專(zhuān)利名稱(chēng)：功能性薄膜、功能性基板、及氧化鈦薄膜的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于功能性薄膜的技術(shù)領(lǐng)域，特別是關(guān)于具有光催化功能的功能性薄膜的應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域。
近年來(lái)，作為具有超親水性和防污效果的薄膜材料，是氧化鈦(TiO2)極受關(guān)注。
眾所周知氧化鈦是光催化劑的一種，當(dāng)受紫外線照射時(shí)能被活化，使空氣中的氧生成羥基游離基和過(guò)氧化物陰離子，由于它們能分解附著在表面上的有機(jī)污染物質(zhì)，所以具有自清洗效果，另外由于污染物質(zhì)的分解，而露出清凈的表面，其結(jié)果可獲得超親水性。
圖8中符號(hào)110是應(yīng)用上述氧化鈦的鏡子。該鏡子110具有由鹼石灰玻璃形成的基板111，其背面形成反射層(鉻層)118，在正面形成由硅氧化物薄膜組成的屏障薄膜112。
在該屏障薄膜112的表面上噴鍍上氧化鈦粉末的分散液，進(jìn)行燒成，形成氧化鈦薄膜113(溶膠·凝膠法)，在表面上，形成由氧化鈦薄膜113構(gòu)成的光催化薄膜，通過(guò)這層氧化鈦薄膜113，能夠獲得自清洗效果和超親水性。
另外，屏障膜112是為防止基板111中的鈉等雜質(zhì)擴(kuò)散的薄膜。當(dāng)不形成屏障薄膜112，而直接將氧化鈦分散液噴鍍?cè)诨?11表面上形成氧化鈦薄膜113時(shí)，燒成氧化鈦薄膜的過(guò)程中，基板111中所含的鈉成分會(huì)浸入到氧化鈦薄膜113中，而生成Ti-Na化合物，使氧化鈦薄膜113失去活性。
然而，氧化鈦的結(jié)晶系列有銳鈦礦型、金紅石型和板鈦礦型，已知銳鈦礦型能顯示出最高的光學(xué)活性。然而，銳鈦礦型暴露于高溫下時(shí)會(huì)轉(zhuǎn)變成金紅石型，結(jié)果變得不顯示防污效果和超親水性。
一般利用濺射法形成薄膜時(shí)，由于成膜能量過(guò)大，從而不能形成銳鈦礦型的氧化鈦薄膜。而蒸鍍法的場(chǎng)合，由于需要在高溫下邊加熱成膜對(duì)象物邊形成薄膜，所以不適宜向玻璃基板表面形成薄膜。
對(duì)此，在上述的溶膠·凝膠法中，使用銳鈦礦型的氧化鈦粉末，由于在800℃左右的低溫下進(jìn)行燒成形成薄膜，所以不產(chǎn)生晶型轉(zhuǎn)變，從而能形成銳鈦礦型的氧化鈦薄膜。
然而，以溶膠·凝膠法形成的氧化鈦薄膜113，由于薄膜強(qiáng)度很差，所以有容易剝離的缺點(diǎn)。
近年來(lái)，氧化鈦薄膜的超親水性受到關(guān)注，應(yīng)用于鏡子時(shí)，即使在雨天，辨認(rèn)性也很好，而且可以期待獲得具有自清洗功能的高性能視鏡等。因此，對(duì)使用了氧化鈦薄膜的功能性薄膜的制品化和耐久性要求也越來(lái)越高。
本發(fā)明是為解決上述當(dāng)前技術(shù)中的不理想狀況而提出的，其目的是提供一種耐久性高，具有光催化功能的氧化鈦薄膜。
為了解決上述課題，權(quán)利要求1中記載的發(fā)明，是一種具有親水性薄膜和氧化鈦薄膜的功能性薄膜，其特征在于，在上述功能性薄膜表面上的微小區(qū)域內(nèi)混雜著親水性薄膜露出的部分和氧化鈦薄膜露出的部分。
權(quán)利要求2中記載的發(fā)明，是權(quán)利要求1中記載的功能性薄膜，其特征在于，上述氧化鈦薄膜是在上述親水性薄膜之上形成的。
權(quán)利要求3中記載的發(fā)明，是具有玻璃基板，在該玻璃基板上形成的屏障薄膜和在該屏障薄膜上形成氧化鈦薄膜的功能性基板，其特征在于，上述氧化鈦薄膜上有一部分上述屏障薄膜的表面露出。
權(quán)利要求4中記載的發(fā)明，是權(quán)利要求3中記載的功能性基板，其特征在于，在上述氧化鈦薄膜中配置親水性薄膜，并且在上述基板上的微小區(qū)域內(nèi)，上述氧化鈦薄膜露出的部分和上述親水性薄膜露出的部分混雜在一起。
權(quán)利要求5中記載的發(fā)明，是功能性基板，其特征在于，該基板包括玻璃基板，和在該玻璃基板上形成的屏障薄膜，和在該屏障薄膜上形成的氧化鈦薄膜和在該氧化鈦薄膜上形成的親水性薄膜，并且在上述玻璃基板上微小區(qū)域內(nèi)混雜著上述親水性薄膜露出的部分和氧化鈦薄膜露出的部分。
權(quán)利要求6中記載的發(fā)明，是將成膜對(duì)象物配置在真空環(huán)境中，利用濺射氣體的等離子體，使氧化鈦靶子進(jìn)行濺射，在上述成膜對(duì)象物的表面上制造氧化鈦薄膜的氧化鈦薄膜的制造方法，其特征在于，上述濺射氣體中，作為含氧氣體，含有氧氣、臭氧氣、或二氧化氮?dú)庵械娜?種或2種以上的氣體。
權(quán)利要求7中記載的發(fā)明，是權(quán)利要求6中記載的氧化鈦薄膜的制造方法，其特征在于，在上述濺射氣體中的上述含氧氣體的所含比率在10體積％以上。
權(quán)利要求8中記載的發(fā)明，是將成膜物配置在真空環(huán)境中，利用濺射氣體的等離子體，使氧化鈦靶子進(jìn)行濺射，在上述成膜對(duì)象物的表面上制造氧化鈦薄膜的氧化鈦薄膜的制造方法，其特征在于，該制造方法是一邊在上述成膜對(duì)象物表面上照射氧等離子體，一邊形成氧化鈦薄膜的。
權(quán)利要求9中記載的發(fā)明，是一種真空裝置，該裝置的構(gòu)成是，包括真空槽，和配置在真空槽內(nèi)的可旋轉(zhuǎn)和升降的轉(zhuǎn)臺(tái)，和配置在真空槽內(nèi)數(shù)個(gè)成膜部件和遮蔽該成膜部件之間的隔板，并且將成膜對(duì)象物配置在上述轉(zhuǎn)臺(tái)上，當(dāng)該轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)和升降時(shí)，能在上述各成膜部件之間移送成膜對(duì)象物。
權(quán)利要求10中記載的發(fā)明，是權(quán)利要求9中記載的真空裝置，其特征在于，在上述數(shù)個(gè)成膜部件中，至少有1個(gè)成膜部件是將鈦氧化物作為靶子的濺射裝置。
權(quán)利要求11中記載的發(fā)明，是權(quán)利要求10中記載的真空裝置，其特征在于，上述數(shù)個(gè)成膜部件中，至少有1個(gè)成膜部件是將硅氧化物作為靶子的濺射裝置。
權(quán)利要求12中記載的發(fā)明，是一種具有真空槽和配置在真空槽內(nèi)的靶子，濺射靶子和在移送到真空槽內(nèi)的成膜物表面上形成薄膜的濺射裝置，其特征在于，在上述靶子和成膜對(duì)象物內(nèi)配置網(wǎng)，且在成膜對(duì)象物表面的網(wǎng)影部分不會(huì)形成薄膜。
權(quán)利要求13中記載的發(fā)明，是權(quán)利要求12中記載的濺射裝置，其特征在于，在上述靶子中使用了鈦氧化物。
權(quán)利要求14中記載的發(fā)明，是權(quán)利要求12中記載的濺射裝置，其特征在于，在上述靶子中使用了硅氧化物。
權(quán)利要求15中記載的發(fā)明，是權(quán)利要求12中記載的濺射裝置，其特征在于，設(shè)有使成膜對(duì)象物和網(wǎng)相對(duì)吻合的定位裝置。
本發(fā)明的功能性薄膜構(gòu)成如上，即，親水性薄膜露出部分和氧化鈦薄膜露出部分，在功能性薄膜表面上的微小區(qū)域中混雜存在。例如，在親水性薄膜中氧化鈦薄膜以島狀分散著，相反，在氧化鈦薄膜中親水性薄膜也可以以島狀分散著。氧化鈦薄膜和親水性薄膜可以以線狀交叉配置，另一方面也可以以網(wǎng)狀配置，還可以是配置在網(wǎng)眼位置上。
氧化鈦薄膜表面露出的部分和親水性薄膜表面露出的部分混雜存在的功能性薄膜，可以在玻璃基板上形成的屏障薄膜上形成。也可以將親水性薄膜填充分散在氧化鈦薄膜中間，也可以將氧化鈦薄膜填充分散到親水性薄膜中間。另外，也可以在屏障薄膜上全面成膜的氧化鈦上形成島狀分散的親水性薄膜，或線狀、或網(wǎng)狀的親水性薄膜。
重要的是，在功能性薄膜表面的微小區(qū)域中以氧化鈦薄膜表面和親水性薄膜表面混雜存在為佳。微小區(qū)域?yàn)?平方英寸時(shí)，最好有100個(gè)左右的島狀氧化鈦薄膜分散在其上為好。
在上述功能性薄膜或功能性基板上設(shè)置的氧化鈦薄膜，必須具有光催化功能。在進(jìn)行濺射形成氧化鈦靶子時(shí)，在氬氣等稀有的氣體中添加氧氣、臭氧氣、或二氧化氮?dú)獾群鯕怏w形成濺射氣體，利用這種濺射氣體等離子體對(duì)靶子進(jìn)行濺射時(shí)，可以補(bǔ)充形成氧化鈦薄膜中缺損的氧原子，可獲得具有光催化功能的銳鈦礦型氧化鈦薄膜。
為了獲得具有光催化功能的氧化鈦薄膜，含氧氣體的添加比率越多越好，必須含10體積％(稀有氣體∶含氧氣體＝9∶1)以上。氬氣等稀有氣的比率變小時(shí)，由于濺射速度很低，所以，含氧氣體的上限根據(jù)成膜速度來(lái)確定。
另外，在濺射中，也可以利用離子槍等向基板表面照射氧等離子體，由于能夠補(bǔ)充缺損的氧原子，所以能夠形成具有光催化功能的氧化鈦薄膜。
發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案敘述于下。
詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的功能性薄膜和功能性基板，同時(shí)也說(shuō)明本發(fā)明的氧化鈦薄膜的制造方法。
參照?qǐng)D3，符號(hào)9是形成本發(fā)明功能性薄膜的成膜裝置的一例。該成膜裝置9具有真空槽54。在真空槽54內(nèi)的底側(cè)上配置轉(zhuǎn)臺(tái)59，在它的上方的頂部配置送入送出部件60，和第1～第3的成膜部件51～53。
轉(zhuǎn)臺(tái)59可以水平旋轉(zhuǎn)，而且也可以升降移動(dòng)，并且從圖中未示出的送出送入口將成膜對(duì)象的基板送進(jìn)送出送入部件60內(nèi)，使其載置在轉(zhuǎn)臺(tái)59上，當(dāng)旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)臺(tái)59時(shí)，基板被依次送到第1～第3的成膜部件51～53的下邊，當(dāng)升降移動(dòng)轉(zhuǎn)臺(tái)59時(shí)，放置在轉(zhuǎn)臺(tái)59上的基板可送入第1～第3的成膜部件51～53內(nèi)。


圖1(a)～(d)的符號(hào)11表示由鹼石灰玻璃形成的基板。在玻璃基板11的背面預(yù)先形成反射膜18。
使用上述成膜裝置9，形成功能性薄膜時(shí)，預(yù)先用圖中未示出的真空泵使真空槽54內(nèi)形成真空環(huán)境，并維持這種環(huán)境原封不動(dòng)，再將基板11送進(jìn)送出送入部件50內(nèi)。再啟動(dòng)轉(zhuǎn)臺(tái)59，將基板11送入第1成膜部件51內(nèi)。
第1成膜部件51是濺射裝置，配置由硅氧化物制成的靶子，濺射該靶子，在基板11的表面上使由硅氧化物形成的屏障薄膜12(圖1(b))進(jìn)行全面成膜。
接著，啟動(dòng)轉(zhuǎn)臺(tái)59，將該基板11移動(dòng)到第2成膜部件52處。該第2成膜部件52也是濺射裝置，其結(jié)構(gòu)模型如圖4所示。
該成膜部件52具有隔板71，在頂部側(cè)配置陰極72，在陰極72的底側(cè)面上配置由鈦氧化物制成的靶子73。送入的基板11，使其表面的屏障薄膜12向著靶子73一側(cè)，配置在隔板71內(nèi)。
在該隔板71內(nèi)，靶子73和基板11之間配置過(guò)濾板75。圖5中示出了它們的相互位置。
過(guò)濾板75是100目(1平方英寸中具有100個(gè)網(wǎng)眼的金屬制成的網(wǎng))的篩，由網(wǎng)部分的遮蔽部分76和形成網(wǎng)眼的通過(guò)部分77構(gòu)成。
送入基板11后，使第2成膜部件52內(nèi)的環(huán)境從真空槽54內(nèi)的環(huán)境中獨(dú)立出來(lái)，以規(guī)定的比率(此處為1∶1，即含氧氣的比率為50體積％)通入氬氣和氧氣，將壓力穩(wěn)定在3.0×10-2乇(1乇約為133pa)，對(duì)陰極72施加電壓。
結(jié)果，在靶子73表面附近，生成由氬氣和氧氣組成的濺射氣體等離子體，使靶子73可進(jìn)行濺射。
由靶子73表面飛射出的濺射粒子(氧化鈦)到達(dá)基板11的屏障薄膜12表面上時(shí)，在其上形成氧化鈦薄膜。
利用濺射法形成氧化鈦薄膜時(shí)，若在濺射氣體中含有含氧氣體的話，所形成的氧化鈦薄膜會(huì)形成銳鈦礦型的。另外，濺射環(huán)境的壓力對(duì)結(jié)晶型式有著密切的關(guān)系。
下表中示出了氧化鈦薄膜形成時(shí)濺射環(huán)境的壓力和所形成鈦薄膜的性質(zhì)。
表1 TiO2濺射條件成膜時(shí)壓力(乇)紫外線照射18h后的接觸(Ar∶O2＝1∶1) 角θ(·)3.0×10-3×1.0×10-2△2.0×10-2○3.0×10-2○○10°以下△10～20°之間×20°以上接觸角θ，是指向在玻璃基板表面上全面成膜的氧化鈦薄膜表面上照射規(guī)定時(shí)間的紫外線，載有水滴時(shí)的玻璃基板和水滴表面形成的夾角。接觸角θ示于圖6，符號(hào)60是玻璃基板，符號(hào)61是水滴。
根據(jù)表1可知，在2.0×10-2乇以上的壓力下，形成的接觸角θ在10°以下，可認(rèn)為具有超親水性。因此，在2.0×10-2以上的壓力下，可形成銳鈦礦型的氧化鈦薄膜。
圖7所示的曲線圖是表示獲得超親水性時(shí)，紫外線照射時(shí)間和接觸角θ的關(guān)系圖。由圖可見(jiàn)，照射40～60分鐘左右即可得到超親水性。
但是，在1.0×10-2乇壓力下獲得的氧化鈦薄膜的接觸角，在實(shí)際應(yīng)用中已足夠了，可以認(rèn)為在5.0×10-3乇以上的壓力下形成的氧化鈦薄膜就可使用了。上限，是在濺射中不產(chǎn)生弧放電的壓力，為5.0×10-2乇左右。
然而，在上述的第3成膜部件53內(nèi)，由于在靶子73和基板11之間配置了過(guò)濾板75，所以由靶子73飛射出的濺射粒子通過(guò)過(guò)濾板75時(shí)，一部分附著在遮蔽部件76上，只有通過(guò)網(wǎng)眼76的濺射粒子才到達(dá)到屏障薄膜12表面上。因此，使用過(guò)濾板75在屏障膜12表面上形成的氧化鈦薄膜是網(wǎng)眼狀的。圖1(c)的符號(hào)31表示該網(wǎng)眼狀的氧化鈦薄膜，有規(guī)則地分散在屏障薄膜12表面上。
形成網(wǎng)眼狀的氧化鈦薄膜31后，從成膜裝置9中取出基板11，制作視鏡時(shí)，在向氧化鈦薄膜31表面上照射紫外線的環(huán)境下，通過(guò)氧化鈦薄膜31的自清洗功能，進(jìn)行表面清凈，可見(jiàn)到超親水性的效果。在這種狀態(tài)下，在表面上即使附著水薄膜也擴(kuò)展，也不會(huì)生成水滴。
由于在氧化鈦薄膜31中，露出了親水性的屏障薄膜12的表面，所以，即使在不照射紫外線的環(huán)境下，也能確保某種程度的親水性。
因此，由網(wǎng)眼狀的氧化鈦薄膜31和屏障薄膜12構(gòu)成的功能性薄膜2，不管有無(wú)紫外線照射都具有親水性。符號(hào)5表示具有該功能性薄膜2的功能性基板。
這里，不必將該基板11從成膜裝置9中取出，可進(jìn)一步送入第3成膜部件53中。
該成膜部件53是濺射裝置，在其內(nèi)部設(shè)有由硅氧化物制成的靶子和由上述金屬篩制成的過(guò)濾板。
將送入成膜部件53中的基板11配置在過(guò)濾板的后面，使過(guò)濾板和基板11的位置定位在相對(duì)吻合的位置上，使過(guò)濾板的網(wǎng)眼位于氧化鈦薄膜31中露出的屏障薄膜12上。在這種狀態(tài)下進(jìn)行濺射時(shí)，在露出的屏障薄膜12表面上可形成由硅氧化物組成的親水性薄膜41(圖1(d))。
將該基板11從成膜裝置9中移出，制作鏡子時(shí)，由于表面上露出氧化鈦薄膜31和親水性薄膜41，從而得到具有自清洗功能和超親水性的視鏡。
屏障薄膜12的表面，由氧化鈦薄膜31或親水性薄膜41覆蓋時(shí)，屏障薄膜12無(wú)親水性也可以，只要能防止基板11中的雜質(zhì)擴(kuò)散到氧化鈦薄膜31內(nèi)即可。因此，以氧化鈦薄膜31和親水性薄膜41可構(gòu)成具有親水性的功能性薄膜3。符號(hào)6表示具有該功能性薄膜3的功能性基板。
另外，如圖2(a)所示，在基板11的屏障薄膜12表面上使氧化鈦薄膜32全面成膜(膜厚500～3000左右)，在其表面上也可形成島狀分散的硅氧化物薄膜等的親水性薄膜42(膜厚500～3000左右)。在親水性薄膜42中的底面上露出的氧化鈦薄膜32，在該部分上可獲得自清洗功能和超親水性。因此，由氧化鈦薄膜32和親水性薄膜42可構(gòu)成功能性薄膜4。符號(hào)7表示具有該功能性薄膜4的功能性基板。
這時(shí)，屏障薄膜12只要能有效地防止基板11中的鈉等雜質(zhì)浸入氧化鈦薄膜32中即可，即使無(wú)親水性也可以。
由于利用濺射法可形成氧化鈦薄膜，所以可獲得強(qiáng)韌性的功能性薄膜。
由于在氧化鈦薄膜中配置了親水性薄膜表面，所以即使在沒(méi)有紫外線照射的環(huán)境下，也能獲得親水性。由于在微小區(qū)域內(nèi)混雜著氧化鈦薄膜表面和親水性薄膜表面，所以難以形成水滴。
圖1(a)～(d)是本發(fā)明一例的功能性薄膜和功能性基板的制造方法說(shuō)明圖。
圖2(a)、(b)是其他例的說(shuō)明圖。
圖3是一個(gè)可形成功能性薄膜的成膜裝置的例子。
圖4是氧化鈦薄膜形成方法的說(shuō)明圖。
圖5是過(guò)濾板配置狀態(tài)的說(shuō)明圖。
圖6是表示接觸角的圖。
圖7是表示紫外線照射時(shí)間和接觸角θ的關(guān)系圖。
圖8是老技術(shù)的功能性薄膜的說(shuō)明圖。
圖中2～4功能性薄膜5～7功能性基板11 玻璃基板12 屏障薄膜或親水性薄膜31、32 氧化鈦薄膜41、42 親水性薄膜
權(quán)利要求
1.一種功能性薄膜，它是具有親水性薄膜和氧化鈦薄膜的功能性薄膜，其特征在于，在上述功能性薄膜的表面上微小區(qū)域內(nèi)混雜存在著前述親水性薄膜露出的部分和前述氧化鈦薄膜露出的部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1記載的功能性薄膜，其特征在于，上述氧化鈦薄膜是在上述親水性薄膜上形成的。
3.一種功能性基板，該基板是具有玻璃基板，和在上述玻璃基板上形成的屏障薄膜和在該屏障薄膜上形成的氧化鈦薄膜的功能性基板，其特征在于，上述氧化鈦薄膜上有一部分屏障薄膜的表面露出。
4.根據(jù)權(quán)利要求3記載的功能性基板，其特征在于，在上述氧化鈦薄膜中配置親水性薄膜，并且在上述基板上的微小區(qū)域內(nèi)，上述氧化鈦薄膜露出的部分和上述親水性薄膜露出的部分混雜在一起。
5.一種功能性基板，其特征在于，該基板包括玻璃基板，和在上述玻璃基板上形成的屏障薄膜，和在該屏障薄膜上形成的氧化鈦薄膜，和在上述氧化鈦薄膜表面上形成的親水性薄膜，并且在上述玻璃基板上的微小區(qū)域內(nèi)混雜著上述親水性薄膜露出的部分和上述氧化鈦薄膜露出的部分。
6.一種氧化鈦薄膜的制造方法，它是將成膜對(duì)象物配置在真空環(huán)境中，利用噴濺氣體的等離子體使氧化鈦靶子進(jìn)行濺射，在上述成膜對(duì)象物表面上制造氧化鈦薄膜的氧化鈦薄膜的制造方法，其特征在于，上述濺射氣體中作為含氧氣體，含有氧氣、臭氧氣或二氧化氮?dú)庵械娜魏?種或2種以上的氣體。
7.根據(jù)權(quán)利要求6記載的氧化鈦薄膜的制造方法，其特征在于，在上述濺射氣體中上述含氧氣體的比率在10體積％以上。
8.一種氧化鈦薄膜的制造方法，該方法是將成膜對(duì)象物配置在真空環(huán)境中，利用濺射氣體的等離子體使氧化鈦靶子進(jìn)行濺射，在上述成膜對(duì)象物表面上制造氧化鈦薄膜的氧化鈦薄膜制造方法，其特征在于，該方法是對(duì)上述成膜對(duì)象物表面邊照射氧等離子體，邊形成氧化鈦薄膜。
9.一種真空裝置，該裝置的構(gòu)成是，包括真空槽，和設(shè)置在上述真空槽內(nèi)的可旋轉(zhuǎn)和升降的轉(zhuǎn)臺(tái)，和在真空槽內(nèi)配置的數(shù)個(gè)成膜部件和遮蔽成膜部件之間的隔板，并且將成膜對(duì)象物配置在上述轉(zhuǎn)臺(tái)上，當(dāng)該轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)和升降時(shí)，能在上述各成膜部件間搬送成膜對(duì)象物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9記載的真空裝置，上述數(shù)個(gè)成膜部件中，至少1個(gè)成膜部件是將鈦氧化物作為靶子的濺射裝置。
11.根據(jù)權(quán)利要求10記載的真空裝置，上述數(shù)個(gè)成膜部件中，至少1個(gè)成膜部件是將硅氧化物作為靶子的濺射裝置。
12.一種濺射裝置，該裝置是具有真空槽，和在該真空槽內(nèi)配置的靶子，并且使上述靶子進(jìn)行濺射，在送入上述真空槽內(nèi)的成膜對(duì)象物表面上形成薄膜的濺射裝置，在上述靶子和上述成膜對(duì)象物內(nèi)配置網(wǎng)，而在上述成膜對(duì)象物表面上的網(wǎng)影部分內(nèi)，不會(huì)形成上述薄膜。
13.根據(jù)權(quán)利要求12記載的濺射裝置，在上述靶子中使用鈦氧化物。
14.根據(jù)權(quán)利要求12記載的濺射裝置，在上述靶子中使用硅氧化物。
15.根據(jù)權(quán)利要求12記載的濺射裝置，設(shè)置使上述成膜對(duì)象物和上述網(wǎng)相對(duì)位置吻合的定位裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供具有高耐久性、光催化功能的氧化鈦薄膜。在屏障薄膜12表面上以點(diǎn)狀使氧化鈦薄膜31存在,在其間形成親水性薄膜41,進(jìn)而構(gòu)成功能性薄膜3。在其表面上因混雜著氧化鈦薄膜露出的部分和親水性薄膜露出的部分,所以可獲得兩種薄膜的功能。在紫外線照射環(huán)境下具有自清洗效果和超親水性,即使暗處,也有某種程度的親水性。用加氧氣的濺射氣體使氧化鈦靶子進(jìn)行濺射,因能補(bǔ)充形成氧化鈦薄膜中的缺損氧,故能形成有光催化功能的氧化鈦薄膜31。
文檔編號(hào)B01J35/00GK1260232SQ0010104
公開(kāi)日2000年7月19日 申請(qǐng)日期2000年1月11日 優(yōu)先權(quán)日1999年1月11日
發(fā)明者根岸敏夫, 平巖秀行, 牧元貴彥 申請(qǐng)人:日本真空技術(shù)株式會(huì)社