括根據(jù)顆粒尺寸將所述泥漿分成粗顆 粒流和細顆粒流的步驟、以及在之前任一權(quán)利要求所述的浮選階段中處理每種生產(chǎn)液流的 步驟,因而該方法包括粗顆粒浮選階段和細顆粒浮選階段。
13.如權(quán)利要求12所述的方法,其中包括在至少一個濾清回路中處理各個浮選階段流 出的粗顆粒生產(chǎn)液流和細顆粒生產(chǎn)液流的步驟。
14.如權(quán)利要求12或權(quán)利要求13所述的方法,其中包括在分離的粗選階段中處理粗 顆粒生產(chǎn)液流和細顆粒生產(chǎn)液流的步驟,無需將精礦或殘渣返回粗選單元。
15.如權(quán)利要求12 14中任一所述的方法,其中包括對這里描述的至少一個生產(chǎn)液 流中的顆粒進行依次碾磨的步驟。
16.如權(quán)利要求12 15中任一所述的方法,其中包括在前端濾清回路中濾清從粗顆 粒浮選階段的粗選單元流出的精礦流的步驟。
17.如權(quán)利要求16所述的方法,其中包括在所述前端濾清回路中濾清精礦流之前,對從粗顆粒浮選階段的粗選單元流出的所述精礦流中的顆粒進行再磨的步驟。
18.如權(quán)利要求16或17所述的方法,其中包括在所述前端濾清回路中濾清從細顆粒 浮選階段的粗選單元流出的第一部分精礦流的步驟。
19.如權(quán)利要求18所述的方法,其中包括在后端濾清回路中濾清從細顆粒浮選階段 的粗選單元中流出的第二部分精礦的步驟。
20.如權(quán)利要求19所述的方法,其中包括在所述后端濾清回路中濾清從所述粗顆粒 浮選階段的掃選單元流出的殘渣流的步驟。
21.如權(quán)利要求20所述的方法,其中包括在所述后端濾清回路濾清精礦流之前,對從 所述粗顆粒浮選階段的掃選單元流出的精礦流中的顆粒進行再磨的步驟。
22.如權(quán)利要求19 21中任一所述的方法,其中包括在所述后端濾清回路中濾清從 所述前端濾清回路流出的殘渣流的步驟。
23.如權(quán)利要求19 22中任一所述的方法,其中包括在所述后端濾清回路中再磨 來自以下任一種或多種的精礦(i)從所述細顆粒浮選階段的粗選單元流出的第二部分精 礦,(ii)從所述粗顆粒浮選階段的掃選單元流出的殘渣流,以及(iii)在所述后端濾清回 路濾清精礦之前從所述前端濾清回路流出的殘渣流。
24.一種用于實施上述任一權(quán)利要求所述的方法的設(shè)備。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種從包含滑石顆粒的礦石或精礦石中分離含鎳硫化物的方法。該方法包括調(diào)節(jié)礦石泥漿或精礦石泥漿的Eh值的步驟,制得較滑石顆粒疏水性差的含鎳硫化物顆粒的步驟,以及從泥漿中浮選出含鎳硫化物顆粒的步驟。
文檔編號B03D1/02GK101965226SQ200980107193
公開日2011年2月2日 申請日期2009年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月9日
發(fā)明者布倫丹·派克, 布里安·賈德, 杰弗里·大衛(wèi)·西尼爾 申請人:Bhp比利通Ssm開發(fā)有限公司