專利名稱：去除水蒸氣的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
氫化物發(fā)生法被廣泛應(yīng)用于原子光譜分析(包括AAS、AES和AFS)。它是利用酸堿中和反應(yīng)，使被測元素生成氣態(tài)氫化物，通過載氣將其帶入原子化器，與反應(yīng)生成的廢液有效分離。但在載氣輸送氣態(tài)氫化物的過程中，同時帶走了水蒸氣。水蒸氣與氣態(tài)氫化物一起進(jìn)入原子化器，是信號不穩(wěn)定的主要因素之一。
現(xiàn)有技術(shù)中有“二級氣液分離”或“三級氣液分離”等等，主要設(shè)計(jì)思想，是將水蒸氣在經(jīng)過一段輸送路程后，凝結(jié)的水分離出來，但仍然有未被凝結(jié)的水蒸氣進(jìn)入原子化器。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種用于氫化物發(fā)生系統(tǒng)的去除水蒸氣的設(shè)置。
本實(shí)用新型所述的去除水蒸氣的裝置，包括槽體、固定安裝在槽體上的槽蓋和設(shè)置在槽體和槽蓋之間的、只透氣不透水及水蒸氣的透氣膜，所述槽蓋具有氫化物氣體出氣孔，所述槽體與槽蓋接觸的一面具有廢液槽，在槽體的側(cè)面具有混合氣入口和廢液排出口。
所述槽蓋于槽體的接觸面為平面或者具有與槽體上的廢液槽相對應(yīng)的凹槽。
所述廢液槽的低部傾斜于槽體的上平面，所述混合氣入口設(shè)置在槽底高的一方，廢液排出口設(shè)置在槽底低的一方。
所述出氣孔的進(jìn)氣端為有利于氣體流通的喇叭形。
所述混合氣入口和廢液排出口設(shè)置在同一側(cè)面或設(shè)置在不同的側(cè)面上。
本實(shí)用新型所述的裝置可用于各類原子光譜儀(包括AAS、AFS和AES)的氫化物發(fā)生系統(tǒng)，安裝在常規(guī)氣液分離器和原子化器之間，也可以用于其他具有水蒸氣的混合氣分離。在透氣膜的作用下，水蒸氣完全不能進(jìn)入原子化器，從而提高了儀器信噪比，有效改善了儀器的檢出下限。


圖1是本實(shí)用新型所述的去除水蒸氣的裝置的示意圖。
具體實(shí)施方式
原子光譜分析通常采用氫化物發(fā)生法，由與酸堿中和反應(yīng)，使被測元素生成氣態(tài)氫化物，通過載氣將其帶入原子化器，但在載氣輸送氣態(tài)氫化物的過程中，同時帶走了水蒸氣，此時的帶有水蒸氣的氣態(tài)氫化物，為敘述方便，稱為混合氣。
以下結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型所述的去除水蒸氣的裝置進(jìn)行詳細(xì)說明。
參見圖1，本實(shí)用新型所述的去除水蒸氣的裝置包括槽體3、固定安裝在槽體3上的槽蓋1和設(shè)置在槽體3和槽蓋1之間的、只透氣不透水及水蒸氣的透氣膜2。所述槽蓋1與槽體3的固定可以用螺栓、螺釘或其他常用的方法。
所述上槽蓋1具有氫化物氣體出氣孔4，圖1中所示為螺紋孔，也可以是一通孔，該孔與一管道連通，以排出氫化物氣體，與槽體3的接觸面可以為平面或者具有與槽體3上的廢液槽5相對應(yīng)的凹槽。所述槽體3與槽蓋1接觸的一面具有廢液槽5，該廢液槽的低部傾斜于槽體3的上平面，即廢液槽5的深度是一邊深，一邊淺，在槽體3的側(cè)面具有混合氣入口6和廢液排出口7。所述混合氣入口6設(shè)置在槽底高的一方，廢液排出口7設(shè)置在槽底低的一方，這樣有利于帶水蒸氣的混合氣在此停留期間，水蒸氣冷凝為水后的排出。
所述混合氣入口6和廢液排出口7根據(jù)整體設(shè)備的安裝位置的需要，可以設(shè)置在槽體3的同一側(cè)面，也可以設(shè)置在不同的側(cè)面上。
所述出氣孔4的進(jìn)氣口可以為有利于氣體流通的喇叭形。
工作時，混合氣入口6與常規(guī)的氫化反應(yīng)氣液分離器出口相連，氫化物氣體出口4與原子化器連通，常規(guī)氣液分離器輸出的載氣及含水蒸氣的氣態(tài)氫化物，進(jìn)入混合氣入口6，載氣和氣態(tài)氫化物透過透氣膜，經(jīng)氫化物氣體出口4進(jìn)入原子化器，而水蒸氣不能透過透氣膜，凝結(jié)于廢液槽5內(nèi)，經(jīng)廢液排出口7排出。
權(quán)利要求1.一種去除水蒸氣的裝置，其特征是包括槽體(3)、固定安裝在槽體(3)上的槽蓋(1)和設(shè)置在槽體(3)和槽蓋(1)之間的、只透氣不透水及水蒸氣的透氣膜(2)，所述槽蓋(1)具有氫化物氣體出氣孔(4)，所述槽體(3)與槽蓋(1)接觸的一面具有廢液槽(5)，在槽體(3)的側(cè)面具有混合氣入口(6)和廢液排出口(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除水蒸氣的裝置，其特征是所述槽蓋(1)于槽體(3)的接觸面為平面或者具有與槽體(3)上的廢液槽(5)尺寸相應(yīng)的凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的去除水蒸氣的裝置，其特征是所述廢液槽(5)的低部傾斜于槽體的上平面，所述混合氣入口(6)設(shè)置在槽底高的一方，廢液排出口(7)設(shè)置在槽底低的一方。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的去除水蒸氣的裝置，其特征是所述出氣孔(4)的進(jìn)氣端為有利于氣體流通的喇叭形。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的去除水蒸氣的裝置，其特征是所述出氣孔(4)的進(jìn)氣端為有利于氣體流通的喇叭形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的去除水蒸氣的裝置，其特征是所述混合氣入口(6)和廢液排出口7設(shè)置在同一側(cè)面或設(shè)置在不同的側(cè)面上。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的去除水蒸氣的裝置，其特征是所述混合氣入口(6)和廢液排出口(7)設(shè)置在同一側(cè)面或設(shè)置在不同的側(cè)面上。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的去除水蒸氣的裝置，其特征是所述混合氣入口(6)和廢液排出口(7)設(shè)置在同一側(cè)面或設(shè)置在不同的側(cè)面上。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的去除水蒸氣的裝置，其特征是所述混合氣入口(6)和廢液排出口(7)設(shè)置在同一側(cè)面或設(shè)置在不同的側(cè)面上。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種去除水蒸氣的裝置，包括槽體、固定安裝在槽體上的槽蓋和設(shè)置在槽體和槽蓋之間的、只透氣不透水及水蒸氣的透氣膜，所述槽蓋具有氫化物氣體出氣孔，所述槽體與槽蓋接觸的一面具有廢液槽，在槽體的側(cè)面具有混合氣入口和廢液排出口。該裝置可用于各類原子光譜儀(包括AAS、AFS和AES)的氫化物發(fā)生系統(tǒng)，安裝在常規(guī)氣液分離器和原子化器之間。還可以用于其他具有水蒸氣的混合氣分離。在透氣膜的作用下，水蒸氣完全不能進(jìn)入原子化器，從而提高了儀器信噪比，有效改善了儀器的檢出下限。
文檔編號B01D53/26GK2579506SQ02285169
公開日2003年10月15日 申請日期2002年11月11日 優(yōu)先權(quán)日2002年11月11日
發(fā)明者劉明鐘, 陳紅軍, 何穎 申請人:北京吉大小天鵝儀器有限公司