一種用于多相流反應(yīng)器的氣體分布器及多相流反應(yīng)器的制造方法
【專利摘要】提供一種用于多相流反應(yīng)器的氣體分布器，包括：主管，一端與氣源連通，另一端伸入至所述反應(yīng)器內(nèi)部；多個與所述主管氣流連通的支管，每一所述支管的靠近所述反應(yīng)器器壁的一端封閉，另一端和所述主管氣流連通；每一支管上設(shè)有N對以所述支管為軸對稱布置的、并與所述支管氣流連通的分布管，其中N≥2，所述每對分布管的直徑D3和長度L3根據(jù)其在支管上的位置的不同而設(shè)置為不同，所述N對分布管將所述支管分為N+1段，且所述N+1段中至少有兩段的距離不等，以保證均勻的氣流流速和噴射量。該氣體分布器具有使得氣體分布均勻、避免固體顆粒沉積等優(yōu)勢。
【專利說明】一種用于多相流反應(yīng)器的氣體分布器及多相流反應(yīng)器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種氣體分布器，更具體地，涉及一種用于多相流反應(yīng)器的氣體分布器。

【背景技術(shù)】
[0002]氣體分布器是多相流反應(yīng)器的重要的內(nèi)部構(gòu)件，用于保證反應(yīng)器內(nèi)氣體的均勻分布，從而使反應(yīng)器內(nèi)物料保持良好穩(wěn)定的流動狀態(tài)。氣體分布器通常決定氣體分布的均勻性、氣泡形成的大小，進(jìn)而影響整個反應(yīng)器床層包含氣含率等流體力學(xué)狀態(tài)、傳質(zhì)傳熱甚至化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行都有重要影響。通常，氣體分布器設(shè)計應(yīng)考慮流體的均勻分布以及床層壓降，以及氣體分布器在運行時應(yīng)不易被堵塞和磨蝕。
[0003]然而，現(xiàn)有的氣體分布器大多由于總體構(gòu)造及分布管尺寸設(shè)置不合理，放大了分布管阻力降效應(yīng)，使得氣孔噴射流速不同，導(dǎo)致氣體分布不均，進(jìn)而引起溝流、死區(qū)、甚至不正常流態(tài)化造成的物料燒結(jié)。此外，由于反應(yīng)器內(nèi)部存在多相物料，包括液相物質(zhì)和固體顆粒(如催化劑)，因此，當(dāng)氣體分布器中的氣體流量出現(xiàn)波動或供氣中斷時，反應(yīng)器床層中的液體或固體顆粒物質(zhì)可能會倒灌至氣體分布器中，影響氣體分布器的運行；而且，若長時間供氣中斷，物料中的固體顆粒會大量沉積在反應(yīng)器底部，堵塞氣體分布器孔道，造成例如催化劑燒結(jié)、反應(yīng)器無法再次啟動等不穩(wěn)定操作。
[0004]為改進(jìn)多相流反應(yīng)器的氣體分布器，現(xiàn)有技術(shù)作了多種探索。
[0005]中國專利申請03151229.1公開了一種用于三相漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器，該分布器由一個與反應(yīng)器內(nèi)徑相同的假板、多根氣體上升管、一個氣體分布管組和多個開口垂直朝下的噴嘴組成，其中入口氣體總管不與上升管直接相連。該氣體分布器在結(jié)構(gòu)上由于假板的設(shè)置使得分布器的結(jié)構(gòu)變得較為復(fù)雜，并不緊湊，且反應(yīng)器底部的空間利用率不高，氣體分布效率不高。
[0006]中國專利申請200720066902.0公開了一種用于三相漿態(tài)床反應(yīng)器的氣相介質(zhì)分布器，其包括氣體入口管、氣體導(dǎo)入管、導(dǎo)氣管、多孔氣體分配構(gòu)件和撞擊底板。該氣相介質(zhì)分布器的結(jié)構(gòu)與03151229.1中公開的類似。
[0007]中國專利申請CN101396647A公開了一種三相懸浮床反應(yīng)器及其應(yīng)用。所述的三相懸浮床反應(yīng)器可包括1-8組氣體分布器，并在反應(yīng)器整個底部形成均勻分布的氣體分布構(gòu)件。在一個圓或扇形區(qū)域的所有元件集總后，通過多根導(dǎo)管與該區(qū)域的導(dǎo)入反應(yīng)的進(jìn)氣管連通，形成一組氣體分布器。作為一個實例，該申請文件的圖2中示出了直接導(dǎo)入型的氣體分布器，這種分布器在反應(yīng)器橫截面上形成扇形依據(jù)反應(yīng)器底部封頭形成的內(nèi)表面形狀分布在反應(yīng)器底部的整個橢球或球面上，由4組分布器構(gòu)成，每組分布器通過多組氣體導(dǎo)管分別連接于其進(jìn)氣總管。這種氣體分布器主要由多組管件構(gòu)成，而這些管件的尺寸設(shè)置和間隔基本一致，由于氣體流通過程中存在壓降，很難保證管件上噴孔處氣體噴射速度和噴射量一致，因此會導(dǎo)致氣體分布不均。
[0008]本發(fā)明提供一種新型的、不同于現(xiàn)有技術(shù)的氣體分布器，能夠更好地解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明在于提供一種新型的用于多相流反應(yīng)器的氣體分布器，其總體結(jié)構(gòu)簡單、設(shè)計緊湊、便于安裝和維護(hù)，通過新穎的內(nèi)部構(gòu)造和適當(dāng)?shù)某叽缭O(shè)定，能夠使得氣體分布管的壓降和流量穩(wěn)定，氣體分布均勻，避免固體顆粒(諸如催化劑)沉積，防止反應(yīng)器內(nèi)物料倒灌到氣體分布器中。
[0010]本發(fā)明提供一種如下的用于多相流反應(yīng)器的氣體分布器，其包括:
[0011]主管，直徑為D1，一端與氣源連通，另一端伸入至所述反應(yīng)器內(nèi)部；
[0012]多個與所述主管氣流連通的支管，直徑為D2，每一所述支管的靠近所述反應(yīng)器器壁的一端封閉，另一端和所述主管氣流連通；
[0013]每一支管上設(shè)有N對以所述支管為軸對稱布置的、并與所述支管氣流連通的分布管，其中N > 2，所述每對分布管的直徑D3和長度L3根據(jù)其在支管上的位置的不同而設(shè)置為不同，所述N對分布管將所述支管分為N+1段，且所述N+1段中至少有兩段的距離不等，以保證均勻的氣流流速和噴射量。
[0014]在一個優(yōu)選實施方案中，所述N對分布管的長度L3和/或直徑由所述氣體分布器的中心至所述反應(yīng)器器壁呈紡錘形變化。
[0015]在一個優(yōu)選實施方案中，所述N+1段的距離由所述氣體分布器的中心至所述反應(yīng)器器壁逐漸減小。
[0016]在一個優(yōu)選實施方案中，所述氣體分布器還包括多個導(dǎo)流管，所述導(dǎo)流管附接至所述分布管的底側(cè)上設(shè)置的開孔，所述開孔的直徑為dl，所述導(dǎo)流管的直徑為d2，其中dl< d2。
[0017]在一個優(yōu)選實施方案中，所述導(dǎo)流管是直管、帶有一曲度的彎管、螺旋狀的直管或螺旋狀的帶有一曲度的彎管。進(jìn)一步優(yōu)選地，每個所述導(dǎo)流管的長度為約10-30mm。
[0018]在一個優(yōu)選實施方案中，所述分布管底側(cè)上的開孔設(shè)置成2-5排，優(yōu)選地，每排開孔之間的間距L ^ d2+5mm，且相鄰各排之間的角度為約15-60度。
[0019]在一個優(yōu)選實施方案中，所述開孔的直徑dl和導(dǎo)流管的直徑d2的尺寸被設(shè)置為:dl+3mm ^ d2 ^ dl+20mm，且 dl 和 d2 都小于(1/3)D3，其中 dl 更優(yōu)選為約 2_20mm。
[0020]在一個優(yōu)選實施方案中，所述氣體分布器還包括一個或多個反吹氣口，設(shè)置為與所述主管氣流連通，當(dāng)氣體分布器內(nèi)出現(xiàn)壓力波動或部分堵塞時，通過所述反吹氣口通入高壓的反吹氣體。
[0021]在一個優(yōu)選實施方案中，所述多個支管和多個分布管大體位于同一曲面內(nèi)，以適應(yīng)于反應(yīng)器的底部的凹形輪廓并與反應(yīng)器的底部相隔一距離，優(yōu)選間隔約15-60_，更優(yōu)選為 20_30mm。
[0022]在一個優(yōu)選實施方案中，所述支管和分布管是帶有一曲度的彎管。
[0023]在一個優(yōu)選實施方案中，所述氣體分布器從所述多相流反應(yīng)器的側(cè)面伸入到反應(yīng)器內(nèi)部。
[0024]在一個優(yōu)選實施方案中，所述氣體分布器還包括一個設(shè)置在反應(yīng)器內(nèi)部的隔板。
[0025]在一個優(yōu)選實施方案中，所述多個支管和多個分布管大體位于處在所述隔板上方的同一平面內(nèi)，所述平面與所述隔板優(yōu)選間隔約15-60mm，更優(yōu)選為20_30mm。
[0026]在一個優(yōu)選實施方案中,所述支管和分布管是直管。
[0027]在一個優(yōu)選實施方案中，所述氣體分布器從所述多相流反應(yīng)器的底部伸入到反應(yīng)器內(nèi)部。
[0028]本發(fā)明還提供一種多相流反應(yīng)器，其包括以上所述的氣體分布器。
[0029]此外，根據(jù)本發(fā)明，為了滿足分布管內(nèi)氣體流速和噴射量大致相同，并獲得最佳氣體噴射流速，通常將氣體分布器的總壓降范圍控制在約0.03-0.15MPa之間，并且氣體從開孔流出的速度在約20-60m/s之間。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0030]參考以下附圖，結(jié)合下文非限制的示例性實施方案能夠更好地理解本發(fā)明，在附圖中，相同的參考標(biāo)號表示相同的部件或部分。應(yīng)理解，這些附圖是非限制性的，未必按比例繪制，且為了清楚起見，有些特征可能未示出。在附圖中:
[0031]圖1是根據(jù)本發(fā)明一個實施方案的氣體分布器的俯視圖；
[0032]圖2是沿圖1中線A-A所取的正視截面圖；
[0033]圖3是圖1中氣體分布器的分布管的仰視圖；
[0034]圖4是沿圖3中線B-B所取的截面圖；
[0035]圖5是沿圖3中線C-C所取的截面圖；以及
[0036]圖6是根據(jù)本發(fā)明另一個實施方案的氣體分布器的正視截面圖。

【具體實施方式】
[0037]本發(fā)明提供了一種用于多相流反應(yīng)器的氣體分布器，其包括:
[0038]主管，一端與氣源連通，另一端伸入至所述反應(yīng)器內(nèi)部；
[0039]多個與所述主管氣流連通的支管，每一所述支管的靠近所述反應(yīng)器器壁的一端封閉，另一端和所述主管氣流連通；
[0040]每一支管上設(shè)有N對以所述支管為軸對稱布置的、并與所述支管氣流連通的分布管，其中N > 2，所述每對分布管的直徑D3和長度L3根據(jù)其在支管上的位置的不同而設(shè)置為不同，所述N對分布管將所述支管分為N+1段，且所述N+1段中至少有兩段的距離不等，以保證均勻的氣流流速和噴射量。
[0041]請參見圖1和圖2，分別示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案的用于多相流反應(yīng)器的氣體分布器10。該氣體分布器10包括:一個主管1，一端與氣源連通，另一端從反應(yīng)器的側(cè)面9處伸入內(nèi)部，其直徑為Dl ;四個與所述主管I氣流連通的支管2，每一所述支管2的靠近所述反應(yīng)器器壁的一端封閉，另一端和所述主管I氣流連通，支管2的直徑為D2 ;每一支管2上設(shè)有七對以所述支管2為軸對稱布置的、并與所述支管氣流連通的分布管3。優(yōu)選地，分布管3垂直于作為軸的支管2。如圖1中所不的，每對分布管3的直徑D3和長度L3根據(jù)其在支管2上的位置的不同而設(shè)置為不同，所述七對分布管將所述支管分為八段，且所述八段中至少有兩段的距離不等，以保證均勻的氣流流速和噴射量。
[0042]如本領(lǐng)域一般技術(shù)人員所了解的，依據(jù)本發(fā)明的氣體分布器可設(shè)置多于一個的主管，支管和分布管的具體數(shù)量/位置選擇應(yīng)根據(jù)實際情況而定。
[0043]在一個優(yōu)選實施方案中,所述七對分布管3的長度L3和/或直徑由所述氣體分布器的中心至所述反應(yīng)器器壁呈紡錘形變化，如圖1所示，即位于中間區(qū)域的分布管3相對于靠近中心和器壁的分布管3來說，其直徑和長度更大/長。
[0044]在一個優(yōu)選實施方案中，所述八段的距離由所述氣體分布器的中心至所述反應(yīng)器器壁逐漸減小，如圖1所示。
[0045]在一個優(yōu)選實施方案中，參見圖3-5,所述氣體分布器還包括多個導(dǎo)流管5,所述導(dǎo)流管5附接至所述分布管3的底側(cè)上設(shè)置的開孔4，所述開孔4的直徑為dl，所述導(dǎo)流管5的直徑為d2，其中dl < d2。
[0046]在一個優(yōu)選實施方案中，所述導(dǎo)流管是直管、帶有一曲度的彎管、螺旋狀的直管或螺旋狀的帶有一曲度的彎管。進(jìn)一步優(yōu)選地，每個所述導(dǎo)流管的長度為約10-30mm。在圖3-5示出的實施方案中，導(dǎo)流管5是直管。
[0047]在一個優(yōu)選實施方案中，所述分布管底側(cè)上的開孔設(shè)置成2-5排，優(yōu)選地，每排開孔之間的間距L ^ d2+5mm，且相鄰各排之間的角度為約15-60度。在圖3_5示出的實施方案中，所述分布管3底側(cè)上的開孔4設(shè)置成三排。
[0048]在一個優(yōu)選實施方案中，所述開孔4的直徑dl和導(dǎo)流管5的直徑d2的尺寸被設(shè)置為:dl+3mm彡d2 ( dl+20mm，且dl和d2都小于(1/3)D3，其中dl更優(yōu)選為約2_20mm。
[0049]在一個優(yōu)選實施方案中，所述氣體分布器還包括一個或多個反吹氣口(圖2中未示出，圖6中示出)，設(shè)置為與所述主管氣流連通，當(dāng)氣體分布器內(nèi)出現(xiàn)壓力波動或部分堵塞時，通過所述反吹氣口通入高壓的反吹氣體。
[0050]在一個優(yōu)選實施方案中，所述多個支管2和多個分布管3大體位于同一曲面內(nèi)(如圖2所示)，以適應(yīng)于反應(yīng)器的底部8的凹形輪廓并與反應(yīng)器的底部8相隔一距離，更優(yōu)選間隔約15-60_，進(jìn)一步優(yōu)選為20-30_。
[0051]在一個優(yōu)選實施方案中，所述支管2和分布管3是帶有一曲度的彎管，以適應(yīng)于反應(yīng)器的底部8的凹形輪廓，參見圖2。
[0052]在一個優(yōu)選實施方案中，參見圖6，該氣體分布器(優(yōu)選從反應(yīng)器的底部8伸入到反應(yīng)器內(nèi)部)還包括一個隔板7，其設(shè)置在反應(yīng)器的內(nèi)部。進(jìn)一步優(yōu)選地，在圖6所示的氣體分布器中，所述多個支管2’和多個分布管3’(優(yōu)選為直管)大體位于處在所述隔板7上方的同一平面內(nèi)，所述平面與所述隔板7優(yōu)選地間隔約15-60mm，更優(yōu)選為20_30mm。
[0053]在本發(fā)明的氣體分布器中，所述導(dǎo)流管起到具有緩沖作用的氣墊的作用，避免高流速條件下氣體對催化劑顆粒的磨損，而且由于開孔直徑小于導(dǎo)流管的直徑，能夠防止氣體壓力波動時液體或固體物料的倒灌。
[0054]此外，反吹氣口的設(shè)置防止供氣中斷時催化劑沉積進(jìn)入氣體分布器的導(dǎo)流管，從結(jié)構(gòu)上解決了催化劑的沉積和堵塞問題，同時也避免了因氣體直接沖擊造成的對反應(yīng)器底部的磨損和損壞。
[0055]根據(jù)實際情況，本發(fā)明的氣體分布器的分布管的直徑、長度的設(shè)置以及分布管之間的間隔由多種因素決定，例如氣體流速、壓降、開孔率、支管和主管的直徑和長度，同時結(jié)合流體力學(xué)CFD模擬，從而對于不同反應(yīng)器，確保導(dǎo)流管處大體均勻的氣流流速和噴射量。
[0056]實施例
[0057]下文將參考本發(fā)明氣體分布器的非限制性實施例來闡釋本發(fā)明的優(yōu)勢。應(yīng)理解，以下實施例并不限制本發(fā)明的范圍。
[0058]實施例1
[0059]提供一個用于多相流反應(yīng)器(內(nèi)徑為150mm)的氣體分布器。該氣體分布器包括一個主管，一端與氣源連通，另一端從反應(yīng)器側(cè)面伸入至反應(yīng)器內(nèi)部的中心，直徑為40_ ;四個與主管氣流連通的支管，支管之間的間隔角度為90度,直徑為32mm,長度為65mm ;每個支管上設(shè)有兩對軸向?qū)ΨQ布置的、與支管氣流連通的分布管，兩對分布管的直徑分別為15_和20_，結(jié)合流體力學(xué)CFD模擬，每對分布管的直徑和長度的設(shè)置為不同，這兩對分布管將支管分為三段，每段的距離也不同；每個分布管在底側(cè)上設(shè)置有兩排(每排開孔之間的間距為8mm，相鄰各排間的角度為90度)直徑為2mm的開孔；每個開孔對應(yīng)一個導(dǎo)流管，導(dǎo)流管的直徑為5mm，長度為15mm ;—個反吹氣口，直徑為25mm ;其中，支管和分布管位于同一曲面內(nèi)，并且最低處與反應(yīng)器的凹形底部相隔25mm。氣體由主管通入，流速為4.8m/s，分別進(jìn)入四個支管，之后通過分布管上的開孔和導(dǎo)流管送至反應(yīng)器底部；分布管上開孔的孔口處氣體流速為35m/s,導(dǎo)流管處的氣體流速為5.6m/s,氣體分布器的壓降為0.1MPa ;氣體分布器連續(xù)2000h運行穩(wěn)定，無物料沉積和堵塞現(xiàn)象。
[0060]實施例2
[0061]提供一個用于多相流反應(yīng)器(內(nèi)徑為1000mm)的氣體分布器。該氣體分布器包括一個主管，一端與氣源連通，另一端從反應(yīng)器底部伸入至反應(yīng)器內(nèi)部的中心，直徑為250_ ；四個與主管氣流連通的支管，支管之間的間隔角度為90度，直徑為100mm，長度為370mm;每個支管上設(shè)有5對軸向?qū)ΨQ布置的、與支管氣流連通的分布管，結(jié)合流體力學(xué)CFD模擬，每對分布管的直徑和長度的設(shè)置為不同，最小直徑32mm，最大直徑為57mm，這5對分布管將支管分為六段，六段中至少有兩段的距離也不同；每個分布管在底側(cè)上設(shè)置有3-4排(每排開孔之間的間距為12mm，相鄰各排間的角度為30-45度)直徑為3mm的開孔；每個開孔對應(yīng)一個導(dǎo)流管，導(dǎo)流管的直徑為8mm，長度為20mm 個隔板；一個反吹氣口，直徑為150mm ；其中，支管和分布管位于隔板上方的同一平面內(nèi)并與之相隔25mm。氣體由主管通入，流速為5m/s，分別進(jìn)入四個支管，之后通過分布管上的開孔和導(dǎo)流管送至反應(yīng)器底部；分布管上開孔的孔口處氣體流速為30m/s;導(dǎo)流管處的氣體流速為4.2m/s ;氣體分布器的壓降為
0.12MPa ;氣體分布器連續(xù)1200h運行穩(wěn)定，無物料沉積和堵塞現(xiàn)象。
[0062]本發(fā)明的氣體分布器通過新穎的內(nèi)部構(gòu)造和適當(dāng)?shù)某叽缭O(shè)定，能夠使得氣體分布管的壓降和流量穩(wěn)定，避免固體顆粒(諸如催化劑)沉積和堵塞，反吹氣口的設(shè)置能夠防止反應(yīng)器內(nèi)物料倒灌到氣體分布器中，確保氣體分布器長時間的穩(wěn)定運行。
[0063]應(yīng)理解，在不偏離本發(fā)明的實質(zhì)精神的情況下，任何對于本發(fā)明的改進(jìn)、變型或修改，都旨在被包括在本發(fā)明所附的權(quán)利要求書的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于多相流反應(yīng)器的氣體分布器，其特征在于，包括: 主管，一端與氣源連通，另一端伸入至所述反應(yīng)器內(nèi)部； 多個與所述主管氣流連通的支管，每一所述支管的靠近所述反應(yīng)器器壁的一端封閉，另一端和所述主管氣流連通； 每一支管上設(shè)有N對以所述支管為軸對稱布置的、并與所述支管氣流連通的分布管，其中N > 2，所述每對分布管的直徑D3和長度L3根據(jù)其在支管上的位置的不同而設(shè)置為不同，所述N對分布管將所述支管分為N+1段，且所述N+1段中至少有兩段的距離不等，以保證均勻的氣流流速和噴射量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體分布器，其特征在于，所述N對分布管的長度L3和/或直徑由所述氣體分布器的中心至所述反應(yīng)器器壁呈紡錘形變化。
3.根據(jù)權(quán)利要求1-2中任一項所述的氣體分布器，其特征在于，所述N+1段的距離由所述氣體分布器的中心至所述反應(yīng)器器壁逐漸減小。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的氣體分布器，其特征在于，所述氣體分布器還包括多個導(dǎo)流管，所述導(dǎo)流管附接至所述分布管的底側(cè)上設(shè)置的開孔，所述開孔的直徑為dl，所述導(dǎo)流管的直徑為d2，其中dl < d2。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣體分布器，其特征在于，所述導(dǎo)流管是直管、帶有一曲度的彎管、螺旋狀的直管或螺旋狀的帶有一曲度的彎管。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體分布器，其特征在于，每個所述導(dǎo)流管的長度為約10_30mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求4-6中任一項所述的氣體分布器,其特征在于,所述分布管底側(cè)上的開孔設(shè)置成2-5排，優(yōu)選地，每排開孔之間的間距L ^ d2+5mm，且相鄰各排之間的角度為約15-60 度。
8.根據(jù)權(quán)利要求4-7中任一項所述的氣體分布器，其特征在于，所述開孔的直徑dl和導(dǎo)流管的直徑d2的尺寸被設(shè)置為:dl+3mm彡d2彡dl+20mm，且dl和d2都小于(1/3) D3，其中dl優(yōu)選為約2-20mm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項所述的氣體分布器，其特征在于，所述氣體分布器還包括一個或多個反吹氣口，設(shè)置為與所述主管氣流連通，當(dāng)氣體分布器內(nèi)出現(xiàn)壓力波動或部分堵塞時，通過所述反吹氣口通入高壓的反吹氣體。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項所述的氣體分布器，其特征在于，所述多個支管和多個分布管大體位于同一曲面內(nèi)，以適應(yīng)于反應(yīng)器的底部的凹形輪廓并與反應(yīng)器的底部相隔一距離，優(yōu)選間隔約15_60mm,更優(yōu)選為20_30mm。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體分布器，其特征在于，所述支管和分布管是帶有一曲度的彎管。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的氣體分布器，其特征在于，所述氣體分布器從所述多相流反應(yīng)器的側(cè)面伸入到反應(yīng)器內(nèi)部。
13.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項所述的氣體分布器，其特征在于，所述氣體分布器還包括一個設(shè)置在反應(yīng)器內(nèi)部的隔板。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的氣體分布器，其特征在于，所述多個支管和多個分布管大體位于處在所述隔板上方的同一平面內(nèi)，所述平面與所述隔板優(yōu)選間隔約15-60mm，更優(yōu)選為 20_30mm。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的氣體分布器，其特征在于，所述支管和分布管是直管。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的氣體分布器，其特征在于，所述氣體分布器從所述多相流反應(yīng)器的底部伸入到反應(yīng)器內(nèi)部。
17.—種多相流反應(yīng)器,包括根據(jù)權(quán)利要求1-16中任一項所述的氣體分布器。
【文檔編號】B01J8/22GK104226208SQ201310224597
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2013年6月6日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月6日
【發(fā)明者】卜億峰, 門卓武, 翁力, 欒貴璽, 張曉方 申請人:神華集團有限責(zé)任公司, 北京低碳清潔能源研究所