本發(fā)明涉及涂布設(shè)備，尤其涉及一種氣浮涂布機(jī)。

背景技術(shù)：

1、涂布機(jī)主要用于板材、薄膜、紙張等的表面涂布工藝生產(chǎn)，將基材涂上一層特定功能的膠、涂料或油墨等。例如用于光伏板的涂布機(jī)，通過(guò)涂布機(jī)對(duì)基板的表面涂布漿料。

2、當(dāng)前的涂布機(jī)主要包括底座、設(shè)置于底座上的輸送裝置和設(shè)置于輸送裝置上方的涂布裝置，涂布機(jī)作業(yè)時(shí)，通過(guò)輸送裝置將基板輸送至涂布裝置的下方，通過(guò)涂布裝置進(jìn)行涂布。

3、基板在涂布時(shí)，基板會(huì)因底座安裝誤差過(guò)大、底座變形或輸送裝置安裝誤差等原因造成輕微的彎曲或傾斜，導(dǎo)致基板的表面平面度和水平度超出正常范圍，即涂膠區(qū)的平坦度異常，導(dǎo)致基板表面的漿料涂布不均勻，從而影響基板的涂布質(zhì)量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種氣浮涂布機(jī)，以檢測(cè)并調(diào)整基板的平面度和水平度，從而提升基板的表面涂布的均勻性，進(jìn)而提升基板的涂布質(zhì)量。

2、為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

3、氣浮涂布機(jī)，所述氣浮涂布機(jī)包括底座、輸送裝置和涂布裝置，所述底座上設(shè)置有承托件，所述承托件能夠?qū)暹M(jìn)行多點(diǎn)承托，并能夠調(diào)節(jié)每個(gè)承托點(diǎn)作用于所述基板的承托力；

4、所述輸送裝置設(shè)置于所述底座上，所述輸送裝置能夠沿預(yù)設(shè)方向輸送所述基板，并使所述基板能夠處于所述承托件的上方；

5、所述涂布裝置位于所述承托件的上方，所述涂布裝置能夠?qū)Ρ凰鲚斔脱b置輸送至所述涂布裝置下方的所述基板進(jìn)行涂布；

6、所述氣浮涂布機(jī)還包括調(diào)節(jié)裝置，所述調(diào)節(jié)裝置被配置為檢測(cè)所述基板的平面度和水平度，并控制所述承托件調(diào)節(jié)每個(gè)所述承托點(diǎn)作用于所述基板的承托力。

7、作為優(yōu)選，所述涂布裝置包括：

8、涂布架；以及

9、涂布刀頭，所述涂布刀頭位于所述承托件的上方，所述涂布刀頭連接于所述涂布架。

10、作為優(yōu)選，所述涂布架上沿豎直方向滑動(dòng)連接有橫梁，所述涂布刀頭連接于所述橫梁的底部。

11、作為優(yōu)選，其特征在于，

12、所述調(diào)節(jié)裝置包括：

13、傳感器，所述傳感器設(shè)置于所述涂布刀頭上，所述傳感器沿所述涂布刀頭的長(zhǎng)度方向設(shè)置多個(gè)；以及

14、控制器，所述控制器電連接于所述傳感器和所述承托件。

15、作為優(yōu)選，所述調(diào)節(jié)裝置還包括：

16、校正平臺(tái)，所述校正平臺(tái)的頂部設(shè)置基準(zhǔn)平面，所述校正平臺(tái)能夠運(yùn)動(dòng)至所述傳感器的下方，以校準(zhǔn)每個(gè)所述傳感器與所述基準(zhǔn)平面之間的間距；

17、所述橫梁和所述涂布刀頭之間通過(guò)調(diào)節(jié)件連接，所述調(diào)節(jié)件沿所述涂布刀頭的長(zhǎng)度方向設(shè)置多個(gè)，所述調(diào)節(jié)件能夠調(diào)節(jié)所述橫梁和所述涂布刀頭之間的距離，所述調(diào)節(jié)件電連接于所述控制器。

18、作為優(yōu)選，所述傳感器和所述調(diào)節(jié)件一一對(duì)應(yīng)設(shè)置。

19、作為優(yōu)選，所述校正平臺(tái)為大理石、花崗巖、真空石或者不銹鋼材質(zhì)。

20、作為優(yōu)選，所述調(diào)節(jié)裝置還包括：

21、校正支架，所述校正支架滑動(dòng)設(shè)置于所述底座的上方，所述校正支架沿平行于所述基板的輸送方向滑動(dòng)，所述校正平臺(tái)連接于所述校正支架上。

22、作為優(yōu)選，所述校正支架上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有刷輪，所述刷輪的軸線平行于所述涂布刀頭的長(zhǎng)度方向，所述刷輪能夠清潔所述涂布刀頭。

23、作為優(yōu)選，所述承托件為氣浮平臺(tái)。

24、本發(fā)明的有益效果：

25、本發(fā)明的氣浮涂布機(jī)，通過(guò)底座上的承托件對(duì)待涂布的基板進(jìn)行多點(diǎn)承托，并通過(guò)輸送裝置將基板輸送至涂布裝置的下方等待涂布，在對(duì)基板涂布前先通過(guò)調(diào)節(jié)裝置檢測(cè)基板的平面度和水平度，并根據(jù)檢測(cè)的結(jié)果調(diào)節(jié)承托件上每個(gè)承托點(diǎn)作用于基板的承托力，使基板可整體升降且局部可發(fā)生形變，提升基板的待涂布表面的平面度和水平度，并與涂布裝置之間保持一定的間距，提升漿料涂布的均勻性，最后通過(guò)涂布裝置對(duì)基板的待涂布表面進(jìn)行精密涂布，達(dá)到提升涂布質(zhì)量的效果。

技術(shù)特征：

1.氣浮涂布機(jī)，所述氣浮涂布機(jī)包括底座(1)、輸送裝置(2)和涂布裝置(3)，其特征在于，所述底座(1)上設(shè)置有承托件(11)，所述承托件(11)能夠?qū)?100)進(jìn)行多點(diǎn)承托，并能夠調(diào)節(jié)每個(gè)承托點(diǎn)作用于所述基板(100)的承托力；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣浮涂布機(jī)，其特征在于，所述涂布裝置(3)包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣浮涂布機(jī)，其特征在于，所述涂布架(31)上沿豎直方向滑動(dòng)連接有橫梁(311)，所述涂布刀頭(32)連接于所述橫梁(311)的底部。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣浮涂布機(jī)，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣浮涂布機(jī)，其特征在于，所述調(diào)節(jié)裝置(4)還包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣浮涂布機(jī)，其特征在于，所述傳感器(41)和所述調(diào)節(jié)件(321)一一對(duì)應(yīng)設(shè)置。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣浮涂布機(jī)，其特征在于，所述校正平臺(tái)(42)為大理石、花崗巖、真空石或者不銹鋼材質(zhì)。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣浮涂布機(jī)，其特征在于，所述調(diào)節(jié)裝置(4)還包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的氣浮涂布機(jī)，其特征在于，所述校正支架(43)上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有刷輪(431)，所述刷輪(431)的軸線平行于所述涂布刀頭(32)的長(zhǎng)度方向，所述刷輪(431)能夠清潔所述涂布刀頭(32)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的氣浮涂布機(jī)，其特征在于，所述承托件(11)為氣浮平臺(tái)。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于涂布設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種氣浮涂布機(jī)。氣浮涂布機(jī)包括底座、輸送裝置、涂布裝置和調(diào)節(jié)裝置，底座上設(shè)置有承托件，承托件能夠?qū)暹M(jìn)行多點(diǎn)承托，并能夠調(diào)節(jié)每個(gè)承托點(diǎn)作用于基板的承托力；輸送裝置設(shè)置于底座上，輸送裝置能夠沿預(yù)設(shè)方向輸送基板，并使基板能夠處于承托件的上方；涂布裝置位于承托件的上方，涂布裝置能夠?qū)Ρ惠斔脱b置輸送至涂布裝置下方的基板進(jìn)行涂布；調(diào)節(jié)裝置被配置為檢測(cè)基板的平面度和水平度，并控制承托件調(diào)節(jié)每個(gè)承托點(diǎn)作用于基板的承托力。本發(fā)明的氣浮涂布機(jī)能夠?qū)Υ坎嫉幕暹M(jìn)行校正，以提升基板的待涂布表面的平面度和水平度，保證漿料涂布的均勻性，最終提升基板的涂布質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員：吳昌樺,蔣新,宋金林,盧超,汪磊,李榮,王鵬超,呂鵬偉
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州晶洲裝備科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/30