專利名稱：水浴式加熱裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及化工設(shè)備領(lǐng)域，特別是涉及一種水浴式加熱裝置。
背景技術(shù)：
水浴加熱是把要加熱的物質(zhì)放在水中，通過給水加熱達(dá)到給物質(zhì)加熱的效果。一般都是把要反應(yīng)的物質(zhì)放在某個容器中，再把容器放置在裝有水的設(shè)備中，進(jìn)行間接加熱。水浴加熱能夠避免直接加熱造成的過度劇烈與溫度的不可控性，可以進(jìn)行平穩(wěn)地加熱。但是其加熱過程的溫度控制不穩(wěn)定，容易產(chǎn)生熱量流失，且水浴加熱時要保證循環(huán)水的充分供給。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種水浴式加熱裝置，結(jié)構(gòu)簡單緊湊，采用自動控制，保證了循環(huán)水的供給充足，保證加熱過程的連續(xù)穩(wěn)定，整個加熱過程安全可靠，減少了熱量的散失，保證了加熱過程溫度的穩(wěn)定。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是提供一種水浴式加熱裝置，包括儲罐以及設(shè)置在儲罐外側(cè)的加熱水箱，儲罐的頂部設(shè)置有進(jìn)料管和出料管，加熱水箱上設(shè)置有循環(huán)水進(jìn)口和循環(huán)水出口，加熱水箱上連接有溫度控制器，溫度控制器包括恒溫控制器和超溫控制器，加熱水箱上還連接有水位測量單元。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述進(jìn)料管延伸至儲罐頂部端口處，出料管延伸至儲罐底部。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述加熱水箱的外側(cè)設(shè)置有保溫層。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述循環(huán)水進(jìn)口設(shè)置在加熱水箱的頂部，循環(huán)水出口設(shè)置在加熱水箱的底部。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述恒溫控制器和超溫控制器均與加熱水箱電性連接。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述水位測量單元包括水位測量計和水位顯示表。在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述水位測量單元上連接有電磁控制閥。本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明水浴式加熱裝置結(jié)構(gòu)簡單緊湊，采用自動控制，保證了循環(huán)水的供給充足，保證加熱過程的連續(xù)穩(wěn)定，整個加熱過程安全可靠，減少了熱量的散失，保證了加熱過程溫度的穩(wěn)定。


圖I是本發(fā)明水浴式加熱裝置一較佳實施例的結(jié)構(gòu)示意 附圖中各部件的標(biāo)記如下1、儲罐，2、加熱水箱，3、進(jìn)料管，4、出料管，5、保溫層，6、循環(huán)水進(jìn)口，7、循環(huán)水出口，8、恒溫控制器，9、超溫控制器，10、水位測量單元，11、水位測量計，12、水位顯示表，13、電磁控制閥。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的較佳實施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。請參閱圖I，本發(fā)明實施例包括
一種水浴式加熱裝置，包括儲罐I以及設(shè)置在儲罐I外側(cè)的加熱水箱2。所述儲罐I的頂部設(shè)置有進(jìn)料管3和出料管4。其中，進(jìn)料管3延伸至儲罐I頂部端口處，出料管4延伸至儲罐I底部。
所述加熱水箱2的外側(cè)設(shè)置有保溫層5，能夠減少加熱水箱熱量的散失，保證加熱過程溫度的穩(wěn)定。所述加熱水箱2上設(shè)置有循環(huán)水進(jìn)口 6和循環(huán)水出口 7。其中，循環(huán)水進(jìn)口 6設(shè)置在加熱水箱2的頂部，循環(huán)水出口 7設(shè)置在加熱水箱2的底部。循環(huán)水從加熱水箱2頂部的循環(huán)水進(jìn)口 6進(jìn)入到水箱內(nèi)部，開始升溫加熱，然后從底部的循環(huán)水出口 7排出，整個過程連續(xù)可靠，保證了水浴加熱過程的穩(wěn)定。所述加熱水箱2上連接有溫度控制器，溫度控制器包括恒溫控制器8和超溫控制器9，恒溫控制器8和超溫控制器9均與加熱水箱2電性連接。具體地，恒溫控制器8能夠控制水浴溫度在50°C 70°C左右。當(dāng)水浴溫度超過90°C時，超溫控制器9切斷電源并報警，保證了水浴加熱過程的安全性和可靠性。所述的加熱水箱2上還連接有水位測量單元10，水位測量單元包括水位測量計11和水位顯示表12，在水位測量單元10上連接有電磁控制閥13。水位測量計11對加熱水箱2內(nèi)部的循環(huán)水位進(jìn)行測量，并通過水位顯示表12顯示出來。當(dāng)加熱水箱2內(nèi)的循環(huán)水位降低到一定值時，電磁控制閥13打開，往加熱水箱2內(nèi)自動注入循環(huán)水，整個過程保證了循環(huán)水的供給充足，保證加熱過程的連續(xù)穩(wěn)定。本發(fā)明水浴式加熱裝置的有益效果是
結(jié)構(gòu)簡單緊湊，采用自動控制，保證了循環(huán)水的供給充足，保證加熱過程的連續(xù)穩(wěn)定，整個加熱過程安全可靠，減少了熱量的散失，保證了加熱過程溫度的穩(wěn)定。以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種水浴式加熱裝置，其特征在于，包括儲罐以及設(shè)置在儲罐外側(cè)的加熱水箱，儲罐的頂部設(shè)置有進(jìn)料管和出料管，加熱水箱上設(shè)置有循環(huán)水進(jìn)口和循環(huán)水出口，加熱水箱上連接有溫度控制器，溫度控制器包括恒溫控制器和超溫控制器，加熱水箱上還連接有水位測量單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水浴式加熱裝置，其特征在于，所述進(jìn)料管延伸至儲罐頂部端口處，出料管延伸至儲罐底部。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水浴式加熱裝置，其特征在于，所述加熱水箱的外側(cè)設(shè)置有保溫層。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水浴式加熱裝置，其特征在于，所述循環(huán)水進(jìn)口設(shè)置在加熱水箱的頂部，循環(huán)水出口設(shè)置在加熱水箱的底部。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水浴式加熱裝置，其特征在于，所述恒溫控制器和超溫控制器均與加熱水箱電性連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水浴式加熱裝置，其特征在于，所述水位測量單元包括水位測量計和水位顯示表。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水浴式加熱裝置，其特征在于，所述水位測量單元上連接有電磁控制閥。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種水浴式加熱裝置，包括儲罐以及設(shè)置在儲罐外側(cè)的加熱水箱，儲罐的頂部設(shè)置有進(jìn)料管和出料管，加熱水箱上設(shè)置有循環(huán)水進(jìn)口和循環(huán)水出口，加熱水箱上連接有溫度控制器，溫度控制器包括恒溫控制器和超溫控制器，加熱水箱上還連接有水位測量單元。通過上述方式，本發(fā)明水浴式加熱裝置結(jié)構(gòu)簡單緊湊，采用自動控制，保證了循環(huán)水的供給充足，保證加熱過程的連續(xù)穩(wěn)定，整個加熱過程安全可靠，減少了熱量的散失，保證了加熱過程溫度的穩(wěn)定。
文檔編號B01L7/02GK102847574SQ201210347328
公開日2013年1月2日 申請日期2012年9月19日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月19日
發(fā)明者徐友娟 申請人:徐友娟