同時(shí)從煙氣中移除no和碳顆粒以及無機(jī)灰塵的方法以及用于從煙氣中移除no和碳顆粒以 ...的制作方法
【專利摘要】同時(shí)從配備有催化劑用于直接分解位于金屬整體上的一氧化氮的反應(yīng)器中的煙氣中移除NO和顆粒以及無機(jī)灰塵的方法在于將煙氣切向引入到反應(yīng)器圓周、生成煙氣的沿所述反應(yīng)器向下的旋轉(zhuǎn)流動(dòng)并且同時(shí)具有流動(dòng)干擾,這是因?yàn)闊煔馀c位于所述反應(yīng)器腔室的內(nèi)壁上的金屬箔片的波形表面的接觸以及煙氣與位于下落到所述反應(yīng)器的下部部分的螺旋帶上的催化劑接觸的分開,并且下一煙氣射流方向反向地到達(dá)含有整體催化劑的切片的圓柱形內(nèi)部腔室、干擾煙氣射流的層流。污染物的沉積的固體顆粒收集在所述反應(yīng)器的下部部分中。本發(fā)明還涉及設(shè)計(jì)用于同時(shí)從煙氣中移除NO和碳顆粒以及無機(jī)灰塵的反應(yīng)器。
【專利說明】同時(shí)從煙氣中移除NO和碳顆粒以及無機(jī)灰塵的方法以及用于從煙氣中移除NO和碳顆粒以及無機(jī)灰塵的催化反應(yīng)器
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明的目標(biāo)是從含有氧氣的煙氣中移除一氧化氮(NO)的方法以及用于移除NO的反應(yīng)器,首先是從由靜止排放源生成的含塵煙氣中移除一氧化氮。
【背景技術(shù)】
[0002]迄今為止從含塵煙氣中移除NO是以此方式進(jìn)行的,即,含有NO的煙氣軸向流動(dòng)到整體催化劑的通道的入口并且所述流動(dòng)是分層的。所述催化劑是使用陶瓷、阻燃材料或金屬箔片制備的并且它由催化活性物質(zhì)覆蓋。在穿過整體催化劑的通道的層流期間,煙氣與催化劑發(fā)生接觸并且出現(xiàn)化學(xué)反應(yīng)。NO到N2的還原是這些反應(yīng)的結(jié)果。同時(shí)固體顆粒沉積在整體催化劑的表面上并且有必要使用機(jī)械方法周期性地移除這些顆粒。
[0003]從第2006-196988號(hào)日本專利的描述中用于清潔不含灰塵的煙氣的催化反應(yīng)器是眾所周知的,其中氣體的清潔幾乎均勻地出現(xiàn)在金屬整體催化劑的中心和外周部分中。在所述器具中,磁性物質(zhì)和催化活性物質(zhì)包含在形成于金屬整體的通道的表面的層中。所述整體是圓柱形或橢圓形或四邊形的并且它是由波形奧氏體不銹鋼制成的。穩(wěn)定磁體或磁場(chǎng)發(fā)生器位于整體催化劑的外側(cè)上。整體催化劑位于由具有高熱阻的非磁性材料制成的殼體中。所述殼體位于穩(wěn)定磁體或磁場(chǎng)發(fā)生器與整體催化劑之間,所述殼體是由陶瓷纖維墊包封的。所述墊對(duì)于從清潔氣體運(yùn)送到穩(wěn)定磁體或磁場(chǎng)發(fā)生器的熱是熱絕緣體。使用煙氣通道將清潔的煙氣導(dǎo)向整體催化劑的入口橫截面。煙氣通道的幾何軸和整體催化劑的幾何軸是重疊的。擴(kuò)散器安裝在煙氣通道的端部并且它是煙氣通道與整體催化劑的金屬殼體之間的耦合器。煙氣是清潔的,這是因?yàn)樵谒鼈兞鲃?dòng)穿過由波形金屬箔片形成的整體催化劑的通道期間在催化劑上進(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明的目的是用于從含塵煙氣中直接移除一氧化氮同時(shí)允許一氧化氮的有效分解和固體顆粒(尤其是含碳的顆粒)的系統(tǒng)移除的方法和反應(yīng)器。
[0005]根據(jù)本發(fā)明的煙氣清潔的方法在于同時(shí)從煙氣中以及在由煙氣攜帶的碳顆粒的可能的燃燒中移除NO和固體顆粒。這些處理由于煙氣和灰塵與含有活性催化劑的表面的重復(fù)接觸而進(jìn)行。所述接觸是通過反應(yīng)器中的煙氣射流流動(dòng)方向的變化來確保的。
[0006]根據(jù)本發(fā)明從含塵煙氣中移除一氧化氮和固體顆粒是在反應(yīng)器中執(zhí)行的,其中催化劑用于直接分解沉積在金屬整體上的一氧化氮。根據(jù)本發(fā)明的方法,含塵煙氣與圓周相切地進(jìn)入反應(yīng)器。它引起煙氣的向下的旋轉(zhuǎn)流動(dòng)。所述流動(dòng)經(jīng)歷干擾這是因?yàn)闊煔馍淞髋c放置在反應(yīng)器腔室的內(nèi)壁上的金屬箔片的波形表面的接觸以及由于與箔片的螺旋帶的接觸造成的煙氣射流的分開。放置在反應(yīng)器腔室的內(nèi)壁上的金屬箔片的表面以及螺旋帶的表面是由催化劑的活性組分覆蓋的。之后煙氣射流被反向引導(dǎo)到圓柱形內(nèi)部腔室中,其中安裝有整體催化劑的切片并且煙氣的層流受到干擾。在清潔處理的過程中落下的固體顆粒累積在反應(yīng)器的底部上。
[0007]反應(yīng)器的內(nèi)部腔室中的煙氣層流的優(yōu)選的干擾是通過存在于反應(yīng)器中的整體催化劑的平行切片之間的隔片或通過整體催化劑的切片的非平行位置獲得的。
[0008]優(yōu)選地,使用的是具有可變孔隙度的整體催化劑的多孔切片。反應(yīng)器中的優(yōu)選的溫度在150°C _450°C的范圍內(nèi)。優(yōu)選地,氧化物催化劑是通過箔片的直接氧化制成的,尤其是使用耐酸的奧氏體鋼箔片。大多數(shù)有利形式中的催化劑含有帶CiFe2O3結(jié)構(gòu)的相和帶尖晶石結(jié)構(gòu)的相或僅含有尖晶石相,所述尖晶石結(jié)構(gòu)具有接近于NiFe2O4的晶格參數(shù)。所述相形成了含有Cr和額外的Mn并且可能還含有Si的微晶(波蘭專利申請(qǐng)案P.395905)。使用這種類型的催化劑有可能同時(shí)移除一氧化氮、固體顆粒并且燃燒包含在在煙氣射流中運(yùn)送的灰塵中的碳顆粒。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的用于從含塵煙氣中移除一氧化氮和碳顆粒以及無機(jī)灰塵的催化反應(yīng)器包括用于直接移除一氧化氮的金屬支撐件上的催化劑。所述反應(yīng)器是至少部分地圓柱形的并且配備有熱絕緣并且其入口以煙氣與反應(yīng)器圓周相切地引入的方式位于上部部分中。所述上部部分含有帶波形內(nèi)表面的腔室,所述腔室由活性催化劑相覆蓋。由耐酸鋼箔片制成并且由催化劑的活性相覆蓋的螺旋帶位于帶波形內(nèi)表面的腔室的內(nèi)部并且此外螺旋帶向下下落。在具有波形內(nèi)表面的腔室的幾何軸中存在由內(nèi)部加熱器加熱的內(nèi)部腔室。整體催化劑的切片安裝在該腔室中。反應(yīng)器配備有殼體,所述殼體含有兩個(gè)圓柱形同軸壁,所述同軸壁具有位于它們之間的絕緣材料。殼體加熱器至少鄰接到殼體的內(nèi)壁的一部分上。緊密閉合件位于反應(yīng)器的下部部分中并且它同時(shí)是灰塵容器。
[0010]優(yōu)選地,催化劑還位于內(nèi)部腔室的外表面上。
[0011]有可能將催化劑的切片平行地朝向彼此且垂直地朝向反應(yīng)器軸定位。在這種情況下,引導(dǎo)隔片安裝在整體催化劑的切片之間。引導(dǎo)隔片的形狀誘發(fā)煙氣射流的旋轉(zhuǎn)流動(dòng)。最優(yōu)選的是螺旋槳的形狀或類似于螺旋槳的形狀。
[0012]如果催化劑的整體切片的前部是以這種方式定位的,S卩,從入口到整體催化劑的切片的加熱腔室測(cè)量的距離L與整體催化劑的切片的加熱腔室的內(nèi)徑d的比率L/d>50,那么引導(dǎo)隔片設(shè)置在到整體催化劑的片層的入口的前方。但是如果比率L/d〈50,那么引導(dǎo)隔片不會(huì)設(shè)置在到催化劑的多孔支撐件的入口之前。
[0013]可能的是使整體催化劑的切片位于朝向其他切片并且朝向反應(yīng)器的軸的角度處。
[0014]優(yōu)選地,在整體催化劑的切片的加熱腔室的軸的所在處存在額外的加熱器。
[0015]優(yōu)選地,反應(yīng)器在具有波形表面的圓柱形腔室的所在處的部分中具有圓柱形形狀,并且在剩余的部分中具有圓錐形形狀。具有波形表面的腔室可以與反應(yīng)器殼體的內(nèi)壁接觸。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的方法和反應(yīng)器是尤其設(shè)計(jì)用于從在靜止排放源中形成的煙氣中移除NO和碳顆粒以及無機(jī)灰塵的。
[0017]一氧化氮的分解的多級(jí)處理和固體顆粒的移除出現(xiàn)在根據(jù)本發(fā)明的反應(yīng)器中。反應(yīng)器中的煙氣與位于金屬表面上的催化劑發(fā)生接觸。它們同時(shí)引導(dǎo)煙氣的流動(dòng),在反應(yīng)器中形成射流的逆流布置。催化反應(yīng)器的第一級(jí)是具有波形內(nèi)表面的腔室,第二級(jí)是螺旋帶。除催化性能之外,螺旋帶形成圍繞其幾何軸的煙氣的螺旋流動(dòng),引導(dǎo)煙氣沿反應(yīng)器向下。煙氣流動(dòng)的方向的變化引起從清潔的煙氣射流中移除固體顆粒并且增大整體催化劑的切片中的入口效應(yīng)。從煙氣射流中移除含有固體顆粒的灰塵是由根據(jù)彎曲軌跡的氣體射流的流動(dòng)引起的。來自煙氣的灰塵與位于多級(jí)催化反應(yīng)器的第一級(jí)的表面上的催化劑發(fā)生接觸并且同時(shí)它在重力的影響下向下下落,它被從煙氣射流中移除并且此外包含在灰塵中的碳顆粒由于催化劑的活性而被完全氧化,前提是包含在反應(yīng)器中的催化劑允許氧化過程。
[0018]具有較低的固體顆粒的含量的煙氣射流流動(dòng)到整體催化劑的切片的加熱腔室中。作為多級(jí)催化反應(yīng)器的下一級(jí)的到整體催化劑的切片的加熱腔室的入口以如下方式位于具有波形內(nèi)表面和螺旋帶的圓柱形腔室的下部部分中,即,清潔煙氣改變流動(dòng)方向而返回到整體催化劑的切片的加熱腔室并且反向地到達(dá)與包含在反應(yīng)器的入口煙氣中的灰塵相比在顯著程度上已經(jīng)得到清潔的反應(yīng)器入口。在多級(jí)催化反應(yīng)器的內(nèi)部腔室中安裝有整體催化劑的切片并且清潔煙氣流動(dòng)穿過它們的通道。在逆流中流動(dòng)的氣體連續(xù)地與催化劑發(fā)生接觸引起它的清潔,但是為了使接觸更加容易并且為了增大煙氣的純凈度,多級(jí)催化反應(yīng)器的最后一級(jí)中的煙氣射流的流動(dòng)經(jīng)受方向的頻繁的變化,迫使清潔的煙氣射流進(jìn)行交替的旋轉(zhuǎn)或直線流動(dòng)。流動(dòng)的方向的變化的獲得是借助于引導(dǎo)隔片或由于在朝向反應(yīng)器的橫截面的平面的角度處的整體催化劑的切片的位置。引導(dǎo)隔片從不位于整體反應(yīng)器的最后一個(gè)切片的出口上。穿過整體催化劑的切片的清潔氣體的流動(dòng)取決于它們的通道的橫截面的形狀和面積,而這些在優(yōu)選的版本中是可變的。清潔的煙氣的流動(dòng)的方向的變化加強(qiáng)了含塵氣體與催化劑之間的接觸。從煙氣射流中移除的灰塵收集在反應(yīng)器的緊密閉合件中并且它是周期性地從反應(yīng)器的緊密閉合件中移除的。在反應(yīng)器的正常采用期間,緊密閉合件不允許夾帶來自環(huán)境的空氣。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的方法和反應(yīng)器確保了煙氣與催化劑的高度發(fā)達(dá)的表面的密集的連續(xù)的接觸并且保證了煙氣流動(dòng)方向的可變性。煙氣與位于通道的表面上的催化劑的接觸是由于煙氣的流動(dòng)方向的非常頻繁的變化而得到促進(jìn)的同時(shí)實(shí)現(xiàn)了從煙氣射流中移除灰塵。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0020]在示意性附圖中示出了根據(jù)本發(fā)明的反應(yīng)器結(jié)構(gòu)的實(shí)例。在圖1中示出了針對(duì)比率L/d〈50的反應(yīng)器的縱截面和橫截面。在圖2中示出了針對(duì)比率L/d>50的反應(yīng)器的縱截面。在圖3中示出了在一個(gè)部分中執(zhí)行的螺旋帶。在圖4中示出了在分開的部分中制備的螺旋帶。在圖5中示出了引導(dǎo)隔片。在圖6中示出了以多種角度安裝的整體催化劑的切片。在圖7中示出了朝向彼此平行的放置的整體催化劑的切片。并且在圖8中示出了具有多種尺寸的橫截面的整體催化劑的切片。
【具體實(shí)施方式】
[0021]根據(jù)本發(fā)明的反應(yīng)器結(jié)構(gòu)的實(shí)例是針對(duì)尺寸L/d〈50的比率制成的。在穩(wěn)定排放源中生成的含塵氣體是使用供給通道I供應(yīng)的,所述供給通道是與環(huán)境影響熱絕緣的,并且氣體是使用含塵氣體入口 2與具有波形內(nèi)表面2的圓柱形腔室的表面相切的引入的,用于移除NO和固體顆粒并且用于在由氣體射流運(yùn)送的灰塵中呈現(xiàn)的碳顆粒的氧化。催化劑確保了從氣體混合物中移除NO并且碳顆粒的氧化發(fā)生在使用耐酸奧氏體鋼箔片制備的波形圓柱形表面上。通過氧化形成在耐酸奧氏體鋼箔片上的氧化物相是易于作為催化劑產(chǎn)生的。由氧化物相覆蓋的奧氏體耐酸鋼制成的螺旋帶4位于圓柱形且波形的腔室2的內(nèi)部,并且它是在腔室2中向下下落的,并且它是用于移除NO且用于包含在灰塵中的碳顆粒的氧化的催化劑的支撐件。所述螺旋帶可以制備為一個(gè)部分或者它可以由形成帶的分開的部分制備,如同在圖4中所示的,但是根據(jù)帶間距單獨(dú)的粘合部分之間的距離不應(yīng)重疊。螺旋帶4在帶框架叢上向外伸展。圓柱形且波形的反應(yīng)器腔室2位于由圓柱形部分化和圓錐形部分迪組成的殼體中。所述殼體含有熱絕緣,例如,輕質(zhì)的耐熱絕緣材料,并且所述絕緣位于兩個(gè)同軸壁之間:外部殼體壁扭和內(nèi)部殼體壁迎,但是殼體的加熱器Z與內(nèi)部殼體壁迎接觸。反應(yīng)器的圓錐形部分迪在其下部部分中配備有緊密閉合件§,該閉合件同時(shí)是周期性清潔的灰塵容器。整體催化劑的切片的加熱腔室2位于圓柱形波形腔室2的幾何軸中,并且其表面由催化劑的活性組分覆蓋。整體催化劑的切片邊和/或叢位于整體催化劑的切片的加熱腔室2中,并且它們是通道橫截面的不同的面積的。整體催化劑的切片邊和/或邊是由與具有波形表面2和螺旋帶4的反應(yīng)器的圓柱形腔室相同的催化劑的活性組分覆蓋的。
[0022]如果比率L/d〈50,那么圖5中所示的引導(dǎo)隔片11不位于到催化劑邊和/或邊的多孔支撐件的入口的前部。引導(dǎo)隔片11由葉片I!組成,所述葉片是以較小角度朝向水平面傾斜的并且緊固在外環(huán)叢與內(nèi)環(huán)12之間。腔室加熱器立安裝在整體催化劑的切片的加熱腔室2的壁上。額外的軸向加熱器12位于整體催化劑的切片的加熱腔室2的幾何軸中。整體催化劑的切片的加熱腔室3配備有氣體出口 14。整體催化劑的切片叢可以位于朝向整體催化劑的切片的加熱腔室的軸的多個(gè)角度α或β處,如圖6中所示,以便獲得流動(dòng)方向的變化,從而實(shí)現(xiàn)到整體催化劑的切片的入口流動(dòng)的效應(yīng)。此時(shí)并未應(yīng)用引導(dǎo)隔片11。在圖6中示出了整體催化劑的切片中的通道迎。在到整體催化劑的切片的入口之前的流動(dòng)方向的變化是在整體反應(yīng)器的切片朝向其自身平行時(shí)獲得的,但是是在朝向整體催化劑的整體切片的加熱腔室2的軸的角度α下的,如圖7中所示。存在由在整體催化劑的切片邊之間的煙氣射流填充的空間,其中在圖6和圖7中示出了整體催化劑的切片邊的兩個(gè)布置。
[0023]在圖2中示出的根據(jù)本發(fā)明的反應(yīng)器的結(jié)構(gòu)的實(shí)例是在尺寸比率L/d>50的情況下設(shè)計(jì)的。圖2中所示的結(jié)構(gòu)的實(shí)例與圖1中所示的結(jié)構(gòu)相比的差異在于當(dāng)催化劑叢的多孔支撐件的前部位于比率L/d>50的位置時(shí)到整體催化劑的多孔切片叢或11的入口的前部中的引導(dǎo)隔片11的位置。
[0024]在能夠?qū)崿F(xiàn)的兩種情況下,整體催化劑的切片的加熱腔室2的長度應(yīng)該是盡可能長的,以便獲得用于煙氣的流動(dòng)的最大距離。
[0025]有可能向整體催化劑的切片邊施加不同于整體催化劑的切片叢的通道的橫截面面積的通道的橫截面面積,這在圖8中可以看到。
[0026]整體催化劑的切片邊是具有相同的或不同的通道橫截面的形狀和尺寸的,并且每個(gè)腔室可以含有具有不同形狀和橫截面的整體催化劑的切片。
[0027]標(biāo)號(hào)
[0028]1-供給通道
[0029]2-含塵氣體入口
[0030]3-具有波形內(nèi)表面的反應(yīng)器的圓柱形腔室
[0031]4-螺旋帶
[0032]5a_殼體的圓柱形部分
[0033]5b_殼體的圓錐形部分
[0034]6a-外部殼體壁
[0035]6b-內(nèi)部殼體壁
[0036]7-加熱器
[0037]8-緊密閉合件
[0038]9-催化劑的整體切片的加熱腔室
[0039]10-整體催化劑的切片
[0040]11-引導(dǎo)隔片
[0041]12-腔室加熱器
[0042]13-軸向加熱器
[0043]14-氣體出口
[0044]15-帶框架
[0045]16-具有通道的橫截面的可變形狀和尺寸的整體催化劑的切片
[0046]17-葉片
[0047]18-外環(huán)
[0048]19-內(nèi)環(huán)
[0049]20-整體催化劑的切片的通道。
【權(quán)利要求】
1.同時(shí)從配備有催化劑用于直接分解位于金屬整體上的一氧化氮的反應(yīng)器中的煙氣中移除NO和顆粒以及無機(jī)灰塵的方法的特征在于煙氣沿切線方向流動(dòng)到所述反應(yīng)器圓周、生成煙氣的沿所述反應(yīng)器向下的旋轉(zhuǎn)流動(dòng)并且同時(shí)具有流動(dòng)干擾,這是因?yàn)闊煔馍淞髋c周向地位于所述反應(yīng)器腔室的內(nèi)壁上的由催化劑的活性組分覆蓋的金屬箔片的波形表面的接觸,以及由于與沉積在下落到所述反應(yīng)器的下部部分的螺旋帶上的催化劑的接觸的煙氣射流的分開,并且下一煙氣射流是反向地被引導(dǎo)到由整體催化劑的切片組成的圓柱形內(nèi)部腔室并且所述煙氣射流的層流是受到干擾的,而且污染物的沉積的固體顆粒被從所述反應(yīng)器的下部部分中移除。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于在所述反應(yīng)器內(nèi)部腔室中的煙氣層流的干擾是通過將引導(dǎo)隔片放置在所述整體催化劑的平行切片之間獲得的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于所述反應(yīng)器內(nèi)部腔室中的煙氣層流的干擾是通過將所述整體反應(yīng)器的切片相對(duì)于彼此非平行的布置獲得的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于應(yīng)用的是具有通道截面的不同形狀和尺寸的所述整體催化劑的切片。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于所述反應(yīng)器內(nèi)部的溫度維持在150°C到450°C的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于應(yīng)用的是位于金屬基底上的氧化物催化劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于應(yīng)用的是位于耐酸奧氏體鋼的基底上的氧化物催化劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于所述整體催化劑的切片含有帶CiFe2O3結(jié)構(gòu)的氧化物相和帶尖晶石結(jié)構(gòu)的氧化物相或僅含有尖晶石相,所述尖晶石結(jié)構(gòu)具有接近于NiFe2O4的晶格參數(shù),而且這些相形成微晶,所述微晶含有Cr和額外的Mn并且可能含有Si。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或8所述的方法,其特征在于進(jìn)行同時(shí)從包含在由煙氣運(yùn)送的灰塵中移除一氧化氮和完全氧化的碳顆粒。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于發(fā)生源自靜止排放源的一氧化氮的移除。
11.用于從煙氣中移除NO和碳顆粒以及無機(jī)灰塵的催化反應(yīng)器,其含有用于直接移除一氧化氮的具有帶熱絕緣的至少部分地圓柱形形狀的整體催化劑的切片,其中入口位于上部部分中,其特征在于所述入口產(chǎn)生將含塵氣體切向弓I入到所述反應(yīng)器中并且所述反應(yīng)器含有帶波形內(nèi)表面3的圓柱形腔室,其具有位于所述反應(yīng)器的上部部分中的催化劑的活性相并且朝向下部部分下落的在其表面上具有催化劑的活性組分的螺旋帶4位于具有波形內(nèi)表面的所述腔室3內(nèi)部,而由加熱器12加熱的腔室9位于在具有波形表面的所述腔室3的幾何軸中,并且所述整體催化劑的切片10和/或16位于所述加熱腔室9中,此外所述反應(yīng)器配備有殼體,所述殼體具有兩個(gè)同軸壁6a和6b以及位于所述壁6a與壁6b之間的耐熱材料,而加熱器7至少部分地與所述內(nèi)部殼體的壁6b接觸,同時(shí)緊密閉合件8位于所述反應(yīng)器的所述下部部分并且它同時(shí)是灰塵容器。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的反應(yīng)器,其特征在于所述催化劑的活性組分存在于所述腔室9的內(nèi)壁上。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的反應(yīng)器,其特征在于所述整體催化劑的所述切片是朝向他們自身平行的并且豎直于所述反應(yīng)器的軸。
14.根據(jù)權(quán)利要求11或13所述的反應(yīng)器,其特征在于所述引導(dǎo)隔片11位于所述整體反應(yīng)器的所述切片之間。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的反應(yīng)器,其特征在于所述引導(dǎo)隔片11的形狀迫使煙氣射流進(jìn)行旋轉(zhuǎn)流動(dòng)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的反應(yīng)器,其特征在于所述引導(dǎo)隔片11的形狀類似于螺旋槳。
17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的反應(yīng)器,其特征在于所述加熱器13位于所述腔室9的軸上。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的反應(yīng)器,其特征在于當(dāng)所述催化劑的所述整體切片的前部位于比率L/d>50的位置中時(shí)所述引導(dǎo)隔片位于到所述催化劑的所述整體切片的所述入口的前部中,但是當(dāng)比率L/d〈50時(shí)所述引導(dǎo)隔片11不會(huì)位于到所述整體催化劑的所述切片的所述入口之前。
19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的反應(yīng)器,其特征在于所述整體催化劑的所述切片是相對(duì)于彼此成角度放置的并且朝向所述反應(yīng)器的軸。
20.根據(jù)權(quán)利要求11所述的反應(yīng)器,其特征在于所述殼體的內(nèi)壁6b與所述腔室3接觸。
21.根據(jù)權(quán)利要求11所述的反應(yīng)器,其特征在于它是由圓柱形部分和剩余的圓錐形部分組成的,所述腔室3位于所述圓柱形部分中。
22.根據(jù)權(quán)利要求11所述的反應(yīng)器,其特征在于它含有位于金屬基底上的氧化物催化劑。
23.根據(jù)權(quán)利要求11或22所述的反應(yīng)器,其特征在于所述氧化物催化劑沉積在耐酸奧氏體鋼的基底上。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的反應(yīng)器,其特征在于所述催化劑含有帶CiFe2O3結(jié)構(gòu)的相和帶尖晶石結(jié)構(gòu)的相或僅含有尖晶石相,所述尖晶石結(jié)構(gòu)具有接近于NiFe2O4的晶格參數(shù),而且所述相形成微晶,所述微晶含有Cr和額外的Mn并且可能含有Si。
25.根據(jù)權(quán)利要求11所述的反應(yīng)器,其特征在于它將用于同時(shí)從煙氣中移除一氧化氮、包含在由煙氣運(yùn)送的灰塵中的氧化的碳顆粒并且移除無機(jī)灰塵。
26.根據(jù)權(quán)利要求11所述的反應(yīng)器,其特征在于它將用于移除由靜止排放源生成的一氧化氮。
【文檔編號(hào)】B01D53/86GK104185502SQ201280065820
【公開日】2014年12月3日 申請(qǐng)日期:2012年12月10日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月8日
【發(fā)明者】米爾茲斯拉瓦·娜迦巴, 雷沙德·萊赫, 馬芮克·丹尼樂維斯基, 雅努什·多茲奧 申請(qǐng)人:克拉科夫雅蓋隆大學(xué)