本發(fā)明涉及疏水除污膜的鍍膜領域，特別是一種疏水除污膜鍍膜刮刀及鍍膜方法。

背景技術：

太陽能電池板通常安裝在玻璃建筑墻面及玻璃屋頂，長期暴露在室外，灰塵、油污甚至鳥糞、樹葉等不可避免的沉積在玻璃表面，影響了太陽能電池板的能量轉換效率。帶來巨大的經濟損失和安全隱患。太陽能電池板表面的清潔過程繁瑣且工作量大，通常需要專業(yè)的光伏清潔公司清潔，人工擦拭、清水沖洗、設置清洗裝置等都難度較大，浪費資源和資金。提升玻璃的自清潔能力是能源材料研究的一個重要方向。

中國專利文獻cn102294182a記載了一種疏水納米介孔分子篩填充pdms復合膜的制備方法，采用含有聚二甲基硅氧烷、疏水介孔分子篩、交聯(lián)劑、催化劑、溶劑的鑄膜液，在聚酯無紡布支撐的多孔超濾膜上層上刮膜，并加熱使其交聯(lián)完全制得本復合膜，本發(fā)明得到的經過表面硅烷偶聯(lián)劑修飾的介孔分子篩與pdms基體結合緊密，在pdms基體中分散均勻，疏水介孔分子篩填充pdms復合膜制膜工藝簡單，選用材料價格低廉，在碳酸二甲酯/甲醇共沸液中抗溶脹性強，優(yōu)先透碳酸二甲酯性能優(yōu)異，當疏水介孔分子篩填充質量比例為30％時，其分離因子α＝4.07，滲透通量為j＝1.13kg/m2h([dmc]＝30wt％，40℃)。

中國專利文獻cn105126634a記載了一種超疏水的分離膜的制備方法，包括以下步驟：(1)制備基膜：將制膜聚合物溶于溶劑中，制成質量分數為15-30％溶液，向其中添加少量的造孔劑及含氟高分子化合物，其中造孔劑的質量分數為1-5％，含氟高分子化合物質量分數為0.5-2％，攪拌均勻，制成鑄膜液；(2)制備涂膜液：將含氟高分子聚合物溶于溶劑中，制成質量分數為1-5％的涂膜液，加入沉淀劑，質量分數為1-3％；(3)涂膜：將步驟(1)得到的鑄膜液在潔凈的玻璃板表面刮膜，得到基膜，在5-10min之間向表面刮上一層步驟(2)所得的涂膜液，涂膜液的厚度為基膜的0.2-0.8倍，在水浴中凝固成型，得到該超疏水的分離膜，其與水的接觸角為150-175°，該制備方法過程簡單，成本低，能夠得到具有疏水結構穩(wěn)定的超疏水的分離膜。

現有技術中給出了在玻璃板表面刮膜的方案，但是在現有技術中并未見相關專用于太陽能玻璃表面鍍膜的專用設備。通常采用手工刮膜，效率低，勞動強度高。從上述的記載也可看出，現有疏水除污膜的原材料價格較高、生產工藝較為復雜，成本較高，手工刮膜存在的浪費較大，而且刮刀在液體膜上容易留下刀痕，使該處光線發(fā)生變化，影響成品的外觀。

中國專利文獻cn104826769a記載了一種新型自動平板刮膜機，包括基座、刮膜臺、刮膜平板、刮膜平板調節(jié)裝置、刮刀單元、驅動單元。其中刮刀單元包括：刮刀、刮刀調節(jié)裝置、刮刀支架。驅動單元與刮刀單元連接，控制刮刀的運行；通過刮膜平板調節(jié)裝置調整刮膜平板的高度和水平；通過刮刀調節(jié)裝置調整刮刀的高度和水平；通過刮膜平板調節(jié)裝置和刮刀調節(jié)裝置共同作用，精確控制膜的厚度與均勻度。該設備的結構也存在容易在液體膜上留下刀痕的問題。

技術實現要素：

本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種疏水除污膜鍍膜刮刀及鍍膜方法，在較低成本的條件下，能夠大幅提高鍍膜的均勻性，確保鍍膜表面沒有刮刀形成的痕跡。

為解決上述技術問題，本發(fā)明所采用的技術方案是：一種疏水除污膜鍍膜刮刀，刮刀包括前斜面，和與前斜面固定連接，并位于前斜面兩端的側擋片；

在工作時，前斜面、側擋片的內壁和基板的表面，構成一個用于容納鍍膜液體的料斗。

優(yōu)選的方案中，側擋片的正面和前斜面的底棱與基板的表面形成密封。

優(yōu)選的方案中，刮刀包括刮刀安裝座和刮刀片，

刮刀片與刮刀安裝座通過固定槽或固定螺釘連接；

優(yōu)選的方案中，刮刀片的材質為聚氨酯、硅膠、尼龍或聚四氟乙烯。

優(yōu)選的方案中，在前斜面的位置設有至少一個注液孔或注液管。

優(yōu)選的方案中，在刮刀的兩端設有側輪。

優(yōu)選的方案中，所述的側輪通過懸臂軸與刮刀的刮刀安裝座連接，每一端的側輪為兩個，側輪的外壁與側擋片的正面平齊。

優(yōu)選的方案中，在刮刀的兩端固定安裝有側輪安裝座，每個側輪安裝座安裝有兩個側輪，側輪的外壁與側擋片的正面平齊。

一種采用上述的疏水除污膜鍍膜刮刀的鍍膜方法，包括以下步驟：一、基板傾斜放置，將刮刀側擋片的正面和前斜面的底棱與基板貼緊；

二、將鍍膜液體注入前斜面、側擋片和基板之間的空間；

三、從上至下移動刮刀；

通過以上步驟，將鍍膜液體均勻涂布在基板表面。

優(yōu)選的方案中，通過控制刮刀的運行速度，控制成膜厚度。

本發(fā)明提供的一種疏水除污膜鍍膜刮刀及鍍膜方法，通過采用以上的方案，能夠利用自流平的方式實現鍍膜，提高鍍膜的均勻性，成品鍍膜的平面度較佳，并能夠修復基體表面的細微劃痕等表面缺陷。刮刀不會刮過鍍膜表面，因此不會在鍍膜表面留下刀痕，產品外觀效果較佳。本發(fā)明的鍍膜方法不會干擾鍍膜液體的性能。能夠很好保持鍍膜表面的疏水性能的活性。經測試，采用本發(fā)明的裝置和方法，能夠將透光率從88%提升至95%，尤其適用于太陽能電池板的表面處理。減少后期維護成本。水滴接觸角為150°~160°，疏水除污效果佳。鍍膜液體能夠與基體表面鍵合，附著力優(yōu)于氣相沉積的鍍層結構，使用時限達到5~8年。能夠實現在2kg砝碼重量下，與砂紙摩擦鍍膜表面無劃痕。本發(fā)明的鍍膜方式工藝簡單，成本較低。

附圖說明

下面結合附圖和實施方式對本發(fā)明作進一步說明：

圖1為本發(fā)明裝置的整體結構示意圖。

圖2為本發(fā)明中刮刀裝置的主視圖。

圖3為本發(fā)明中刮刀裝置的側視圖。

圖4為圖2中的a-a剖視圖。

圖5為本發(fā)明中側輪的另一種安裝結構的局部放大示意圖。

圖中：刮刀安裝座1，刮刀片2，前斜面21，底棱22，側擋片3，注液孔4，第一側輪5，第二側輪6，固定槽7，固定螺釘8，疏水除污液9，基板10，側輪安裝座11，第三側輪12。

具體實施方式

實施例1：

如圖1~5中，一種疏水除污膜鍍膜刮刀，其特征是：刮刀包括前斜面21，和與前斜面21固定連接，并位于前斜面21兩端的側擋片3；

在工作時，前斜面21、側擋片3的內壁和基板10的表面，構成一個用于容納鍍膜液體的料斗。由此結構，便于在鍍膜過程中，鍍膜液體始終與基板10的表面接觸，從而使部分鍍膜液體與基板表面鍵合并形成鍍膜。本例中的基板10通常為玻璃基板，例如太陽能電池板，窗戶玻璃、外墻玻璃等。也可以用于其他的基板，例如不銹鋼板、鋁塑板或油漆板的表面。

優(yōu)選的方案如圖4中，側擋片3的正面和前斜面21的底棱22與基板10的表面形成密封。由此結構，避免鍍膜液體泄漏。

優(yōu)選的方案如圖1、2中，刮刀包括刮刀安裝座1和刮刀片2，

刮刀片2與刮刀安裝座1通過固定槽7如圖1中所示，固定槽7采用燕尾槽或圓弧槽，或著采用固定螺釘8連接；如圖2中所示，采用內六角沉頭螺釘將刮刀片2與刮刀安裝座1固定連接。由上述的結構，便于更換刮刀片2，也便于將整個刮刀與設備連接，例如自動控制刮刀運行的設備。

優(yōu)選的方案中，刮刀片2的材質為聚氨酯、硅膠、尼龍或聚四氟乙烯。本例中采用聚氨酯材料。

優(yōu)選的方案中，在前斜面21的位置設有至少一個注液孔4或注液管。由此結構，便于將鍍膜液體注入到前斜面21與基板10之間。

優(yōu)選的方案如圖1~5中，在刮刀的兩端設有側輪。側輪位于基板兩側無需鍍膜的左右邊界處，由此結構，利用側輪承擔一部分的壓力，并且通過滾動摩擦的方式，避免損傷基板的外表面。

優(yōu)選的方案中，所述的側輪通過懸臂軸與刮刀的刮刀安裝座1連接，每一端的側輪為兩個，側輪的外壁與側擋片3的正面平齊。由此結構，便于側輪的安裝，如圖2中所示，這種結構能夠采用較大直徑的側輪，受力效果更佳，在懸臂軸上設有力傳感器，便于檢測刮刀的壓力變化，優(yōu)選的，力傳感器為壓力應變片，至少成對的安裝在懸臂軸的外表面，由懸臂軸的變形，帶動壓力應變片的變形，由產生的電流變化檢測側輪的壓力變化。

優(yōu)選的方案中，在刮刀的兩端固定安裝有側輪安裝座11，每個側輪安裝座11安裝有兩個側輪，側輪的外壁與側擋片3的正面平齊。由此結構，便于側輪的安裝。

實施例2：

一種采用上述的疏水除污膜鍍膜刮刀的鍍膜方法，包括以下步驟：一、基板10傾斜放置，將刮刀側擋片3的正面和前斜面21的底棱22與基板10貼緊；

二、將鍍膜液體注入前斜面21、側擋片3和基板10之間的空間；

三、從上至下移動刮刀；

通過以上步驟，將鍍膜液體均勻涂布在基板10表面。

優(yōu)選的方案中，通過控制刮刀的運行速度，控制成膜厚度。盡量避免空氣中的灰塵等污染基底表面。

在工作過程中，要確保環(huán)境的潔凈以及基板表面的潔凈，刮刀的運行速度要平穩(wěn)。本發(fā)明中，鍍膜液體通過的直徑控制在0.5-2.0mm,流速控制在50-100ml/s。以避免影響鍍膜液體的性能。本發(fā)明的鍍膜方法具有快速成模的效果，所成的薄膜厚度、均勻性、穩(wěn)定性及涂覆方式都有利于大幅提高玻璃的疏水除污性能。此外，還在不同材質基地上鍍膜，所鍍薄膜的硬度和穩(wěn)定性均較佳。

上述的實施例僅為本發(fā)明的優(yōu)選技術方案，而不應視為對于本發(fā)明的限制，本申請中的實施例及實施例中的特征在不沖突的情況下，可以相互任意組合。本發(fā)明的保護范圍應以權利要求記載的技術方案，包括權利要求記載的技術方案中技術特征的等同替換方案為保護范圍。即在此范圍內的等同替換改進，也在本發(fā)明的保護范圍之內。