本發(fā)明涉及一種水性涂布液、膜及其制造方法、層疊體以及太陽能電池模塊。

背景技術(shù)：

含有二氧化硅微粒的水性涂布液使用的是包含水的溶劑，所形成的膜的表面能低且透明性優(yōu)異，由此使用于各種用途。作為其用途，例如可以舉出防反射膜、光學(xué)透鏡、光學(xué)過濾器、各種顯示器的薄層薄膜晶體管(tft)用平坦化膜、防結(jié)露膜、防污膜及表面保護(hù)膜等。其中，防反射膜及防污膜因能夠使用于例如太陽能電池模塊、監(jiān)控?cái)z像機(jī)、照明設(shè)備、標(biāo)簽等的保護(hù)膜而有用。

關(guān)于使用于防污膜等的用途的含有二氧化硅微粒的水性涂布液，近年來，已提出有各種方案。

例如，作為可以將水性液均勻地涂布于具有排斥性質(zhì)的涂膜表面的防污涂層液，提出有含有二氧化硅微粒、水及表面活性劑作為必要成分，且實(shí)質(zhì)上不含有醇的防污涂層液(例如，參考日本專利2010-138358號公報(bào))。

并且，作為對硬質(zhì)表面的防污效果優(yōu)異且也具有易洗效果的防污劑，提出有含有帶正電的平均粒徑為1nm～100nm的二氧化硅類化合物及水的硬質(zhì)表面用防污劑(例如，參考日本特開2002-3820號公報(bào))。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的技術(shù)課題

可是，對于設(shè)置在室外長期使用的太陽能電池模塊、監(jiān)控?cái)z像機(jī)等的保護(hù)膜，不僅要求防污性，還要求防反射性及耐劃傷性。

然而，通過使用記載于日本專利2010-138358號公報(bào)中的防污涂層液而形成的涂膜表面具有充分的防污性，但防反射性及耐劃傷性并不充分。并且，使用記載于日本特開2002-3820號公報(bào)中的防污劑而形成的涂膜表面具有充分的防污性，但防反射性及耐劃傷性差。

即，實(shí)際情況下，未提供有防反射性、耐劃傷性及防污劑均優(yōu)異的膜。

本發(fā)明的一實(shí)施方式是鑒于上述實(shí)際情況而完成的，其課題在于提供一種可形成防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異的膜的水性涂布液。

并且，本發(fā)明的一實(shí)施方式的課題在于提供一種防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異的膜及其制造方法、層疊體以及太陽能電池模塊。

用于解決技術(shù)課題的手段

用于解決課題的方式包括以下方式。

[1]一種膜的制造方法，其包括：涂布膜形成工序，在基材上涂布水性涂布液而形成涂布膜，所述水性涂布液包含水、平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子、多元醇型非離子表面活性劑，且ph為8～12；及涂布膜干燥工序，將涂布形成的涂布膜進(jìn)行干燥。

[2]根據(jù)[1]所述的膜的制造方法，二氧化硅粒子的平均一次粒徑為6nm以下。

[3]根據(jù)[1]或[2]所述的膜的制造方法，水性涂布液的ph為9～11。

[4]根據(jù)[1]～[3]中任一個(gè)所述的膜的制造方法，水性涂布液中的多元醇型非離子表面活性劑的含量相對于水性涂布液的總質(zhì)量為0.07質(zhì)量％～1.0質(zhì)量％。

[5]根據(jù)[1]～[4]中任一個(gè)所述的膜的制造方法，多元醇型非離子表面活性劑為具有環(huán)狀聚醚作為親水基團(tuán)的多元醇型非離子表面活性劑。

[6]根據(jù)[1]～[5]中任一個(gè)所述的膜的制造方法，多元醇型非離子表面活性劑為烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑。

[7]根據(jù)[1]～[6]中任一個(gè)所述的膜的制造方法，在涂布膜干燥工序之后，還包括將干燥后的涂布膜以400℃以上且800℃以下的溫度進(jìn)行燒成的涂布膜燒成工序。

[8]根據(jù)[7]所述的膜的制造方法，涂布膜燒成工序中將干燥后的涂布膜以500℃以上且800℃以下的溫度進(jìn)行燒成。

[9]根據(jù)[7]或[8]所述的膜的制造方法，在涂布膜干燥工序之后，涂布膜燒成工序之前的涂布膜中的二氧化硅粒子的含量相對于涂布膜的總固體成分為64質(zhì)量％～95質(zhì)量％。

[10]根據(jù)[7]～[9]中任一個(gè)所述的膜的制造方法，燒成后的涂布膜的膜厚為50nm以上且350nm以下。

[11]根據(jù)[1]～[10]中任一個(gè)所述的膜的制造方法，至少干燥后的涂布膜中，由下述式(1)定義的在400nm～1100nm波長的光以5°入射時(shí)的平均反射率變化δr的絕對值為2.0％以上。

|平均反射率變化δr|＝|r膜形成后的基材的平均反射率-r基材的平均反射率|式(1)

[12]根據(jù)[11]所述的膜的制造方法，平均反射率變化δr的絕對值為2.5％以上。

[13]一種水性涂布液，包含水、平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子、多元醇型非離子表面活性劑，且ph為8～12。

[14]根據(jù)[13]所述的水性涂布液，二氧化硅粒子的平均一次粒徑為6nm以下。

[15]根據(jù)[13]或[14]所述的水性涂布液，水性涂布液的ph為9～11。

[16]根據(jù)[13]～[15]中任一個(gè)所述的水性涂布液，水性涂布液中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液的總固體成分為64質(zhì)量％～95質(zhì)量％。

[17]根據(jù)[13]～[16]中任一個(gè)所述的水性涂布液，水性涂布液中的多元醇型非離子表面活性劑的含量相對于水性涂布液的總質(zhì)量為0.07質(zhì)量％～1.0質(zhì)量％。

[18]根據(jù)[13]～[17]中任一個(gè)所述的水性涂布液，多元醇型非離子表面活性劑為具有環(huán)狀聚醚作為親水基團(tuán)的多元醇型非離子表面活性劑。

[19]根據(jù)[13]～[18]中任一個(gè)所述的水性涂布液，多元醇型非離子表面活性劑為烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑。

[20]一種膜，通過[1]～[12]中任一個(gè)所述的制造方法而制造。

[21]一種層疊體，在基材上具有[20]所述的膜。

[22]根據(jù)[21]所述的層疊體，基材為玻璃基材。

[23]一種太陽能電池模塊，具備[21]或[22]所述的層疊體。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施方式，能夠提供可形成防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異的膜的水性涂布液。

并且，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施方式，能夠提供防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異的膜及其制造方法、層疊體以及太陽能電池模塊。

附圖說明

圖1是在表面狀態(tài)的評價(jià)試驗(yàn)中相當(dāng)于評價(jià)基準(zhǔn)[a]的表面狀態(tài)的電子顯微鏡照片。

圖2是在表面狀態(tài)的評價(jià)試驗(yàn)中相當(dāng)于評價(jià)基準(zhǔn)[e]的表面狀態(tài)的電子顯微鏡照片。

具體實(shí)施方式

以下，關(guān)于本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明，但本發(fā)明并不限定于以下實(shí)施方式，在本發(fā)明的目的范圍內(nèi)能夠適當(dāng)?shù)丶右宰兏?shí)施。

在本說明書中，用“～”表示的數(shù)值范圍是指將記載于“～”前后的數(shù)值分別作為最小值及最大值而包含的范圍。

在本說明書中，在組合物中存在多種相當(dāng)于各成分的物質(zhì)的情況下，若無特別的說明，則組合物中的各成分的量是指存在于組合物中的多種物質(zhì)的總量。

在本說明書中，“工序”的術(shù)語不僅包括獨(dú)立的工序，而且即使在與其它工序無法明確地區(qū)別的情況下若可以實(shí)現(xiàn)該工序的預(yù)期的目的，則也可以包括在該術(shù)語中。

[膜的制造方法]

本公開的膜的制造方法包括：涂布膜形成工序，在基材上涂布水性涂布液而形成涂布膜，所述水性涂布液包含水、平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子、多元醇型非離子表面活性劑，且ph為8～12；及涂布膜干燥工序，將涂布形成的涂布膜進(jìn)行干燥。

本公開的膜的制造方法在涂布膜干燥工序之后，優(yōu)選還包括將干燥后的涂布膜以400℃以上且800℃以下的溫度進(jìn)行燒成的涂布膜燒成工序。并且，本公開的膜的制造方法在不損害本公開的效果的范圍內(nèi)，根據(jù)需要，也可以包括其它工序。

在本公開的膜的制造方法中，在基材上涂布水性涂布液而形成涂布膜之后，將涂布形成的涂布膜進(jìn)行干燥，由此能夠得到防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異的膜，所述水性涂布液包含水、平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子、多元醇型非離子表面活性劑，且ph為8～12。

雖然通過本公開的制造方法而得到的膜的防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異的理由并不明確，但本發(fā)明人等如下進(jìn)行推測。

若在基材上涂布包含二氧化硅粒子的水性涂布液并使其干燥，則形成二氧化硅粒子彼此局部粘附的膜。二氧化硅粒子彼此局部粘附而形成的膜具有在二氧化硅粒子之間產(chǎn)生的空隙，因此認(rèn)為防反射性優(yōu)異。

微細(xì)的二氧化硅粒子在溶液中容易凝聚。若使用包含平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子，且控制為與二氧化硅粒子的等電點(diǎn)(ph4～6)有差距的ph(8～12)的水性涂布液，則可抑制水性涂布液中的二氧化硅粒子的凝聚，二氧化硅粒子的分散性變得良好。若二氧化硅粒子的分散性變得良好，則水性涂布液的涂布精度提高，因此認(rèn)為所形成的膜的防反射性優(yōu)異。

粒子的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子彼此排斥而欲維持分散性，但共存于水性涂布液中的多元醇型非離子表面活性劑具有難以吸附于二氧化硅粒子的表面的性質(zhì)，因此難以損害二氧化硅粒子的分散性。另一方面，多元醇型非離子表面活性劑在水性涂布液中局部存在于溶液的表面，能夠以少量來降低水性涂布液的表面張力，因此水性涂布液的潤濕性變得良好。根據(jù)這種多元醇型非離子表面活性劑的作用，可以形成更均勻的涂布膜，認(rèn)為可以得到優(yōu)異的防反射性。

若在基材上涂布包含平均一次粒徑為8nm以下的微細(xì)的二氧化硅粒子的水性涂布液并使其干燥，則二氧化硅粒子緊密地配置，形成致密的膜，因此膜的硬度提高，認(rèn)為可以得到優(yōu)異的耐劃傷性。另外，若燒成被干燥的涂布膜，則粒子之間的局部粘附變得更牢固，且膜變得致密，因此認(rèn)為耐劃傷性進(jìn)一步提高。

并且，通過形成致密的膜而膜面變得平滑的結(jié)果，可抑制污垢的附著，認(rèn)為可以得到優(yōu)異的防污性。

由以上內(nèi)容，認(rèn)為通過本公開的制造方法而制造的膜在防反射性、耐劃傷性及防污性上均優(yōu)異。

以下，關(guān)于本公開的膜的制造方法中的各工序進(jìn)行詳細(xì)說明。關(guān)于各工序中使用的成分等的詳細(xì)內(nèi)容進(jìn)行后述。

〔涂布膜形成工序〕

涂布膜形成工序?yàn)樵诨纳贤坎妓酝坎家憾纬赏坎寄さ墓ば?，該水性涂布液包含水、平均一次粒徑?nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子、多元醇型非離子表面活性劑，且ph為8～12。

在涂布膜形成工序中，如同前述，使用二氧化硅粒子的分散性良好的水性涂布液，因此認(rèn)為能夠以良好的涂布精度形成涂布膜。并且，在涂布膜形成工序中使用的水性涂布液包含具有局部存在于溶液表面的傾向的多元醇型非離子表面活性劑，因此潤濕性變得良好，認(rèn)為能夠形成更均勻的涂布膜。

水性涂布液的涂布量無特別的限定，根據(jù)水性涂布液中的固體成分的濃度、所希望的膜厚等，考慮操作性等而能夠適當(dāng)?shù)卦O(shè)定。水性涂布液的涂布量優(yōu)選為0.1ml/m²～1000ml/m²，更優(yōu)選為1ml/m²～100ml/m²，進(jìn)一步優(yōu)選為1ml/m²～50ml/m²。若水性涂布液的涂布量在上述范圍內(nèi)，則涂布精度變得良好，能夠形成防反射性更優(yōu)異的膜。

在基材上涂布水性涂布液的方法無特別的限定。作為涂布方法，均能夠適用噴涂、刷涂、輥涂、棒涂、浸涂等公知的涂布方法。

〔涂布膜干燥工序〕

涂布膜干燥工序是將涂布形成的涂布膜進(jìn)行干燥的工序。

在涂布膜干燥工序中，將涂布水性涂布液而形成的涂布膜進(jìn)行干燥，由此在基材上形成二氧化硅粒子彼此局部粘附的膜。若二氧化硅粒子彼此局部粘附，則在二氧化硅粒子之間產(chǎn)生空隙，因此認(rèn)為被干燥的涂布膜的防反射性優(yōu)異。

并且，在涂布膜干燥工序中，將在涂布膜形成工序中以高精度被涂布且形成得更均勻的涂布膜進(jìn)行干燥，因此認(rèn)為干燥后的涂布膜的防反射性優(yōu)異。

在涂布膜干燥工序中，水性涂布液中的水分被去除，由此二氧化硅粒子被緊密地配置，形成致密的膜。膜變得致密且硬度提高，由此認(rèn)為可得到優(yōu)異的耐劃傷性。并且，膜變得致密且膜面變得平滑，由此污垢難以附著，認(rèn)為可得到優(yōu)異的防污性。

涂布膜的干燥可以在室溫(25℃)下進(jìn)行，也可以使用加熱裝置來進(jìn)行。作為加熱裝置，只要能夠加熱到目標(biāo)溫度，則不受特別的限定，而均能夠使用公知的加熱裝置。作為加熱裝置，除了烘箱、電爐等之外，還能夠使用配合生產(chǎn)線獨(dú)立制作的加熱裝置等。

例如，也可以使用上述加熱裝置，在氣氛溫度40℃～400℃下加熱涂布膜，由此進(jìn)行涂布膜的干燥。在通過加熱而干燥涂布膜的情況下，例如，能夠?qū)⒓訜釙r(shí)間設(shè)為1分鐘～30分鐘左右。

作為涂布膜的干燥條件，優(yōu)選將涂布膜在氣氛溫度40℃～200℃下經(jīng)1分鐘～10分鐘進(jìn)行加熱的干燥條件，更優(yōu)選在氣氛溫度100℃～180℃下經(jīng)1分鐘～5分鐘進(jìn)行加熱的干燥條件。

干燥后的涂布膜的膜厚優(yōu)選為50nm以上。若膜厚為50nm以上，則干燥后的涂布膜的防反射性更優(yōu)異。

干燥后的涂布膜的膜厚更優(yōu)選為50nm以上且350nm以下，進(jìn)一步優(yōu)選100nm以上300nm以下，尤其優(yōu)選為100nm以上250nm以下。

在涂布膜干燥工序之后，涂布膜燒成工序之前的涂布膜中的、平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的含量，相對于涂布膜的總固體成分優(yōu)選為64質(zhì)量％～95質(zhì)量％，更優(yōu)選為70質(zhì)量％～95質(zhì)量％。若提供到涂布膜燒成工序的干燥后的涂布膜中的、平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的含量在上述范圍內(nèi)，則能夠形成防反射性、耐劃傷性及防污性更優(yōu)異的膜。

〔涂布膜燒成工序〕

本公開的膜的制造方法，優(yōu)選在前述涂布膜干燥工序之后，還包括將干燥后的涂布膜以氣氛溫度400℃以上且800℃以下的溫度進(jìn)行燒成的涂布膜燒成工序。

在涂布膜燒成工序中，將干燥后的涂布膜以氣氛溫度400℃以上且800℃以下的溫度進(jìn)行燒成，由此在涂布膜干燥工序中形成的致密的膜的硬度進(jìn)一步提高，且耐劃傷性進(jìn)一步提高，并且因有機(jī)成分消失而局部形成微小的空隙，因此防反射性顯著提高。

涂布膜的燒成是能夠使用加熱裝置來進(jìn)行的。作為加熱裝置，只要能夠加熱成目標(biāo)溫度，則無特別的限定，均能夠使用公知的加熱裝置。作為加熱裝置，除了電爐等之外，還能夠使用配合生產(chǎn)線獨(dú)立制作的燒成裝置。

涂布膜的燒成溫度(氣氛溫度)更優(yōu)選為450℃以上且800℃以下，進(jìn)一步優(yōu)選為500℃以上且800℃以下，尤其優(yōu)選為600℃以上且800℃以下。燒成時(shí)間優(yōu)選為1分鐘～10分鐘，更優(yōu)選為1分鐘～5分鐘。

燒成后的涂布膜的膜厚優(yōu)選為50nm以上。若膜厚為50nm以上，則燒成后的涂布膜的防反射性更優(yōu)異。

燒成后的涂布膜的膜厚更優(yōu)選為50nm以上且350nm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為100nm以上且300nm以下，尤其優(yōu)選為100nm以上且250nm以下。

〔其它工序〕

本公開的膜的制造方法在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，根據(jù)需要，也可以包括其它工序。

作為其它工序，可以舉出清洗工序、表面處理工序及冷卻工序等。

以下，關(guān)于在本公開的膜的制造方法中的各工序中使用的成分等進(jìn)行詳細(xì)說明。

＜基材＞

在本公開的膜的制造方法中，涂布水性涂布液的基材并無特別的限定。作為基材，可以舉出玻璃、樹脂、金屬、陶瓷及它們的復(fù)合材料等基材，這些基材均能夠適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行使用。其中，作為基材，優(yōu)選玻璃基材。若作為基材而使用玻璃基材，則不僅在二氧化硅粒子所具有的羥基彼此之間，而且在二氧化硅粒子所具有的羥基與玻璃表面的羥基之間也產(chǎn)生羥基的縮合，因此能夠形成與基材的密合性優(yōu)異的涂布膜。

＜水性涂布液＞

本公開的膜的制造方法中的水性涂布液包含水、平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子、多元醇型非離子表面活性劑，且ph為8～12。

根據(jù)水性涂布液，能夠形成防反射性、耐劃傷性及防污性均優(yōu)異的膜。

水性涂布液因包含二氧化硅粒子而能夠形成防反射性優(yōu)異的膜。

若在基材上涂布水性涂布液并使其干燥，則二氧化硅粒子彼此局部粘附，形成在二氧化硅粒子之間具有空隙的多孔膜。認(rèn)為膜的防反射性通過該空隙而變得優(yōu)異。

并且，水性涂布液包含平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子，且控制為與二氧化硅粒子的等電點(diǎn)(ph4～6)有差距的ph(8～12)，因此能夠形成防反射性優(yōu)異的膜。

通過將包含平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的水性涂布液的ph設(shè)為與二氧化硅粒子的等電點(diǎn)有差距的ph，可抑制微細(xì)的二氧化硅粒子的凝聚，認(rèn)為二氧化硅粒子良好地分散。二氧化硅粒子良好地分散的水性涂布液的涂布精度優(yōu)異，因此認(rèn)為所形成膜的防反射性優(yōu)異。

另外，水性涂布液包含多元醇型非離子表面活性劑，因此能夠形成防反射性優(yōu)異的膜。

如同前述，多元醇型非離子表面活性劑具有難以吸附于二氧化硅粒子表面的性質(zhì)，難以損害二氧化硅粒子的分散性。并且，多元醇型非離子表面活性劑可以以少量來降低水性涂布液的表面張力，因此認(rèn)為水性涂布液的潤濕性變得良好。水性涂布液的潤濕性變得良好，由此所形成膜的均勻性提高，認(rèn)為膜的防反射性變得優(yōu)異。

水性涂布液包含平均一次粒徑為8nm以下的微細(xì)的二氧化硅粒子，因此能夠形成耐劃傷性及防污性優(yōu)異的膜。

若水性涂布液包含微細(xì)的二氧化硅粒子，則在涂布并使其干燥時(shí)，二氧化硅粒子緊密地配置，能夠形成硬度高的致密的膜，因此認(rèn)為所形成膜的耐劃傷性變得優(yōu)異。并且，二氧化硅粒子緊密地配置的致密的膜的膜面變得平滑，因此認(rèn)為所形成膜的防污性變得優(yōu)異。

(二氧化硅粒子)

水性涂布液包含平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子。

二氧化硅粒子的平均一次粒徑優(yōu)選為8nm以下且6nm以下，更優(yōu)選為2nm以上且4nm以下。若二氧化硅的平均一次粒徑為8nm以下，則形成防反射性及耐劃傷性優(yōu)異的膜。

通過透射電子顯微鏡而觀察已分散的二氧化硅粒子，能夠由所拍攝的照片的圖像求出二氧化硅粒子粒子的平均一次粒徑。具體而言，由照片的圖像測定二氧化硅粒子的投影面積，由所測定的投影面積求出當(dāng)量圓直徑，將通過對所求出的當(dāng)量圓直徑的值進(jìn)行算術(shù)平均而得到的值設(shè)為二氧化硅粒子的平均一次粒徑。本說明書中的二氧化硅粒子的平均一次粒徑采用如下值，即分別測定300個(gè)二氧化硅粒子的投影面積，由所測定的投影面積分別求出當(dāng)量圓直徑，通過對當(dāng)量圓直徑的值進(jìn)行算術(shù)平均而得到的值。

水性涂布液中所包含的二氧化硅粒子的種類并無特別的限定。作為二氧化硅粒子，可以舉出中空二氧化硅粒子、多孔二氧化硅粒子、無孔二氧化硅粒子等。

二氧化硅粒子的形狀并無特別的限定?？梢允乔驙睢E圓狀、鏈狀等任意形狀。

并且，二氧化硅粒子也可以是表面利用鋁化合物等進(jìn)行處理的二氧化硅粒子。

作為在水性涂布液中包含的二氧化硅粒子，在上述中優(yōu)選無孔二氧化硅粒子。

“無孔二氧化硅粒子”是指在粒子的內(nèi)部不具有空隙的二氧化硅粒子，區(qū)別于在中空二氧化硅粒子及多孔二氧化硅粒子等粒子的內(nèi)部具有空隙的二氧化硅粒子。另外，“無孔二氧化硅粒子”中不包括如下核-殼結(jié)構(gòu)的二氧化硅粒子：在粒子的內(nèi)部具有聚合物等核，核的外殼(殼)由二氧化硅或二氧化硅的前體(例如，通過燒成而變成二氧化硅的原材料)構(gòu)成。

無孔二氧化硅粒子在涂布膜燒成工序的前后，存在于涂布膜中的粒子的狀態(tài)發(fā)生變化。具體而言，在燒成前的涂布膜中，各個(gè)無孔二氧化硅粒子作為單一粒子(在本說明書中，將通過范德瓦爾斯力而凝聚的狀態(tài)等集合的狀態(tài)作為單一粒子。)而存在，在燒成后的涂布膜中，多個(gè)無孔二氧化硅粒子中的至少一部分作為彼此連結(jié)的粒子連結(jié)體而存在。

若水性涂布液中所包含的二氧化硅粒子為無孔二氧化硅粒子，則通過涂布膜的燒成，多個(gè)無孔二氧化硅粒子被連結(jié)而形成粒子連結(jié)體，因此膜的硬度提高，耐劃傷性進(jìn)一步提高。

通過燒成而連結(jié)的粒子的平均一次粒徑采用的是，不考慮連結(jié)部(例如，頸部分)，而僅將對被連結(jié)的粒子中的一個(gè)假定為球時(shí)的直徑進(jìn)行算術(shù)平均而得到的值。通過燒成而連結(jié)的粒子的平均一次粒徑能夠通過與前述二氧化硅粒子的平均一次粒徑相同的方法算出。

水性涂布液也可以包含多種一次粒徑不同的二氧化硅粒子。并且，水性涂布液也可以包含無孔二氧化硅粒子和無孔二氧化硅粒子以外的1種以上二氧化硅粒子。

二氧化硅粒子可以使用市售品。作為市售品的例子，可以舉出nalco(注冊商標(biāo))8699(無孔二氧化硅粒子的水分散物，平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)、nalco(注冊商標(biāo))1130(無孔二氧化硅粒子的水分散物，平均一次粒徑：8nm，固體成分：30質(zhì)量％，nalco公司制造)、snowtex(注冊商標(biāo))xs(無孔二氧化硅粒子的水分散物，平均一次粒徑：5nm，固體成分：20質(zhì)量％，nissanchemicalindustries,ltd.制造)等。

水性涂布液所含有的平均一次粒徑為8nm以下的二氧化硅粒子的表面帶負(fù)電。

表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子在水性涂布液中的分散穩(wěn)定性良好。若水性涂布液中的二氧化硅粒子的分散穩(wěn)定性良好，則涂布精度變得良好，能夠形成防反射性優(yōu)異的膜。并且，能夠形成良好的表面狀態(tài)(表面外觀)的膜。

水性涂布液中所包含的二氧化硅粒子的帶電狀態(tài)通過測定zeta電位而能夠確認(rèn)。具體而言，在維持ph的狀態(tài)下，使用去離子水適當(dāng)?shù)叵♂屗酝坎家?，關(guān)于所得到的水性涂布液的稀釋液測定zeta電位，在測定結(jié)果為負(fù)的情況下，設(shè)為二氧化硅粒子帶電為“負(fù)”，在測定結(jié)果為正的情況下，設(shè)為二氧化硅粒子帶電為“正”。作為zeta電位的測定裝置，能夠使用例如zeta電位測定系統(tǒng)(型號：elsz-1，otsukaelectronicsco.,ltd制造)。

水性涂布液中的平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液的總固體成分優(yōu)選為64質(zhì)量％～95質(zhì)量％，更優(yōu)選為70質(zhì)量％～95質(zhì)量％。

若水性涂布液中所包含的平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的比例減少，則該二氧化硅粒子以外的成分的比例會增加。例如，在多元醇型非離子表面活性劑的比例增加的情況下，平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的表面容易被多元醇型非離子表面活性劑包覆，由此該二氧化硅粒子的分散性降低，難以獲得在膜表面上可確認(rèn)二氧化硅粒子的凝聚物等良好的表面狀態(tài)。另一方面，若水性涂布液中所包含的平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的比例增加，則相對地多元醇型非離子表面活性劑的比例會減少，因此基于燒成而形成良好的表面狀態(tài)的膜以及防反射性提高等由多元醇型非離子表面活性劑產(chǎn)生的效果降低。

若水性涂布液中的平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液的總固體成分為64質(zhì)量％以上，則能夠形成耐劃傷性更優(yōu)異等更良好的膜質(zhì)的膜。

若水性涂布液中的平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液的總固體成分為95質(zhì)量％以下，則通過涂布膜的燒成而能夠形成更良好的表面狀態(tài)的膜。

另外，水性涂布液中的平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液的總質(zhì)量優(yōu)選為15質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為10質(zhì)量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為6質(zhì)量％以下。

若水性涂布液中的平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液的總質(zhì)量為15質(zhì)量％以下，則平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子在水性涂布液中的分散性提高，因此在防止該二氧化硅粒子的凝聚等方面是有利的。

并且，水性涂布液中的平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液的總質(zhì)量優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為1質(zhì)量％以上。

若水性涂布液中的平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液的總質(zhì)量為0.1質(zhì)量％以上，則為得到所希望的干燥后的膜厚而所需液涂布量不會過度增加，因此干燥負(fù)荷得到抑制。

(多元醇型非離子表面活性劑)

水性涂布液至少包含1種多元醇型非離子表面活性劑。

在水性涂布液中，多元醇型非離子表面活性劑難以吸附于平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子的表面，且存在于溶液的表面附近，因此水性涂布液的潤濕性提高，能夠形成均勻的膜。從而，水性涂布液通過包含多元醇型非離子表面活性劑而能夠形成防反射性優(yōu)異的膜。并且，使用包含多元醇型非離子表面活性劑的水性涂布液而形成的涂布膜，通過燒成而膜的表面狀態(tài)變得良好。

“多元醇型非離子表面活性劑”是指如陰離子型表面活性劑、陽離子型表面活性劑及兩性表面活性劑那樣不包含進(jìn)行離子解離的部分且具有多個(gè)羥基的表面活性劑。作為多元醇型非離子表面活性劑，且具有環(huán)狀聚醚作為親水基團(tuán)的結(jié)構(gòu)的非離子表面活性劑，有失水山梨糖醇脂肪酸酯、蔗糖脂肪酸酯、烷基聚葡萄糖苷等，并且，作為不具有環(huán)狀聚醚結(jié)構(gòu)的非離子表面活性劑，有甘油脂肪酸酯、聚甘油的烷基脂肪酸酯、烷基甘油醚、失水山梨糖醇等非離子表面活性劑。

其中，作為多元醇型非離子表面活性劑，從能夠形成更良好的表面狀態(tài)的膜的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選具有環(huán)狀聚醚作為親水基團(tuán)的非離子表面活性劑。另外，從能夠形成具有更優(yōu)異的防反射性及防污性的膜的觀點(diǎn)考慮，作為多元醇型非離子表面活性劑，更優(yōu)選烷基聚葡萄糖苷。

烷基聚葡萄糖苷的烷基鏈的碳原子數(shù)優(yōu)選為5～20，更優(yōu)選為6～14，進(jìn)一步優(yōu)選為8～14。烷基聚葡萄糖苷的烷基鏈可以是直鏈狀，也可以是支鏈狀。葡萄糖苷的平均聚合度優(yōu)選為1～10，更優(yōu)選為1～5。作為烷基聚葡萄糖苷的具體例，可以舉出癸基葡萄糖苷、辛基葡萄糖苷等。

烷基聚葡萄糖苷的重均分子量優(yōu)選為100～2000，更優(yōu)選為100～1000。

多元醇型非離子表面活性劑也可以使用市售品。作為市售品的例子，可以舉出triton(注冊商標(biāo))bg-10(烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，thedowchemicalcompany制造)、mydol(注冊商標(biāo))10、12(烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，kaocorporation制造)、rheodol(注冊商標(biāo))sp-p10(失水山梨糖醇脂肪酸酯類表面活性劑，kaocorporation制造)、rikemal(注冊商標(biāo))l-71-d(二甘油脂肪酸酯類表面活性劑，rikenvitaminco.,ltd.制造)、excel(注冊商標(biāo))95n(甘油脂肪酸酯，kaocorporation制造)、poem(注冊商標(biāo))pr-100(烷基甘油醚，rikenvitaminco.,ltd.制造)、dkester(注冊商標(biāo))(蔗糖脂肪酸酯，dksco.ltd.制造)等。

水性涂布液中的多元醇型非離子表面活性劑的含量相對于水性涂布液的總質(zhì)量優(yōu)選為0.07質(zhì)量％～1.0質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.07質(zhì)量％～0.8質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為0.07質(zhì)量％～0.5質(zhì)量％。

若水性涂布液中的多元醇型非離子表面活性劑的含量相對于水性涂布液的總質(zhì)量為0.07質(zhì)量％以上，則水性涂布液的表面張力大幅降低，水性涂布液的潤濕性變得更好，因此能夠進(jìn)一步提高涂布膜的均勻性。若水性涂布液中的多元醇型非離子表面活性劑的含量相對于水性涂布液的總質(zhì)量為1.0質(zhì)量％以下，則在水性涂布液中膠束形成得到抑制，因此能夠進(jìn)一步提高涂膜形成時(shí)的二氧化硅粒子的致密性。

(水)

水性涂布液包含水。

通過使用水來作為水性涂布液的水性介質(zhì)，與大量使用揮發(fā)性有機(jī)溶劑的涂布液相比，可以大幅減輕對環(huán)境的負(fù)荷。

作為使用于水性涂布液的水，優(yōu)選不包含雜質(zhì)，或者盡量降低其含量的去離子水。

(其它成分)

水性涂布液在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，根據(jù)需要，也可以包含除了平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子、多元醇型非離子表面活性劑及水以外的其它成分。

作為其它成分，可以舉出親水性有機(jī)溶劑、水溶性高分子及水分散乳膠等。

-親水性有機(jī)溶劑-

水性涂布液除了水以外，還可以包含與水的親和性優(yōu)異的親水性有機(jī)溶劑。

通過水性涂布液包含親水性有機(jī)溶劑，水性涂布液的表面張力進(jìn)一步降低，可以進(jìn)行更均勻的涂布。并且，若親水性有機(jī)溶劑為低沸點(diǎn)有機(jī)溶劑，則具有水性涂布液的干燥變得容易等優(yōu)點(diǎn)。

作為親水性有機(jī)溶劑并無特別的限定，可以舉出甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、丙酮、乙二醇及乙基溶纖劑等。從易獲取性、降低環(huán)境負(fù)荷的觀點(diǎn)考慮，作為親水性有機(jī)溶劑，優(yōu)選為醇，其中，更優(yōu)選為乙醇及異丙醇。

在水性涂布液除了水以外還包含親水性有機(jī)溶劑而作為水性介質(zhì)的情況下，在水性涂布液中使用的水的含量相對于水性介質(zhì)的總質(zhì)量優(yōu)選為30質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為40質(zhì)量％以上。

水性涂布液中的固體成分量相對于水性涂布液的總質(zhì)量優(yōu)選為0.1質(zhì)量％～30質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.2質(zhì)量％～20質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為0.5質(zhì)量％～10質(zhì)量％。水性涂布液中的固體成分量能夠通過溶劑的含量，尤其通過水的含量進(jìn)行調(diào)整。

(水性涂布液的ph)

水性涂布液的ph為8～12，優(yōu)選為9～11。

通過將水性涂布液的ph設(shè)為與二氧化硅粒子的等電點(diǎn)(ph4～6)有差距的ph(8～12)，水性涂布液中的二氧化硅粒子的凝聚得到抑制，二氧化硅粒子的分散性變得良好，認(rèn)為涂布精度會提高。由于水性涂布液的涂布精度提高，因此認(rèn)為尤其可以形成防反射性優(yōu)異的膜。

若水性涂布液的ph為8以上，則水性涂布液中的二氧化硅粒子的凝聚得到抑制，因此可形成防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異的膜。并且，可以形成良好的表面狀態(tài)的膜。

若水性涂布液的ph超過12，則二氧化硅粒子在水性涂布液中進(jìn)行溶解，因此水性涂布液的長期穩(wěn)定性受到損害。若水性涂布液的ph為12以下，則二氧化硅粒子不溶解，因此可形成防反射性及防污性優(yōu)異的膜。

二氧化硅粒子的等電點(diǎn)根據(jù)制造方法、一次粒徑及二氧化硅粒子的表面狀態(tài)等顯示出稍微上下起伏，該情況下，也可以配合二氧化硅粒子的等電點(diǎn)的ph來調(diào)整水性涂布液的ph。

本說明書中的水性涂布液的ph是使用ph儀表(型號：hm-31，dkk-toacorporation制造)在25℃下測定的值。

[膜]

本公開的膜是通過前述本公開的制造方法而制造的。通過本公開的制造方法而制造的膜的防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異。以下，示出通過本公開的制造方法而制造的膜的優(yōu)選的物性。

〔平均反射率變化δr的絕對值〕

至少干燥后的涂布膜能夠通過由下述式(1)定義的在400nm～1100nm波長的光以5°入射時(shí)的平均反射率變化δr的絕對值來表示其防反射性能。

另外，“至少干燥后的涂布膜”只要是經(jīng)過前述涂布膜干燥工序的涂布膜即可，“至少干燥后的涂布膜”中也包括在涂布膜干燥工序之后經(jīng)過前述涂布膜燒成工序的涂布膜。

|平均反射率變化δr|＝|r膜形成后的基材的平均反射率-r基材的平均反射率|式(1)

將硫酸鋇白板作為參考試料，測定未形成有涂布膜的基材的平均反射率(r基材的平均反射率)及具有由水性涂布液形成的涂布膜的基材的平均反射率(r膜形成后的基材的平均反射率)，由此能夠求出式(1)中的平均反射率變化δr。

通過使用帶積分球的分光光度計(jì)而可以測定反射率。在本公開中，作為測定裝置而使用通過紫外可見紅外分光光度計(jì)(型號：uv3100pc、shimadzucorporation制造)，并使用積分球來測定400nm～1100nm波長的光中的反射率，采用對各波長中的反射率的值進(jìn)行算術(shù)平均而得到的值作為平均反射率。

表示平均反射率變化δr的絕對值的數(shù)值越高，膜的防反射性越優(yōu)異。

從防反射性的觀點(diǎn)考慮，至少干燥后的涂布膜平均反射率變化δr的絕對值優(yōu)選為2.0％以上，更優(yōu)選為2.5％以上。

(膜厚)

從防反射性的觀點(diǎn)考慮，本公開的膜的膜厚優(yōu)選為50nm以上且350nm以下，更優(yōu)選為100nm以上且300nm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為100nm以上250nm以下。

[水性涂布液]

本公開的水性涂布液包含水、平均一次粒徑為8nm以下的表面帶負(fù)電的二氧化硅粒子、多元醇型非離子表面活性劑，且ph為8～12。

通過使用本公開的水性涂布液而能夠制造防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異的膜。

本公開的水性涂布液與前述本公開的膜的制造方法中的水性涂布液的含義相同，優(yōu)選方式也相同。關(guān)于共同點(diǎn)省略說明。

[層疊體]

本公開的層疊體在基材上具有通過前述本公開的制造方法而制造的膜。本公開的層疊體具有通過本公開的制造方法而制造的膜，因此防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異。

本公開的層疊體中的基材并無特別的限定。作為基材，可以舉出玻璃、樹脂、金屬、陶瓷及它們的復(fù)合材料等基材，這些基材均能夠適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行使用。其中，從與通過前述本公開的制造方法而制造的膜之間的密合性的觀點(diǎn)考慮，作為基材，優(yōu)選為玻璃基材。

在玻璃基材上具有通過本公開的制造方法而制造的膜的層疊體，由于防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異，因此能夠適合使用于太陽能電池模塊、監(jiān)控?cái)z像機(jī)、照明設(shè)備、標(biāo)簽的保護(hù)膜等用途。

[太陽能電池模塊]

本公開的太陽能電池模塊具備前述本公開的層疊體。

本公開的太陽能電池模塊可以構(gòu)成為，在具有設(shè)置于太陽光入射側(cè)的防反射性、耐劃傷性及防污性優(yōu)異的本公開的膜的層疊體與以聚酯薄膜為代表的太陽能電池用背板之間，配置將太陽光的光能轉(zhuǎn)換為電能的太陽能電池元件。本公開的層疊體與聚酯薄膜等太陽能電池用背板之間通過以乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等樹脂為代表的密封材料而被密封。

關(guān)于太陽能電池模塊、太陽能電池單元等，除了層疊體及背板以外的部件，例如，詳細(xì)地記載于“太陽光發(fā)電系統(tǒng)構(gòu)成材料”(杉本栄一監(jiān)修，kogyochosakaipublishingco.,ltd.，2008年發(fā)行)中。本公開的太陽能電池模塊中，優(yōu)選在太陽光入射側(cè)具備本公開的層疊體，本公開的層疊體以外的結(jié)構(gòu)并不重要。

作為設(shè)置于太陽光入射側(cè)的基材，能夠舉出玻璃基材、丙烯酸樹脂等透明樹脂等，優(yōu)選為玻璃基材。

作為本公開的太陽能電池模塊中所使用的太陽能電池元件，并無特別的限制。在本公開的太陽能電池模塊中均能夠應(yīng)用各種公知的太陽能電池元件：單晶硅、多晶硅、非晶硅等硅類太陽能電池元件、銅-銦-鎵-硒、銅-銦-硒、鎘-碲、鎵-砷等iii-v族或ii-vi族化合物半導(dǎo)體類太陽能電池元件等。

本公開的太陽能電池模塊具備在玻璃基材上具有防反射性、耐劃傷性及防污性良好的膜的層疊體，因此即使長時(shí)間使用，也可以抑制因在表面的膜產(chǎn)生劃痕或者附著污染物而引起的透光性降低，由于所附著的污染物被雨等水容易去除，因此經(jīng)長時(shí)間可以維持良好的發(fā)電效率。

實(shí)施例

以下，通過實(shí)施例對本發(fā)明更具體地進(jìn)行說明。本發(fā)明只要不脫離其主旨，就不會被限定于以下實(shí)施例。

[實(shí)施例1]

〔水性涂布液1的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備水性涂布液1。另外，水性涂布液1中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液1的總固體成分為90.2質(zhì)量％。

使用ph儀表(型號：hm-31、dkk-toacorporation制造)測定水性涂布液1的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔膜樣品1的制作〕

使用棒涂布機(jī)，將水性涂布液1涂布(涂布量：10ml/m²～20ml/m²)于玻璃基材上而形成涂布膜。使用烘箱在氣氛溫度150℃下經(jīng)1分鐘進(jìn)行加熱并干燥該涂布膜。接著，使用電爐在氣氛溫度700℃下經(jīng)3分鐘對干燥后的涂布膜進(jìn)行燒成，由此制作出膜樣品1。

另外，膜樣品1制作成形成于玻璃基材上的涂布膜的最終膜厚成為130nm。

[實(shí)施例2]

〔水性涂布液2的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)1.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備水性涂布液2。另外，水性涂布液2中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液2的總固體成分為94.9質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定水性涂布液2的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔膜樣品2的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為水性涂布液2，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出膜樣品2。

[實(shí)施例3]

〔水性涂布液3的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)6.3質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備水性涂布液3。另外，水性涂布液3中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液3的總固體成分為69.8質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定水性涂布液3的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔膜樣品3的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為水性涂布液3，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出膜樣品3。

[實(shí)施例4]

〔水性涂布液4的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)10.5質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備水性涂布液4。另外，水性涂布液4中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液4的總固體成分成為64.9質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定水性涂布液4的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔膜樣品4的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為水性涂布液4，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出膜樣品4。

[比較例1]

〔比較水性涂布液1的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，以總量成為1000質(zhì)量份的方式添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備比較水性涂布液1。另外，比較水性涂布液1中的二氧化硅粒子的含量相對于比較水性涂布液1的總固體成分為100質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定比較水性涂布液1的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔比較膜樣品1的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為比較水性涂布液1，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出比較膜樣品1。

[實(shí)施例5]

〔水性涂布液5的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：snowtex(注冊商標(biāo))xs，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：5nm，固體成分：20質(zhì)量％，nissanchemicalindustries,ltd.制造)67.1質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備水性涂布液5。另外，水性涂布液5中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液5的總固體成分為90.2質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定水性涂布液5的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔膜樣品5的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為水性涂布液5，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出膜樣品5。

[實(shí)施例6]

〔水性涂布液6的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699、無孔二氧化硅粒子、二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm、固體成分：15質(zhì)量％、nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份且ph成為8的方式，進(jìn)一步添加磷酸及去離子水進(jìn)行調(diào)整，由此制備水性涂布液6。另外，水性涂布液6中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液6的總固體成分為90.2質(zhì)量％。

〔膜樣品6的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為水性涂布液6，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出膜樣品6。

[比較例2]

〔比較水性涂布液2的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份且ph成為7的方式，進(jìn)一步添加磷酸及去離子水進(jìn)行調(diào)整，由此制備比較水性涂布液2。另外，比較水性涂布液2中的二氧化硅粒子的含量相對于比較水性涂布液2的總固體成分為89.9質(zhì)量％。

〔比較膜樣品2的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為比較水性涂布液2，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出比較膜樣品2。

[比較例3]

〔比較水性涂布液3的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份且ph成為13的方式，進(jìn)一步添加1mol/l的氫氧化鈉水溶液及去離子水進(jìn)行調(diào)整，由此制備比較水性涂布液3。另外，比較水性涂布液3中的二氧化硅粒子的含量相對于比較水性涂布液3的總固體成分為89.9質(zhì)量％。

〔比較膜樣品3的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為比較水性涂布液3，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出比較膜樣品3。

[比較例4]

〔比較水性涂布液4的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：snowtex(注冊商標(biāo))ak、無孔二氧化硅粒子、二氧化硅粒子的平均一次粒徑：13nm、固體成分：19質(zhì)量％、nissanchemicalindustries,ltd.制造)84.9質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10、烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑、固體成分：70質(zhì)量％、thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備比較水性涂布液4。另外，比較水性涂布液4中的二氧化硅粒子的含量相對于比較水性涂布液4的總固體成分為90.2質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定比較水性涂布液4的ph(25℃)的結(jié)果為5。

〔比較膜樣品4的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為比較水性涂布液4，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出比較膜樣品4。

[實(shí)施例7]

〔水性涂布液7的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699、無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：rheodol(注冊商標(biāo))sp-p10，失水山梨糖醇脂肪酸酯類表面活性劑，固體成分：100質(zhì)量％，kaocorporation制造)1.5質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備水性涂布液7。另外，水性涂布液7中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液7的總固體成分為89.9質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定水性涂布液7的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔膜樣品7的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為水性涂布液7，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出膜樣品7。

[實(shí)施例8]

〔膜樣品8的制作〕

使用棒涂布機(jī)，將水性涂布液1涂布(涂布量：10ml/m²～20ml/m²)于玻璃基材上而形成涂布膜。使用烘箱在氣氛溫度150℃下經(jīng)1分鐘進(jìn)行加熱并干燥該涂布膜，由此制作出膜樣品8。

另外，膜樣品8制作成形成于玻璃基材上的涂布膜的最終膜厚成為130nm。

[比較例5]

〔比較水性涂布液5的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加聚氧乙烯型非離子表面活性劑(商品名稱：newcole2303-y，聚氧化烯類表面活性劑，固體成分：100質(zhì)量％，nipponnyukazaico.,ltd.制造)1.5質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備比較水性涂布液5。另外，比較水性涂布液5中的二氧化硅粒子的含量相對于比較水性涂布液5的總固體成分為90.2質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定比較水性涂布液5的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔比較膜樣品5的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為比較水性涂布液5，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出比較膜樣品5。

[比較例6]

〔比較水性涂布液6的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加陰離子表面活性劑(商品名稱：pelex(注冊商標(biāo))ot-p，磺基琥珀酸na類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，kaocorporation制造)10.5質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備比較水性涂布液6。另外，比較水性涂布液6中的二氧化硅粒子的含量相對于比較水性涂布液6的總固體成分為64.4質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定比較水性涂布液6的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔比較膜樣品6的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為比較水性涂布液6，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出比較膜樣品6。

[實(shí)施例9]

〔水性涂布液8的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))1130，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：8nm，固體成分：30質(zhì)量％，nalco公司制造)44.7質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備水性涂布液8。另外，水性涂布液8中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液8的總固體成分為90.2質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定水性涂布液8的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔膜樣品9的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為水性涂布液8，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出膜樣品9。

[比較例7]

〔比較水性涂布液7的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))1030，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：13nm，固體成分：30質(zhì)量％，nalco公司制造)44.7質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備比較水性涂布液7。另外，比較水性涂布液7中的二氧化硅粒子的含量相對于比較水性涂布液7的總固體成分為89.9質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定比較水性涂布液7的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔比較膜樣品7的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為比較水性涂布液7，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出比較膜樣品7。

[實(shí)施例10]

〔水性涂布液9的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：rikemal(注冊商標(biāo))l-71-d，二甘油脂肪酸酯類表面活性劑，固體成分：100質(zhì)量％，rikenvitaminco.,ltd.制造)1.5質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份的方式進(jìn)一步添加去離子水進(jìn)行攪拌，由此制備水性涂布液9。另外，水性涂布液9中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液9的總固體成分為89.9質(zhì)量％。

通過與水性涂布液1相同的方法來測定水性涂布液9的ph(25℃)的結(jié)果為10.5。

〔膜樣品10的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為水性涂布液9，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出膜樣品10。

[比較例8]

〔比較水性涂布液8的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：snowtex(注冊商標(biāo))ak-xs，通過基于鋁化合物的表面處理而帶正電的無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：5nm，固體成分：20質(zhì)量％，nissanchemicalindustries,ltd.制造)67.1質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份且ph成為10.5的方式，進(jìn)一步添加1mol/l的氫氧化鈉水溶液及去離子水進(jìn)行調(diào)整，由此制備比較水性涂布液8。另外，比較水性涂布液8中的二氧化硅粒子的含量相對于比較水性涂布液8的總固體成分為89.9質(zhì)量％。

〔比較膜樣品8的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為比較水性涂布液8，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出比較膜樣品8。

[實(shí)施例11]

〔膜樣品11的制作〕

使用棒涂布機(jī)，將水性涂布液1涂布(涂布量：10ml/m²～20ml/m²)于玻璃基材上而形成涂布膜。使用烘箱在氣氛溫度150℃下經(jīng)1分鐘進(jìn)行加熱并干燥該涂布膜。接著，使用電爐在氣氛溫度450℃下經(jīng)3分鐘對干燥后的涂布膜進(jìn)行燒成，由此制作出膜樣品11。

另外，膜樣品11制作成形成于玻璃基材上的涂布膜的最終膜厚成為130nm。

[實(shí)施例12]

〔膜樣品12的制作〕

使用棒涂布機(jī)，將水性涂布液1涂布(涂布量：10ml/m²～20ml/m²)于玻璃基材上而形成涂布膜。使用烘箱在氣氛溫度150℃下經(jīng)1分鐘進(jìn)行加熱并干燥該涂布膜。接著，使用電爐在氣氛溫度550℃下經(jīng)3分鐘對干燥后的涂布膜進(jìn)行燒成，由此制作出膜樣品12。

另外，膜樣品12制作成形成于玻璃基材上的涂布膜的最終膜厚成為130nm。

[實(shí)施例13]

〔膜樣品13的制作〕

使用棒涂布機(jī)，將水性涂布液1涂布(涂布量：10ml/m²～20ml/m²)于玻璃基材上而形成涂布膜。使用烘箱在氣氛溫度150℃下經(jīng)1分鐘進(jìn)行加熱并干燥該涂布膜。接著，使用電爐在氣氛溫度800℃下經(jīng)3分鐘對干燥后的涂布膜進(jìn)行燒成，由此制作出膜樣品13。

另外，膜樣品13制作成形成于玻璃基材上的涂布膜的最終膜厚成為130nm。

[實(shí)施例14]

〔膜樣品14的制作〕

使用棒涂布機(jī)，將水性涂布液1涂布(涂布量：5ml/m²～10ml/m²)于玻璃基材上而形成涂布膜。使用烘箱在氣氛溫度150℃下經(jīng)1分鐘進(jìn)行加熱并干燥該涂布膜。接著，使用電爐在氣氛溫度700℃下經(jīng)3分鐘對干燥后的涂布膜進(jìn)行燒成，由此制作出膜樣品14。

另外，膜樣品14制作成形成于玻璃基材上的涂布膜的最終膜厚成為75nm。

[實(shí)施例15]

〔膜樣品15的制作〕

使用棒涂布機(jī)，將水性涂布液1涂布(涂布量：20ml/m²～30ml/m²)于玻璃基材上而形成涂布膜。使用烘箱在氣氛溫度150℃下經(jīng)1分鐘進(jìn)行加熱并干燥該涂布膜。接著，使用電爐在氣氛溫度700℃下經(jīng)3分鐘對干燥后的涂布膜進(jìn)行燒成，由此制作出膜樣品15。

另外，膜樣品15制作成形成于玻璃基材上的涂布膜的最終膜厚成為200nm。

[實(shí)施例16]

〔膜樣品16的制作〕

使用棒涂布機(jī)，將水性涂布液1涂布(涂布量：35ml/m²～45ml/m²)于玻璃基材上而形成涂布膜。使用烘箱在氣氛溫度150℃下經(jīng)1分鐘進(jìn)行加熱并干燥該涂布膜。接著，使用電爐在氣氛溫度700℃下經(jīng)3分鐘對干燥后的涂布膜進(jìn)行燒成，由此制作出膜樣品16。

另外，膜樣品16制作成形成于玻璃基材上的涂布膜的最終膜厚成為300nm。

[實(shí)施例17]

〔水性涂布液10的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699、無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份且ph成為10.9的方式，進(jìn)一步添加1mol/l的氫氧化鈉水溶液及去離子水進(jìn)行調(diào)整，由此制備水性涂布液10。另外，水性涂布液10中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液10的總固體成分為89.9質(zhì)量％。

〔膜樣品17的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為水性涂布液10，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出膜樣品17。

[實(shí)施例18]

〔水性涂布液11的制備〕

在二氧化硅粒子的水分散物(商品名稱：nalco(注冊商標(biāo))8699，無孔二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的平均一次粒徑：3nm，固體成分：15質(zhì)量％，nalco公司制造)89.4質(zhì)量份中，添加多元醇型非離子表面活性劑(商品名稱：triton(注冊商標(biāo))bg-10，烷基聚葡萄糖苷類表面活性劑，固體成分：70質(zhì)量％，thedowchemicalcompany制造)2.1質(zhì)量份之后，以總量成為1000質(zhì)量份且ph成為12的方式，進(jìn)一步添加1mol/l的氫氧化鈉水溶液及去離子水進(jìn)行調(diào)整，由此制備水性涂布液11。另外，水性涂布液11中的二氧化硅粒子的含量相對于水性涂布液11的總固體成分為89.9質(zhì)量％。

〔膜樣品18的制作〕

將在膜樣品1的制作中使用的水性涂布液1變更為水性涂布液11，除此以外，以與膜樣品1相同的方式制作出膜樣品18。

[二氧化硅粒子的帶電狀態(tài)的確認(rèn)]

對上述所得到的各水性涂布液中包含的二氧化硅粒子的帶電狀態(tài)進(jìn)行了確認(rèn)。在將水性涂布液維持ph的狀態(tài)下，使用去離子水適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行了稀釋。關(guān)于所得到的水性涂布液的稀釋液，使用zeta電位測定系統(tǒng)(型號：elsz-1，otsukaelectronicsco.,ltd制造)測定zeta電位，在測定結(jié)果為負(fù)的情況下，設(shè)為二氧化硅粒子帶電為“負(fù)”，在測定結(jié)果為正的情況下，設(shè)為二氧化硅粒子帶電為“正”。將結(jié)果示于表1中。

[膜樣品的評價(jià)]

關(guān)于上述所得到的各膜樣品，對防反射(ar：antireflection)性、耐劃傷性、防污性及表面狀態(tài)進(jìn)行了評價(jià)。評價(jià)結(jié)果表示于表1中。

＜防反射(ar)性＞

通過紫外可見紅外分光光度計(jì)(型號：uv3100pc，shimadzucorporation制造)，使用積分球測定了各膜樣品的400nm～1100nm波長的光的反射率。

在測定反射率時(shí)，為了抑制具有膜樣品的玻璃基材的背面(玻璃基材的未形成有膜的一側(cè)的面)的反射，在背面的玻璃基材表面粘貼了黑色膠帶。由通過測定而得到的400nm～1100nm波長中的各波長的反射率算出平均反射率，并按照下述式(1)算出相對于未形成有膜的玻璃基材的平均反射率變化的絕對值(|δr|)。另外，|δr|表示數(shù)值越高，防反射(ar)性越優(yōu)異。

|平均反射率變化δr|＝|r膜形成后的基材的平均反射率-r基材的平均反射率|式(1)

＜耐劃傷性＞

在溫度25℃、相對濕度55％的環(huán)境條件下，使用摩擦試驗(yàn)機(jī)，使膜樣品的膜面對鋼絲絨(#0000，nihonsteelwoolco.,ltd.制造)施加50g的載荷，以速度1000mm/min進(jìn)行10次往復(fù)摩擦之后，通過目視及光學(xué)顯微鏡(倍率：100倍)觀察膜表面，并按照以下評價(jià)基準(zhǔn)對耐劃傷性進(jìn)行了評價(jià)。另外，基于目視的觀察是在熒光燈下及鎢光源下進(jìn)行的。耐劃傷性的[a]、[b]及[c]在容許范圍內(nèi)。

-評價(jià)基準(zhǔn)-

a：在基于熒光燈下的目視、鎢光源下的目視及光學(xué)顯微鏡的觀察中，在膜表面上均完全未觀察到劃痕。

b：在基于熒光燈下的目視及鎢光源下的目視的觀察中，在膜表面上未確認(rèn)到劃痕，但在基于光學(xué)顯微鏡的觀察中稍微確認(rèn)到劃痕。

c：在基于熒光燈下的目視的觀察中，在膜表面上未確認(rèn)到劃痕，但在基于鎢光源下的目視及光學(xué)顯微鏡的觀察中，在膜表面上稍微確認(rèn)到劃痕。

d：在基于熒光燈下的目視、鎢光源下的目視及光學(xué)顯微鏡的觀察中，在膜表面上均確認(rèn)到線狀劃痕，該劃痕的數(shù)量為1條～20條。

e：在基于熒光燈下的目視、鎢光源下的目視及光學(xué)顯微鏡的觀察中，在膜表面上均確認(rèn)到線狀劃痕，劃痕的數(shù)量為21條以上。

＜防污性＞

使天然黃土顏料(holbeinworks,ltd.制造)在膜樣品的膜上均勻地分布而附著之后，拍打膜樣品的背面，抖落附著的天然黃土顏料。重復(fù)進(jìn)行10次該作業(yè)之后，目視確認(rèn)天然黃土顏料的附著狀態(tài)，按照下述評價(jià)基準(zhǔn)對防污性進(jìn)行了評價(jià)。另外，防污性的[a]及[b]在容許范圍內(nèi)。

-評價(jià)基準(zhǔn)-

a：在膜表面未附著天然黃土顏料，膜表面無色透明。

b：在膜表面上稍微附著天然黃土顏料，但膜表面幾乎無色透明。

c：在膜表面的整面附著天然黃土顏料，通過目視確認(rèn)了膜表面的透明性降低。

d：在膜表面的整面附著天然黃土顏料，膜表面幾乎不透明。

＜表面狀態(tài)＞

利用目視及光學(xué)顯微鏡(倍率：100倍)，觀察干燥后燒成前的膜樣品的表面及燒成后的膜樣品的表面，按照下述評價(jià)基準(zhǔn)評價(jià)了表面狀態(tài)。另外，表1中，將“干燥后燒成前”記載為“未燒成”，將“燒成后”記載為“燒成”。

-評價(jià)基準(zhǔn)-

a：即使通過目視及光學(xué)顯微鏡，在膜表面的30厘米見方的面積內(nèi)也完全未確認(rèn)到二氧化硅粒子的凝聚物。

b：通過目視在膜表面30厘米見方的面積內(nèi)未確認(rèn)到二氧化硅粒子的凝聚物，但在光學(xué)顯微鏡的觀察中稍微確認(rèn)到二氧化硅粒子的凝聚物。

c：通過目視在膜表面30厘米見方的面積的小于5％的區(qū)域內(nèi)確認(rèn)到二氧化硅粒子的凝聚物。

d：通過目視在膜表面30厘米見方的面積的5％以上且小于30％的區(qū)域內(nèi)確認(rèn)到二氧化硅粒子的凝聚物。

e：通過目視在膜表面30厘米見方的面積的30％以上的區(qū)域內(nèi)確認(rèn)到二氧化硅粒子的凝聚物。

作為參考，圖1及圖2中分別示出相當(dāng)于評價(jià)基準(zhǔn)的[a]的表面狀態(tài)的電子顯微鏡照片(倍率：100倍)及相當(dāng)于[e]的表面狀態(tài)的電子顯微鏡照片(倍率：100倍)。

如表1所示，實(shí)施例的膜樣品的防反射性、耐劃傷性及防污性均優(yōu)異。并且，在實(shí)施例的膜樣品中，使用ph高的水性涂布液而形成的膜樣品具有優(yōu)異的表面狀態(tài)。

本申請主張基于2014年12月26日申請的日本專利申請2014-266486號公開的全部內(nèi)容通過參考而援用于本說明書中。

在本說明書中記載的所有文獻(xiàn)、專利申請及技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)中，通過參考而援用各文獻(xiàn)、日本專利申請及技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的情況與通過具體且與分別記載的情況相同的程度，通過參考而援用于本說明書中。