本實(shí)用新型涉及一種脫硫塔,尤其涉及一種脫硫塔內(nèi)除硫裝置。
背景技術(shù):
焦化生產(chǎn)中常采用HPF法脫硫工藝脫除脫硫塔頂部氣相內(nèi)的單質(zhì)硫。由于脫硫貧液內(nèi)含有大量的懸浮硫,氣液接觸后大量懸浮硫轉(zhuǎn)移到煤氣中,塔頂部設(shè)置的捕霧填料在去除煤氣內(nèi)霧滴的同時(shí),懸浮硫也附著在填料層內(nèi),經(jīng)長(zhǎng)期積累達(dá)到一定厚度,使脫硫塔運(yùn)行阻力增大,形成堵塔現(xiàn)象。因此脫硫塔在運(yùn)行過(guò)程中需經(jīng)常停塔,人工進(jìn)塔清洗填料,甚至需要更換填料,造成巨大的人力、物力浪費(fèi),嚴(yán)重影響脫硫效率。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型提供了一種脫硫塔內(nèi)除硫裝置,可有效脫除氣相中攜帶的懸浮硫,使脫硫塔穩(wěn)定、高效運(yùn)行,其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單合理,可降低脫硫塔運(yùn)行成本,提高脫硫效率,并可用于常規(guī)脫硫塔改造。
為了達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種脫硫塔內(nèi)除硫裝置,安裝在脫硫塔內(nèi),所述脫硫塔的頂部設(shè)置有捕霧填料;包括凹形槽體和凸形蓋體,所述凹形槽體、凸形蓋體依次設(shè)置在捕霧填料下方,其中凹形槽體為上部開(kāi)口大、下部開(kāi)口小的殼形結(jié)構(gòu),凸形蓋體為上部開(kāi)口小、下部開(kāi)口大的殼形結(jié)構(gòu);凸形蓋體的上部與凹形槽體的下部交錯(cuò)穿插,凸形蓋體的頂部設(shè)封蓋。
所述凹形槽體、凸形蓋體的橫截面為圓形、矩形或多邊形。
所述凹形槽體的頂部邊緣與脫硫塔內(nèi)壁固定連接。
所述凸形蓋體下方設(shè)有支撐梁,支撐梁架設(shè)在脫硫塔塔體內(nèi),兩端與脫硫塔內(nèi)壁固定連接;凸形蓋體固定在支撐梁上。
所述捕霧填料采用花環(huán)填料或瓷環(huán)填料。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:
1)采用凹形槽體和凸形蓋體組合的結(jié)構(gòu),有效去除氣相中的懸浮硫;
2)裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單合理,節(jié)省空間,制造成本低;
3)保證脫硫塔穩(wěn)定、高效運(yùn)行,延長(zhǎng)捕霧填料的使用周期和壽命,降低脫硫塔運(yùn)行成本,提高脫硫效率;
4)不僅可用于新建脫硫塔,還可用于常規(guī)脫硫塔改造,簡(jiǎn)單易行,投資少,見(jiàn)效快。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型所述一種脫硫塔除硫裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本實(shí)用新型所述凹形槽體的俯視圖。(以上部開(kāi)口為圓形,下部開(kāi)口為方形的結(jié)構(gòu)為例)
圖3是本實(shí)用新型所述凸形蓋體的俯視圖。(以四方錐臺(tái)形結(jié)構(gòu)為例)
圖中:1.脫硫塔 2.清洗液噴灑裝置 3.捕霧填料 4.凹形槽體 5.凸形蓋體 6.封蓋 7.支撐梁
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步說(shuō)明:
如圖1所示,本實(shí)用新型所述一種脫硫塔內(nèi)除硫裝置,安裝在脫硫塔1內(nèi),所述脫硫塔1的頂部設(shè)置有捕霧填料3;包括凹形槽體4和凸形蓋體5,所述凹形槽體4、凸形蓋體5依次設(shè)置在捕霧填料3下方,其中凹形槽體4為上部開(kāi)口大、下部開(kāi)口小的殼形結(jié)構(gòu),凸形蓋體5為上部開(kāi)口小、下部開(kāi)口大的殼形結(jié)構(gòu);凸形蓋體5的上部與凹形槽體3的下部交錯(cuò)穿插,凸形蓋體5的頂部設(shè)封蓋6。
所述凹形槽體4、凸形蓋體5的橫截面為圓形、矩形或多邊形。
所述凹形槽體4的頂部邊緣與脫硫塔1內(nèi)壁固定連接。
所述凸形蓋體5下方設(shè)有支撐梁7,支撐梁7架設(shè)在脫硫塔1塔體內(nèi),兩端與脫硫塔1內(nèi)壁固定連接;凸形蓋體5固定在支撐梁7上。
所述捕霧填料3采用花環(huán)填料或瓷環(huán)填料。
基于本實(shí)用新型所述一種脫硫塔內(nèi)除硫裝置的脫硫塔內(nèi)除硫方法,適用于焦化生產(chǎn)中HPF法煤氣脫硫工藝;包括如下步驟:
1)脫硫塔1內(nèi)由凹形槽體4和凸形蓋體5之間的環(huán)形空隙形成氣體流通通道,脫硫塔1內(nèi),脫硫液自上而下噴淋,煤氣與脫硫液逆向接觸后脫除煤氣中的H2S,同時(shí)懸浮硫被氣體攜帶進(jìn)入脫硫塔1頂部空間;
2)在氣體上升過(guò)程中,絕大部分氣體與凸形蓋體5直接接觸碰撞,一部分懸浮硫被吸附在凸形蓋體5的內(nèi)壁上;(圖3中陰影部分為可吸附表面)
3)碰撞后的氣體從凸形蓋體5底部溢出,繞過(guò)凸形蓋體5邊緣后與凹形槽體4碰撞,另一部分懸浮硫吸附在凹形槽體4內(nèi)壁上;(圖2中陰影部分為可吸附表面)
4)穿過(guò)凹形槽體4的氣體進(jìn)入脫硫塔1頂部的捕霧填料3,氣體中的霧滴經(jīng)捕霧填料3去除后,從塔頂排出;
5)捕霧填料3上方設(shè)清洗液噴灑裝置2,定期清洗捕霧填料3,清洗液經(jīng)過(guò)捕霧填料3后流下,先后對(duì)凹槽蓋體4和凸形蓋體5進(jìn)行清洗,清洗液最終流入脫硫塔1塔底。
以上所述,僅為本實(shí)用新型較佳的具體實(shí)施方式,但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi),根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案及其實(shí)用新型構(gòu)思加以等同替換或改變,都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。