本實(shí)用新型涉及中低溫?zé)煔饷摿蛎撓跫夹g(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種噴氨結(jié)構(gòu)體。

背景技術(shù)：

用還原法去除煙氣中氮氧化物時(shí)多采用氨還原法，按溫度高低、有無(wú)催化劑劃分為SNCR法和SCR法；SNCR法運(yùn)行溫度多在1000攝氏度左右；煙氣NH₃-SCR法脫硝技術(shù)按其所處理的煙氣溫度大致可分為三種類型：第一種是高溫?zé)煔饷撓?，處理煙氣溫度?00～400℃；第二種是中溫脫硝工藝，處理煙氣溫度為200～300℃；第三種是低溫脫硝工藝，處理煙氣溫度為120～220℃。第一種高溫?zé)煔饷撓跫夹g(shù)已在世界范圍內(nèi)廣泛應(yīng)用于電廠脫硝工藝，第二種、第三種脫硝技術(shù)目前正在采暖燃煤鍋爐煙氣脫硝、玻璃窯煙氣脫硝工藝中試運(yùn)行。與第一種高溫?zé)煔饷撓跫夹g(shù)相比，第二種及第三種中低溫脫硝技術(shù)的局限性在于煙氣中的二氧化硫含量及含水量會(huì)對(duì)脫硝效率產(chǎn)生極大的影響。

申請(qǐng)?zhí)枮?01410478420.0的中國(guó)專利公開(kāi)了一種“中低溫?zé)煔饷摿虺龎m脫硝及脫硝催化劑熱解析一體化裝置”，“包括由下至上集成在一個(gè)塔體內(nèi)的脫硫集塵凈化段、解析噴氨混合段和脫硝反應(yīng)段，其中噴氨結(jié)構(gòu)體設(shè)在熱解析氣體輸送噴射結(jié)構(gòu)體上方，由多條平行設(shè)置的噴氨管道組成，每條噴氨管道上均設(shè)有噴氨調(diào)節(jié)閥，噴氨管道上均布氨噴射口；”。

上述專利中噴氨時(shí)采用的是正壓噴氨，其雖然采用多個(gè)噴頭同時(shí)噴氨，但仍存在氨氣與煙氣混合不均的問(wèn)題，并且噴氨處煙氣的壓力、溫度變化很大，對(duì)系統(tǒng)保持氣流均勻穩(wěn)定存在不利影響。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供了一種噴氨結(jié)構(gòu)體，用于氨法脫除氮氧化物時(shí)噴射氨氣，其既能正壓噴氨也能負(fù)壓抽吸氨氣，同時(shí)保證噴入的氨氣與煙氣均勻混合，最大程度減少因噴氨帶來(lái)的系統(tǒng)壓力及溫度波動(dòng)，保證系統(tǒng)穩(wěn)定、有效運(yùn)行。

為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種噴氨結(jié)構(gòu)體，包括氨氣緩沖室、法蘭連接管和噴氨支管，其中：氨氣緩沖室用于氨氣的暫時(shí)緩沖，并實(shí)現(xiàn)正壓、負(fù)壓噴氨；法蘭連接管用于連接氨氣緩沖室及噴氨支管，同時(shí)法蘭連接管也是噴氨結(jié)構(gòu)體安裝時(shí)的支撐部件；噴氨支管為多個(gè)均勻并列布置，其上設(shè)有噴氨孔或氨氣噴嘴，用于噴射氨氣。

所述氨氣緩沖室沿噴氨支管排列方向設(shè)置，并通過(guò)法蘭連接管與各個(gè)噴氨支管垂直連通；氨氣緩沖室為1～2個(gè)，氨氣緩沖室為2個(gè)時(shí)，分別布置在噴氨支管的兩側(cè)。

所述噴氨支管的布置間距為100～400mm。

所述噴氨孔或氨氣噴嘴沿噴氨支管縱向及周向均勻分布，縱向分布間距為20～50mm；在同一橫斷面上分布的噴氨孔或氨氣噴嘴數(shù)量為3～7個(gè)。

所述氨氣緩沖室為圓柱體或長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)。

所述噴氨孔為圓形孔，直徑為1～10mm。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

1)采用多管、多孔結(jié)構(gòu)噴氨，噴氨范圍以面代點(diǎn)，噴氨效果更好；

2)可保證反應(yīng)器中噴氨無(wú)死角，氨氣與煙氣混合更均勻、接觸更充分，有利于脫硝反應(yīng)的進(jìn)行；

3)由眾多噴氨點(diǎn)形成噴氨層，而每個(gè)噴氨點(diǎn)的氣量很小，速度相對(duì)較低，對(duì)煙氣系統(tǒng)壓力變化的影響大大減??；

4)結(jié)構(gòu)形式獨(dú)特，采用氨氣緩沖室后，既可實(shí)現(xiàn)正壓噴氨，也可實(shí)現(xiàn)負(fù)壓噴氨；

5)采用多個(gè)噴氨支管，每個(gè)噴氨支管上設(shè)有多個(gè)噴氨孔或氨氣噴嘴，個(gè)別噴氨支管或氨氣噴嘴檢修時(shí)，不影響整體噴氨效果。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型所述噴氨結(jié)構(gòu)體的結(jié)構(gòu)示意圖一。(設(shè)置1個(gè)氨氣緩沖室時(shí))

圖2是本實(shí)用新型所述噴氨結(jié)構(gòu)體的結(jié)構(gòu)示意圖二。(設(shè)置2個(gè)氨氣緩沖室時(shí))

圖3是圖1中的A-A視圖。

圖4是圖3中的B-B視圖。

圖中：1.氨氣緩沖室 2.法蘭連接管 3.噴氨支管 4.噴氨孔/氨氣噴嘴

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步說(shuō)明：

如圖1所示，本實(shí)用新型所述一種噴氨結(jié)構(gòu)體，包括氨氣緩沖室1、法蘭連接管2和噴氨支管3，其中：氨氣緩沖室1用于氨氣的暫時(shí)緩沖，并實(shí)現(xiàn)正壓、負(fù)壓噴氨；法蘭連接管2用于連接氨氣緩沖室1及噴氨支管3，同時(shí)法蘭連接管2也是噴氨結(jié)構(gòu)體安裝時(shí)的支撐部件；噴氨支管3為多個(gè)均勻并列布置，其上設(shè)有噴氨孔或氨氣噴嘴4，用于噴射氨氣。(如圖3所示)

所述氨氣緩沖室1沿噴氨支管3排列方向設(shè)置，并通過(guò)法蘭連接管2與各個(gè)噴氨支管3垂直連通；氨氣緩沖室1為1～2個(gè)，如圖2所示，氨氣緩沖室1為2個(gè)時(shí)，分別布置在噴氨支管3的兩側(cè)。

所述噴氨支管3的布置間距為100～400mm。

如圖3、圖4所示，所述噴氨孔或氨氣噴嘴4沿噴氨支管3縱向及周向均勻分布，縱向分布間距為20～50mm；在同一橫斷面上分布的噴氨孔或氨氣噴嘴4數(shù)量為3～7個(gè)。

所述氨氣緩沖室1為圓柱體或長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)。

所述噴氨孔為圓形孔，直徑為1～10mm。

本實(shí)用新型中，氨氣緩沖室1另外連接氨氣氣源端，用于氨氣的暫時(shí)緩沖，其尺寸與外形對(duì)于氨氣流量與壓力至關(guān)重要，是實(shí)現(xiàn)正壓、負(fù)壓均勻噴氨的關(guān)鍵部件。當(dāng)系統(tǒng)為正壓時(shí)，氨氣氣源端壓力較氨氣緩沖室1壓力大，氨氣主動(dòng)經(jīng)過(guò)氨氣緩沖室1，通過(guò)法蘭連接管2進(jìn)入噴氨支管3，通過(guò)噴氨孔或氨氣噴嘴4噴射出；當(dāng)系統(tǒng)為負(fù)壓時(shí)，氨氣緩沖室1的壓力較氨氣氣源端壓力大，引射動(dòng)力由噴氨孔或氨氣噴嘴4處產(chǎn)生，吸引拖拽氨氣依次流經(jīng)氨氣緩沖室1、法蘭連接管2進(jìn)入噴氨支管3。負(fù)壓運(yùn)行和正壓運(yùn)行時(shí)壓力氨氣在系統(tǒng)內(nèi)的流線不同。

相鄰噴氨支管3之間的間距不宜過(guò)大，具體視系統(tǒng)正壓值/負(fù)壓值、噴氨量以及開(kāi)孔角度而定。

以上所述，僅為本實(shí)用新型較佳的具體實(shí)施方式，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案及其實(shí)用新型構(gòu)思加以等同替換或改變，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。