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一種精加工粉末靜電噴涂方法與流程

文檔序號:11370617閱讀:322來源:國知局

本發(fā)明涉及靜電噴涂技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種精加工粉末靜電噴涂方法。



背景技術(shù):

靜電噴涂法是以接地的被涂物作為陽極,設(shè)備高壓電柵作為陰極,靜電噴槍接上負(fù)高壓,在兩極間形成高壓靜電場,陰極產(chǎn)生電暈放電,使噴出的涂料粒子帶電,并進(jìn)一步霧化,按同性相斥,異性相吸的原理,使帶電的涂料粒子在靜電場的作用下沿電力線方向吸附被涂物,放電后粘附在被涂物上的一種工藝方法。

目前,由于靜電噴槍是直接受高壓控制,操作時不便直接控制靜電噴槍的噴涂情況,所以有時會出現(xiàn)涂料霧化效果較差,沉積率不高的缺陷。尤其是,當(dāng)工件表面存在凹形結(jié)構(gòu)時,較深或者豁口較窄的凹形結(jié)構(gòu),其表面往往難以附著粉末。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

基于背景技術(shù)存在的技術(shù)問題,本發(fā)明提出了一種精加工粉末靜電噴涂方法。

本發(fā)明提出的一種精加工粉末靜電噴涂方法,包括以下步驟:

s1、掃描待噴涂工件,建立三維工件模型;

s2、建立全封閉包覆工件模型的第一蒙層,第一蒙層上任意一段弧線,其中心點(diǎn)位于工件模型一側(cè),或者,其中心點(diǎn)位于遠(yuǎn)離工件模型的一側(cè)但其弧心角小于90度;

s3、第一蒙層和工件模型之間形成至少一個腔室,針對每一個腔室,建立覆蓋其內(nèi)壁的第二蒙層,第二蒙層上任意一段弧線,其中心點(diǎn)位于腔室內(nèi)且弧心角小于180度;

s4、將第一蒙層上可配合第二蒙層形成閉合空間的部分以對應(yīng)的第二蒙層替代,第一蒙層和第二蒙層復(fù)合形成評估蒙層;

s5、評估蒙層與工件模型之間形成至少一個噴射腔,針對每一個噴射腔,建立噴射模型;

s6、根據(jù)噴射模型與評估蒙層的交界面確定噴粉入口,并根據(jù)噴射模型中心線確定噴粉入射方向;

s7、根據(jù)噴粉入口以及噴粉入射方向調(diào)整第一靜電噴槍,向待噴涂工件噴粉。

優(yōu)選地,還包括步驟s8、通過第二靜電噴槍向待噴涂工件整體靜電噴粉;第一靜電噴槍的口徑小于第二噴槍的口徑。

優(yōu)選地,第一靜電噴槍的口徑小于或等于第二噴槍的口徑的十分之一。

優(yōu)選地,第一靜電噴槍的口徑為第二噴槍的口徑的百分之一。

優(yōu)選地,步驟s1中,以紅外光掃描待噴涂工件。

本發(fā)明中,通過第一蒙層,建立了一個包覆工件模型且整體教平滑的曲面,并且通過第一蒙層和工件模型復(fù)合,標(biāo)出了工件上的腔室結(jié)構(gòu)。通過通過建立第二蒙層,對工件表面的凹形結(jié)構(gòu)進(jìn)行評估;第二蒙層的限制條件,有利于將工件模型表面較深或者開口較窄的凹形結(jié)構(gòu)的突出。通過將第一蒙層和第二蒙層復(fù)合形成評估蒙層,將工件上較深或者開口較窄的腔室結(jié)構(gòu)標(biāo)出。

本發(fā)明中,根據(jù)噴射模型確定噴粉入口和噴粉入射方向,有利于向工件表面較深或者開口較窄的腔室結(jié)構(gòu)噴粉,解決了工件表面上較深或較窄的凹形結(jié)構(gòu)不易附粉的問題。

本發(fā)明中,第一蒙層的限制方式,避免了第一蒙層上有較大的起伏,即避免第一蒙層上有較深或者開口較窄的腔室結(jié)構(gòu)。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提出的一種精加工粉末靜電噴涂方法流程圖。

具體實(shí)施方式

參照圖1,本發(fā)明提出的一種精加工粉末靜電噴涂方法,包括以下步驟。

s1、掃描待噴涂工件,建立三維工件模型。本實(shí)施方式中,以紅外光掃描待噴涂工件。

s2、建立全封閉包覆工件模型的第一蒙層,第一蒙層上任意一段弧線,其中心點(diǎn)位于工件模型一側(cè),或者,其中心點(diǎn)位于遠(yuǎn)離工件模型的一側(cè)但其弧心角小于90度。第一蒙層的限制方式,避免了第一蒙層上有較大的起伏,即避免第一蒙層上有較深或者開口較窄的腔室結(jié)構(gòu)。

s3、第一蒙層和工件模型之間形成至少一個腔室,針對每一個腔室,建立覆蓋其內(nèi)壁的第二蒙層,第二蒙層上任意一段弧線,其中心點(diǎn)位于腔室內(nèi)且弧心角小于180度。

本實(shí)施方式中,通過第一蒙層,建立了一個包覆工件模型且整體教平滑的曲面,并且通過第一蒙層和工件模型復(fù)合,標(biāo)出了工件上的腔室結(jié)構(gòu)。通過通過建立第二蒙層,對工件表面的凹形結(jié)構(gòu)進(jìn)行評估;第二蒙層的限制條件,有利于將工件模型表面較深或者開口較窄的凹形結(jié)構(gòu)的突出。

s4、將第一蒙層上可配合第二蒙層形成閉合空間的部分以對應(yīng)的第二蒙層替代,第一蒙層和第二蒙層復(fù)合形成評估蒙層。

本實(shí)施方式中通過將第一蒙層和第二蒙層復(fù)合形成評估蒙層,將工件上較深或者開口較窄的腔室結(jié)構(gòu)標(biāo)出。

s5、評估蒙層與工件模型之間形成至少一個噴射腔,針對每一個噴射腔,建立噴射模型。

s6、根據(jù)噴射模型與評估蒙層的交界面確定噴粉入口,并根據(jù)噴射模型中心線確定噴粉入射方向。

如此,根據(jù)噴射模型確定噴粉入口和噴粉入射方向,有利于向工件表面較深或者開口較窄的腔室結(jié)構(gòu)噴粉,解決了工件表面上較深或較窄的凹形結(jié)構(gòu)不易附粉的問題。

s7、根據(jù)噴粉入口以及噴粉入射方向調(diào)整第一靜電噴槍,向待噴涂工件噴粉。

本實(shí)施方式中,第一靜電噴槍擦用小口徑噴槍,以便根據(jù)噴粉入口和噴糞入射方向進(jìn)行定點(diǎn)噴射,提高工件表面凹形結(jié)構(gòu)的噴粉精度。

s8、通過第二靜電噴槍向待噴涂工件整體靜電噴粉。第一靜電噴槍的口徑小于第二噴槍的口徑。

本實(shí)施方式中,步驟s8可以放在s7之后,也可以放在步驟s7之前。本步驟中,通過大口徑噴槍向待噴涂工件整體靜電噴粉,有利于提高噴粉效率。

本實(shí)施方式中,第一靜電噴槍的口徑小于或等于第二噴槍的口徑的十分之一,具體地,第一靜電噴槍的口徑為第二噴槍的口徑的百分之一。

以上所述,僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種精加工粉末靜電噴涂方法,通過第一蒙層,建立了一個包覆工件模型且整體教平滑的曲面,并且通過第一蒙層和工件模型復(fù)合,標(biāo)出了工件上的腔室結(jié)構(gòu)。通過通過建立第二蒙層,對工件表面的凹形結(jié)構(gòu)進(jìn)行評估;第二蒙層的限制條件,有利于將工件模型表面較深或者開口較窄的凹形結(jié)構(gòu)的突出。通過將第一蒙層和第二蒙層復(fù)合形成評估蒙層,將工件上較深或者開口較窄的腔室結(jié)構(gòu)標(biāo)出。本發(fā)明中,根據(jù)噴射模型確定噴粉入口和噴粉入射方向,有利于向工件表面較深或者開口較窄的腔室結(jié)構(gòu)噴粉,解決了工件表面上較深或較窄的凹形結(jié)構(gòu)不易附粉的問題。

技術(shù)研發(fā)人員:茆文斌
受保護(hù)的技術(shù)使用者:天長市金陵電子有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.04.13
技術(shù)公布日:2017.09.05
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