單塔雙區(qū)循環(huán)集液盤的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種單塔雙區(qū)循環(huán)集液盤，屬于煙氣脫硫技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，電廠煙氣脫硫方法主要有:循環(huán)流化床煙氣半干法、海水法、濕式氨法、石灰石/石灰-石膏濕法。其中，石灰石/石灰-石膏濕法煙氣脫硫工藝是技術(shù)最成熟、應(yīng)用最廣泛的煙氣脫硫技術(shù)?？账娏苁鞘沂?石灰-石膏濕法煙氣脫硫中應(yīng)用最多的塔型結(jié)構(gòu)，通過多層噴淋層的向下噴霧(雙向噴嘴可以同時(shí)向上和向下噴霧)，與煙氣逆流接觸反應(yīng)吸收煙氣其中的SO2，常規(guī)設(shè)計(jì)有多層噴淋層，吸收塔截面上的噴淋覆蓋率可以達(dá)到很高，每層噴淋層對應(yīng)一臺(tái)漿液循環(huán)栗供漿。由于循環(huán)栗和噴淋層數(shù)較多，特別是對于中高硫煤，因此吸收塔一般較高，吸收塔漿液池也較大、循環(huán)栗的電耗較高，但噴淋塔具有以下優(yōu)占.V W、.
[0003]1)、脫硫效率高:脫硫效率一般可以達(dá)到95%以上，通過增大噴淋層數(shù)和噴淋量可以達(dá)到97%以上的脫硫效率；
[0004]2)、系統(tǒng)可靠性和可用率高:雖然噴淋塔依然存在著吸收塔腐蝕、磨損、結(jié)垢和堵塞問題，但通過運(yùn)行的優(yōu)化控制，基本上可以控制在可接受的范圍內(nèi)；
[0005]3)、系統(tǒng)適應(yīng)性強(qiáng):在設(shè)計(jì)階段，可設(shè)計(jì)不同的吸收塔參數(shù)來適應(yīng)中高低燃煤硫分，目前運(yùn)行的噴淋塔對于低、中、高燃煤硫分都有較多的案例；對于已投運(yùn)裝置，當(dāng)燃煤低于設(shè)計(jì)硫分或較低負(fù)荷時(shí)，可以通過停循環(huán)栗的方式來降低電耗，循環(huán)栗運(yùn)行組合靈活。
[0006]近年來，受煤炭市場的變化影響，發(fā)電企業(yè)燃煤含硫量大幅波動(dòng)，有的硫份達(dá)到3%以上，遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過了原有脫硫裝置的設(shè)計(jì)能力，而且各國對于大氣污染物的排放標(biāo)準(zhǔn)也趨于嚴(yán)格，例如某些國家規(guī)定重點(diǎn)區(qū)域執(zhí)行50mg/m 3的二氧化硫排放限值，部分地區(qū)執(zhí)行超潔凈35 mg/m3，因此，原有傳統(tǒng)的石灰石-濕法脫硫技術(shù)已經(jīng)無法滿足環(huán)保要求，必須進(jìn)行升級(jí)改造。
[0007]申請?zhí)枮?00610200285.9的中國發(fā)明專利公開了一種“雙循環(huán)回路石灰石/石灰-石膏濕法煙氣脫硫方法及裝置，在脫硫塔內(nèi)設(shè)置集液盤將脫硫區(qū)分隔為上、下循環(huán)脫硫區(qū)，下循環(huán)脫硫區(qū)、下循環(huán)中和氧化池及下循環(huán)栗共同形成下循環(huán)脫硫系統(tǒng)，上循環(huán)脫硫區(qū)、上循環(huán)中和氧化池及上循環(huán)栗共同形成上循環(huán)脫硫系統(tǒng)，在一個(gè)脫硫塔內(nèi)形成相對獨(dú)立的雙循環(huán)脫硫系統(tǒng)，煙氣的脫硫由雙循環(huán)脫硫系統(tǒng)共同完成。但是上述裝置內(nèi)的積液盤設(shè)計(jì)不合理，主要存在以下缺點(diǎn):
[0008]1、集液盤面臨漿液沖刷，防腐維護(hù)工作量大；
[0009]2、集液盤系統(tǒng)阻力大；
[0010]3、集液盤本體設(shè)計(jì)需要材料量大，對于吸收塔本體要求安裝高度高，投資成本尚;
[0011]4、因集液盤安裝高度比較高，集液盤系統(tǒng)載荷(含本體及物料)大，對于吸收塔基礎(chǔ)，塔壁設(shè)計(jì)要求高；
[0012]5、集液盤的維護(hù)與檢修需要塔內(nèi)搭設(shè)腳手架；
[0013]6、單塔雙區(qū)的雙區(qū)沒有完全隔離開。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0014]本實(shí)用新型的目的在于克服上述不足，提供一種單塔雙區(qū)循環(huán)托盤集液器，其投資成本低，減少了檢修維護(hù)工作，降低了煙氣阻力，保證了最終的脫硫效果。
[0015]本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種單塔雙區(qū)循環(huán)集液盤，它包括底盤，所述底盤傾斜布置，所述底盤上均勻開設(shè)有多個(gè)布?xì)饪?，所述布?xì)饪咨显O(shè)置有煙氣均布柱，所述煙氣均布柱上方設(shè)置有氣帽。
[0016]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下有益效果:
[0017]1、可高效脫硫，脫硫效率可達(dá)99.5%以上；
[0018]2、集液盤氣帽圓柱水簾幕的效果與一層噴淋層吸收效果相當(dāng)，在實(shí)際應(yīng)用中可以減少一層噴淋層，同時(shí)減少一臺(tái)循環(huán)栗的用電，節(jié)省了能耗；
[0019]3、兩個(gè)漿液區(qū)，能夠?qū)崿F(xiàn)不同功能的完全隔離，不同PH值的控制，比普通單循環(huán)節(jié)省電耗；
[0020]4、集液盤結(jié)構(gòu)簡單，安裝方便，在吸收塔內(nèi)安裝空間小，投資成本降低，維護(hù)費(fèi)用減少；
[0021]5、集液盤替代塔內(nèi)托盤、一層噴淋結(jié)構(gòu)等，降低了煙氣系統(tǒng)的阻力，減少引風(fēng)機(jī)電耗；
[0022]6、降低了單塔雙循環(huán)吸收塔的整體安裝高度，減少了吸收塔基礎(chǔ)土建和吸收塔連接煙道的成本；
[0023]7、集液盤形式的單塔雙吸收雙漿液區(qū)雙功能的實(shí)現(xiàn)，在改造項(xiàng)目中，可以有效利用原有的吸收塔本體，因集液盤自身荷載較低，可以不需要加固原有吸收塔就能實(shí)現(xiàn)部分機(jī)組單塔雙循環(huán)工藝的改造；
[0024]8、在吸收塔內(nèi)構(gòu)件檢修期間，集液盤的檢修可以從人孔直接進(jìn)入集液盤上部，不需要單獨(dú)為集液盤的檢修搭腳手架，與噴淋層、除霧器等塔內(nèi)構(gòu)件一樣，實(shí)現(xiàn)塔內(nèi)構(gòu)件均不需要搭腳手架的結(jié)構(gòu)。
【附圖說明】
[0025]圖1為本實(shí)用新型一種單塔雙區(qū)循環(huán)集液盤的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖2為圖1的A-A剖視圖。
[0027]圖3為圖2的I部放大圖。
[0028]其中:
[0029]底盤I
[0030]布?xì)饪?
[0031]煙氣均布柱3
[0032]氣帽4。
【具體實(shí)施方式】
[0033]參見圖1~圖3，本實(shí)用新型一種單塔雙區(qū)循環(huán)集液盤，它包括底盤1，所述底盤I傾斜布置，所述底盤I上均勻開設(shè)有多個(gè)布?xì)饪?，所述布?xì)饪?上設(shè)置有煙氣均布柱3，所述煙氣均布柱3上方設(shè)置有氣帽4。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種單塔雙區(qū)循環(huán)集液盤，其特征在于:它包括底盤(1)，所述底盤(I)傾斜布置，所述底盤(I)上均勻開設(shè)有多個(gè)布?xì)饪?2)，所述布?xì)饪?2)上設(shè)置有煙氣均布柱(3)，所述煙氣均布柱(3)上方設(shè)置有氣帽(4)。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種單塔雙區(qū)循環(huán)集液盤，屬于煙氣脫硫技術(shù)領(lǐng)域。它包括底盤（1），所述底盤（1）傾斜布置，所述底盤（1）上均勻開設(shè)有多個(gè)布?xì)饪祝?），所述布?xì)饪祝?）上設(shè)置有煙氣均布柱（3），所述煙氣均布柱（3）上方設(shè)置有氣帽（4）。本實(shí)用新型一種單塔雙區(qū)循環(huán)集液盤，其投資成本低，減少了檢修維護(hù)工作，降低了煙氣阻力，保證了最終的脫硫效果。
【IPC分類】B01D53/50, B01D53/80
【公開號(hào)】CN204911183
【申請?zhí)枴緾N201520588230
【發(fā)明人】趙三梅
【申請人】江蘇盛凱環(huán)保工程有限公司
【公開日】2015年12月30日
【申請日】2015年8月7日