本發(fā)明涉及液體霧化技術領域，具體涉及一種納米級水霧制造方法及設備。

背景技術：

目前常見的霧化方式有四類：電噴射霧化、壓力霧化、轉盤霧化及超聲波霧化。其中，電噴射霧化的霧化量過小，霧化速率低于0.1ml/h；壓力霧化會帶來令人不適的噪音；轉盤霧化的霧化粒徑過大，超過100μm，且霧化量較小。雖然目前市場上也出現(xiàn)一些超聲霧化器，但是這些超聲霧化器由于沒有對產生的水霧進行加熱，霧化量小，耗電量大，在水霧運移過程中大量的水霧丟失，因此霧化效果差。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種納米級水霧制造方法及設備，用以解決現(xiàn)有技術中的霧化裝置霧化量過小、霧化裝置噪音大、霧化速率低、霧化粒徑大和耗電量大的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術方案是：提供一種納米級水霧制造方法，所述納米級水霧制造方法包括以下步驟：

步驟a，利用加熱器加熱加熱室中的純凈水產生水蒸氣；

步驟b，利用霧化片高頻拍擊霧化室內的純凈水產生納米級水霧；

步驟c，利用電熱絲加熱干燒室內的空氣；

步驟d，利用風機將所述水蒸氣、納米級水霧和加熱后的空氣進行混合并將其推送至艙體。

優(yōu)選的，所述步驟d之后還包括通過回氣管將所述艙體內的混合氣體導入干燒室循環(huán)利用。

本發(fā)明還提供一種納米級水霧制造設備，所述納米級水霧制造設備包括裝有純凈水的加熱室、裝有純凈水的霧化室、設置有進氣口的干燒室、設置有艙門的艙體、霧化片、加熱器、電熱絲、風機和輸氣管，其特征在于，所述加熱室分別與所述霧化室、干燒室連通，所述艙體通過所述輸氣管與所述霧化室連通，所述霧化片安裝在所述霧化室中，所述霧化片用于產生納米級水霧，所述加熱器安裝在所述加熱室中，所述電熱絲安裝在所述干燒室中，所述電熱絲用于提高干燒室內空氣的溫度，所述風機用于將納米級水霧、水蒸汽和熱空氣混合后通過輸氣管推送至所述艙體中。

優(yōu)選的，所述艙體為可折疊的艙體。

優(yōu)選的，所述納米級水霧制造設備還包括回氣管，所述艙體通過所述回氣管與所述干燒室的進氣口連接。

優(yōu)選的，所述風機安裝在所述干燒室中。

優(yōu)選的，所述加熱室和霧化室均設置有用于分別向所述加熱室和霧化室添加純凈水的加水口，所述加水口上設置有蓋帽。

本發(fā)明具有如下優(yōu)點：

1、本發(fā)明通過霧化片來產生納米級水霧，降低了霧化設備工作過程中產生的噪音。由于本發(fā)明的納米級水霧制造設備是通過多個霧化片的高頻振動來產生納米級水霧，提高了霧化設備的霧化速率。此外，霧化片產生的水霧是納米級水霧，因此相對于轉盤霧化設備產生的水霧，本發(fā)明納米級水霧制造設備產生的水霧粒徑更小更均勻。

2、本發(fā)明采用多個霧化片來產生納米級水霧，并將產生的納米級水霧、水蒸汽和熱空氣進行混合來提高納米級水霧的溫度，減小納米級水霧在運移過程中的損失，從而增大了納米級水霧制造設備的霧化量。

附圖說明

圖1為實施例1中納米級水霧制造設備的結構示意圖。

圖2為實施例2中納米級水霧制造設備的結構示意圖。

圖3為艙體的結構示意圖。

圖4為艙體的剖面結構示意圖。

圖5為納米級水霧制造方法的流程圖。

具體實施方式

以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。

實施例1

如圖1所示，該納米級水霧制造設備包括加熱室1、霧化室2、干燒室3、艙體4、霧化片21、加熱器12、電熱絲34、風機31和輸氣管32。本發(fā)明的納米級水霧制造設備具有噪音低、霧化速率快和霧化量大的優(yōu)點。霧化室2、加熱室1和干燒室3為三個連接在一起的艙室，從左至右依次為霧化室2、加熱室1和干燒室3。加熱室1分別與霧化室2、干燒室3上部連通，艙體4通過輸氣管32與霧化室2連通。干燒室3的下部設置有進氣孔，外部的空氣可以通過進氣孔進入干燒室3內。霧化片21安裝在霧化室2的底部，在本實施例中，霧化室2內設置有三個霧化片21，霧化片21通電后會發(fā)生高頻振動，將液態(tài)水分子結構打散而產生自然飄逸的納米級水霧。為了能調節(jié)霧化片21的霧化速率，每個霧化片21均與一個開關連接，通過控制每個開關便能獨立控制與之對應霧化片21的工作與關閉，從而達到調節(jié)霧化片21的霧化速率的目的。加熱器12安裝在加熱室1的底部，通過給加熱器12通電，使得加熱室1中的純凈水蒸發(fā)而產生水蒸氣。電熱絲34安裝在干燒室3的上部，通過給電熱絲34供電發(fā)熱，來提高干燒室3中空氣的溫度。在本實施例中，風機31安裝在干燒室3的中部，風機31將干燒室3中的熱空氣和加熱室1中的水蒸氣吹向霧化室2，使得加熱后的空氣、水蒸氣和納米級水霧進行混合后通過輸氣管32進入艙體4中，供艙體4中的患者吸入，當然，風機31也可以安裝在霧化室2和加熱室1中。通過將納米級水霧、水蒸汽和熱空氣進行混合，來提高納米級水霧的溫度，減小納米級水霧在運移過程中的損失，從而增大了納米級水霧制造設備的霧化量。

如圖3和4所示，為了減小在不使用艙體4時艙體4所占用的空間，在本實施例中，艙體4為可折疊的艙體4。艙體4包括第一板面和第二板面42，第一板面41和第二板面42連接，第一板面41和第二板面42之間連接有折疊面43，折疊面43設置有多個折疊機構。當?shù)谝话迕?1和第二板面42相互靠近時折疊面43可以被壓縮折疊在第一板面41和第二板面42之間，從而大大減小艙體4占用的空間。第一板面41上設置有艙門411，用戶可通過艙門411進出艙體4。輸氣管32的一端安裝在第一板面41上，另一端安裝在霧化室2的上部，熱空氣、水蒸氣和納米級水霧進行混合后通過輸氣管32進入艙體4中。

進一步的，為了方便分別向加熱室1和霧化室2添加入純凈水，加熱室1和霧化室2均設置有用于添加純凈水的加水口11，當加熱室1或霧化室2內缺少純凈水時，只需擰下加水口11上的蓋帽加入純凈水，再擰緊蓋帽，納米級水霧制造設備便可繼續(xù)使用。

進一步的，為了降低電熱絲34的電量損耗，在本實施例中，艙體4與干燒室3之間設置有回氣管33，回氣管33的一端與艙體4連接，另一端與干燒室3的進氣口連接，通過回氣管33將艙體4內的混合氣體導入干燒室3。由于艙體4中的混合氣體溫度較高，混合氣體中含有大量的熱量和納米級水霧，通過將艙體4中的混合氣體導入干燒室3循環(huán)利用，電熱絲34只需消耗很少的電量，便可將干燒室3中的氣體加熱到設定的溫度，從而降低了電熱絲34的電量損耗，又增加了納米級水霧制造設備輸出的霧化量。

圖5示出了圖1所示的納米級水霧制造設備的納米級水霧制造方法流程圖，具體包括以下步驟：

s101，利用加熱器12加熱加熱室1中的純凈水產生水蒸氣；

加熱器12通電后發(fā)熱將加熱室1內的純凈水加熱蒸發(fā)，產生大量的水蒸氣。

s102，利用霧化片21高頻拍擊霧化室2內的純凈水產生納米級水霧；

三塊霧化片21通電后會發(fā)生高頻振動，霧化片21將化室內純凈水的液態(tài)水分子結構打散而產生自然飄逸的納米級水霧。

s103，利用電熱絲34加熱干燒室3內的空氣；

電熱絲34通電后發(fā)熱將干燒室3內的空氣加熱，使得燒室內的空氣溫度升高達到設定的溫度。上述三個步驟可以同時執(zhí)行，也可以首先執(zhí)行任意其中一個步驟，再執(zhí)行其他兩個步驟。

s104，利用風機31將水蒸氣、納米級水霧和加熱后的空氣進行混合并將其推送至艙體4；

風機31通電轉動后，將干燒室3內加熱后的空氣和加熱室1內的水蒸氣推送至霧化室2，使得水蒸氣、納米級水霧和加熱后的空氣混合，在壓力的推動下，混合后的氣體沿著輸氣管32進入艙體4。

優(yōu)選的，在上述納米級水霧制造方法中，在執(zhí)行完步驟s104之后還包括通過回氣管33將艙體4內的混合氣體導入干燒室3循環(huán)利用。由于艙體4中的混合氣體溫度較高，混合氣體中含有大量的熱量和納米級水霧，通過將艙體4中的空氣導入干燒室3重新利用，電熱絲34只需消耗很少電量，便可將干燒室3中的空氣加熱到設定的溫度，從而降低了電熱絲34的能量損耗，又增加了霧化室輸出的霧化量。

實施例2

如圖2所示，本實施例以實施例1為基礎，與實施例1的不同之處在于，本實施例中去掉了回風管，干燒室3為管狀結構，干燒室3的一端與艙體4連接，另一端與加熱室1連接，風機31和電熱絲34均安裝在干燒室3內。通過將干燒室3設計為管狀結構，不僅簡化了納米級水霧制造設備的結構，而且使艙體4內的空氣循環(huán)使用的效率更高。

雖然，上文中已經用一般性說明及具體實施例對本發(fā)明作了詳盡的描述，但在本發(fā)明基礎上，可以對之做一些修改或改進，這對本領域技術人員而言是顯而易見的。因此，在不偏離本發(fā)明精神的基礎上所做的這些修改或改進，均屬于本發(fā)明要求保護的范圍。