1.一種陶瓷基板抗氧化處理裝置，其特征在于：包括陶瓷基板送入組件、循環(huán)提升組件、抗氧化噴涂組件以及陶瓷基板送出組件，抗氧化噴涂組件設(shè)置在循環(huán)提升組件的正上方，陶瓷基板送入組件以及陶瓷基板送出組件分別位于循環(huán)提升組件的兩側(cè)面；循環(huán)提升組件包括有機(jī)架、升降驅(qū)動(dòng)單元、接料槽(31)、出料槽(32)以及升降單元，接料槽(31)、出料槽(32)分別位于循環(huán)升降組件的兩側(cè)，且與陶瓷基板送入組件、陶瓷基板送出組件銜接；升降單元和升降驅(qū)動(dòng)單元位于機(jī)架上部；機(jī)架包括四根平行設(shè)置的支柱(13)，支柱(13)上固定連接有方形框架(11)，方形框架(11)上部?jī)蓚?cè)分別固定有門型架，門型架包括兩根豎直支撐柱(16)以及將其連接起來(lái)的橫梁(17)，相鄰支柱(13)的中部還連接有加強(qiáng)梁(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷基板抗氧化處理裝置，其特征在于：升降驅(qū)動(dòng)裝置包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)(21)以及減速機(jī)(25)，驅(qū)動(dòng)電機(jī)(21)通過(guò)電機(jī)安裝座(15)固定設(shè)置在加強(qiáng)梁(12)上，減速機(jī)(25)固定在方形框架(11)上，驅(qū)動(dòng)電機(jī)(21)的輸出軸連接有主動(dòng)輪(22)，減速機(jī)(25)的輸入軸連接有從動(dòng)輪(23)，主動(dòng)輪(22)和從動(dòng)輪(23)之間連接有驅(qū)動(dòng)皮帶(24)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷基板抗氧化處理裝置，其特征在于：支柱(13)的下部設(shè)置有緩沖支腳(14)，緩沖支腳(14)為彈性結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷基板抗氧化處理裝置，其特征在于：升降單元包括提升鏈輪(41)和提升鏈條(42)，提升鏈輪(41)分為兩組，每組具有四個(gè)，每組提升鏈輪(41)分別設(shè)置在門型架的四角，兩組提升鏈條(42)分別設(shè)置在兩組提升鏈輪(41)上，提升鏈條(42)形成方形回路，兩組提升鏈條(42)之間分布有連接桿(43)，連接桿(43)的兩端分別與兩組提升鏈條(42)固定連接，連接桿(43)上固定有安裝板(44)，安裝板(44)上設(shè)置有真空吸盤(45)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種陶瓷基板抗氧化處理裝置，其特征在于：連接桿(43)為多根，相鄰連接桿之間的距離相等，安裝板(44)的長(zhǎng)度小于連接桿(43)的長(zhǎng)度，且連接桿(43)的寬度小于安裝板(44)的寬度，安裝板(44)上的真空吸盤(45)具有多個(gè)，且相鄰真空吸盤(45)之間的距離相等。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷基板抗氧化處理裝置，其特征在于：升降驅(qū)動(dòng)裝置與控制組件電連接，控制組件內(nèi)部預(yù)先設(shè)定進(jìn)行一塊陶瓷基板抗氧化處理的時(shí)間，控制組件根據(jù)該時(shí)間對(duì)升降驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)行間歇控制，從而實(shí)現(xiàn)升降組件的間歇運(yùn)動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種陶瓷基板抗氧化處理裝置，其特征在于：真空吸盤(45)包括主體部(453)、連接部(456)以及吸盤部(457),主體部(453)與連接部(456)通過(guò)緊固螺釘(459)固定連接，吸盤部(457)緊密套設(shè)在連接部(456)上，主體部(453)外部還連接有真空管路(451)；主體部(453)為中空結(jié)構(gòu)，其內(nèi)部設(shè)置有固定件(454)，固定件(454)下部具有托舉件(455)，固定件(454)包括球頭和設(shè)置在球頭上部的管狀部，球頭和管狀部均設(shè)置有通路，管狀部穿出主體部(453)與真空管路(451)通過(guò)卡箍(452)密閉連接，球頭內(nèi)部的通路向外延伸并與穿過(guò)連接部(456)的真空吸管(450)連接，真空吸管(450)的末端位于吸盤部(457)內(nèi)，吸盤部(457)的內(nèi)表面為波浪狀，吸盤部(457)的外部為喇叭狀；吸盤部(457)的邊緣還設(shè)置有除靜電網(wǎng)(458)。