一種設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置,所述降溫裝置包括上石墨環(huán)塊、下石墨環(huán)塊和若干根石墨管,所述石墨管豎直設(shè)置在上石墨環(huán)塊與下石墨環(huán)塊之間,上石墨環(huán)塊、下石墨環(huán)塊分別與石墨管連通,所述下石墨環(huán)塊與進水管相連通,上石墨環(huán)塊與出水管相連通。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單,設(shè)計合理,具有很好的耐腐蝕性,可以將其設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi),設(shè)備占用面積小,成本低;通過此裝置來給釜內(nèi)物料降溫不但安全性好,而且能使釜內(nèi)混合物的溫度達到有效的控制,能很好地達到理想的工藝要求。
【專利說明】一種設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及一種化工機械設(shè)備,尤其是涉及一種設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降 溫裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 搪玻璃反應(yīng)釜是將含高二氧化硅的玻璃,襯在鋼制容器的內(nèi)表面,經(jīng)高溫灼燒而 牢固地密著于金屬表面上成為復(fù)合材料制品,所以,它具有玻璃的穩(wěn)定性和金屬強度的雙 重優(yōu)點,是一種優(yōu)良的耐腐蝕設(shè)備。搪玻璃反應(yīng)釜廣泛地應(yīng)用于化工、石油、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食 品等工業(yè)。
[0003] 現(xiàn)有技術(shù)中,由于搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)襯的是搪瓷易碎,其降溫裝置不能像不銹鋼反 應(yīng)釜那樣通過直接加設(shè)內(nèi)盤管來達到降溫效果,而且,降溫裝置的耐腐蝕性較差,因此一般 需要將其降溫裝置設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜外,這樣不僅設(shè)備占用面積大,增大了生產(chǎn)成本,而 且其降溫控溫效果有時候也不能很好地達到工藝要求。 實用新型內(nèi)容
[0004] 為了克服現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本實用新型提供了一種可以設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜 內(nèi)部的降溫裝置,該裝置不僅降溫效果好,而且全部采用石墨材料制成,可以很好地達到理 想的工藝要求。
[0005] -種設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置,所述降溫裝置包括上石墨環(huán)塊、下石墨 環(huán)塊和若干根石墨管,所述石墨管堅直設(shè)置在上石墨環(huán)塊與下石墨環(huán)塊之間,上石墨環(huán)塊、 下石墨環(huán)塊分別與石墨管連通,所述下石墨環(huán)塊與進水管相連通,上石墨環(huán)塊與出水管相 連通。
[0006] 優(yōu)選地,所述上石墨環(huán)塊與下石墨環(huán)塊的形狀及大小相同。
[0007] 優(yōu)選地,所述石墨管在上石墨環(huán)塊與下石墨環(huán)塊之間呈雙層交錯排列。
[0008] 優(yōu)選地,所述上石墨環(huán)塊頂部與下石墨環(huán)塊底部之間的距離為1190mm,上石墨環(huán) 塊或下石墨環(huán)塊的外徑為1160mm,內(nèi)徑為900_,厚度為140_。
[0009] 優(yōu)選地,所述下石墨環(huán)塊下方設(shè)有四塊大小形狀相同的石墨支撐腳,所述石墨支 撐腳的高度為1〇〇_。下石墨環(huán)塊下方設(shè)置的四個支撐腳可以用來支撐整個裝置。
[0010] 優(yōu)選地,所述每根石墨管的直徑為50mm。
[0011] 本實用新型結(jié)構(gòu)簡單,設(shè)計合理,具有很好的耐腐蝕性,可以將其設(shè)置在搪玻璃反 應(yīng)釜內(nèi),設(shè)備占用面積小,成本低;通過此裝置來給釜內(nèi)物料降溫不但安全性好,而且能使 釜內(nèi)混合物的溫度達到有效的控制,能很好地達到理想的工藝要求。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0012] 圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0013] 圖2是本實用新型俯視圖。
【具體實施方式】
[0014] 下面結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步說明,但本實用新型的保護范 圍并不限于此。
[0015] 參照圖1,圖2,一種設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置,所述降溫裝置包括上石 墨環(huán)塊1、下石墨環(huán)塊2和若干根石墨管3,所述石墨管3堅直設(shè)置在上石墨環(huán)塊1與下石 墨環(huán)塊2之間,所述石墨管在上石墨環(huán)塊與下石墨環(huán)塊之間呈雙層交錯排列,上石墨環(huán)塊 1、下石墨環(huán)塊2分別與石墨管3連通,所述下石墨環(huán)塊2與進水管4相連通,上石墨環(huán)塊1 與出水管5相連通。
[0016] 所述上石墨環(huán)塊1與下石墨環(huán)塊2的形狀及大小相同。所述上石墨環(huán)塊1頂部與 下石墨環(huán)塊2底部之間的距離為1190mm,上石墨環(huán)塊1或下石墨環(huán)塊2的外徑為1160mm, 內(nèi)徑為900mm,厚度為140mm。所述每根石墨管3的直徑為50mm。
[0017] 所述下石墨環(huán)塊2下方設(shè)有四塊大小形狀相同的石墨支撐腳6,所述石墨支撐腳6 的高度為100mm。
[0018] 本實用新型使用時,冰鹽水從進水管4進入到下石墨環(huán)塊2內(nèi)腔,然后再通過各個 堅直的石墨管3通向上石墨環(huán)塊1,然后通過出水管5流出,這樣冰鹽水就可以下進上出達 到充分降溫換熱的效果。
【權(quán)利要求】
1. 一種設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置,其特征在于:所述降溫裝置包括上石墨環(huán) 塊、下石墨環(huán)塊和若干根石墨管,所述石墨管堅直設(shè)置在上石墨環(huán)塊與下石墨環(huán)塊之間,上 石墨環(huán)塊、下石墨環(huán)塊分別與石墨管連通,所述下石墨環(huán)塊與進水管相連通,上石墨環(huán)塊與 出水管相連通。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置,其特征在于:所述上石 墨環(huán)塊與下石墨環(huán)塊的形狀及大小相同。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置,其特征在于:所述石墨 管在上石墨環(huán)塊與下石墨環(huán)塊之間呈雙層交錯排列。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置,其特征在于:所述上石 墨環(huán)塊頂部與下石墨環(huán)塊底部之間的距離為1190mm,上石墨環(huán)塊或下石墨環(huán)塊的外徑為 1160mm,內(nèi)徑為 900mm,厚度為 140mm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置,其特征在于:所述下石 墨環(huán)塊下方設(shè)有四塊大小形狀相同的石墨支撐腳,所述石墨支撐腳的高度為1〇〇_。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)置在搪玻璃反應(yīng)釜內(nèi)的降溫裝置,其特征在于:所述每根 石墨管的直徑為50mm。
【文檔編號】B01J19/02GK203862237SQ201420217996
【公開日】2014年10月8日 申請日期:2014年4月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月30日
【發(fā)明者】劉文峰, 杜政偉, 費江良, 馮忠良, 王惠強 申請人:浙江鼎龍化工有限公司