一種除塵裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及表面清潔技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種除塵裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]多種產(chǎn)品制造流程過程中需要用到清潔設(shè)備對配件進(jìn)行表面清理以達(dá)到相應(yīng)的使用要求。其中，在生產(chǎn)太陽能電池板時，需要使用表面除塵設(shè)備。
[0003]近年來，對應(yīng)用除塵設(shè)備對太陽能電池板芯片表面清理過程中的清潔效率和收集回收準(zhǔn)確性等方面的要求越來越高。因此，提高表面清理的清潔效率和收集回收準(zhǔn)確性成為設(shè)計目標(biāo)。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中，非晶硅太陽能電池片在制作過程中，經(jīng)常會出現(xiàn)CVD (ChemicalVapor Deposit1n,化學(xué)氣相沉積)鍍膜后的芯片半成品表面粘附娃粉的情況。芯片半成品受光面的硅粉會造成后續(xù)工藝的激光刻線不斷，降低產(chǎn)品的功率。而芯片半成品CVD膜面的硅粉則會造成后續(xù)工藝的芯片膜面針孔，影響產(chǎn)品的質(zhì)量和功率。因此，芯片半成品受光面和膜面表面的高效除塵對提高芯片的質(zhì)量和功率十分重要。為避免芯片半成品的CVD膜面容易刮傷，目前常通過吹吸高壓流體的設(shè)備進(jìn)行芯片表面清理，如圖1所示，清理設(shè)備的高壓流體吹吸結(jié)構(gòu)部件設(shè)置于芯片表面上側(cè)，高壓流體自吹出口被吹出，自吸入口被吸入，高壓流體的流動過程中，芯片表面的塵埃等雜質(zhì)被高壓流體吹起并被帶入吸入口。出于對芯片表面吹吸清理的目的，吹出口與吸入口之間設(shè)置有相應(yīng)的角度以便高壓流體能夠流經(jīng)芯片表面位置，雖吹出口和吸入口所連通的管道連接有增壓設(shè)備，例如氣泵等以圖控制流體的流動軌跡，而流體在持續(xù)被從吹出口吹出后，其流動與吹出口的推動力、慣性和吸入口的吸入能力等因素相關(guān)，特別是高壓流體裹挾著芯片表面的雜質(zhì)流動時，隨著吹出口的持續(xù)推動力和慣性的因素，高壓流體和雜質(zhì)塵埃在吸入口位置被吸入一部分，另一部分流體和雜質(zhì)因慣性等因素錯過吸入口而無序地流至其他位置。由于上述原因，吸入口和吹出口各自的朝向之間設(shè)置有一定角度，高壓流體和雜質(zhì)塵埃流至吸入口邊側(cè)的其他位置后，其再次落至芯片表面后依然影響著芯片質(zhì)量，或需要再次除塵處理。
[0005]上述除塵設(shè)備使用過程中的清潔效率低和收集回收準(zhǔn)確性差等設(shè)計缺陷是本領(lǐng)域技術(shù)人員目前需要解決的技術(shù)問題。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]本實用新型的目的是提供一種除塵裝置，通過本實用新型的應(yīng)用將明顯提高對太陽能電池板芯片表面的除塵清潔效率和收集回收準(zhǔn)確性。
[0007]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供一種用于對太陽能電池板芯片進(jìn)行除塵清潔的除塵裝置，包括:用于排出第一路流體的主吹氣機(jī)構(gòu)、用于排出壓力小于所述第一路流體壓力的第二路流體的副吹氣機(jī)構(gòu)、用于吸收所述第一路流體和所述第二路流體的抽氣機(jī)構(gòu)以及設(shè)于所述主吹氣機(jī)構(gòu)和所述抽氣機(jī)構(gòu)之間的用于集塵的密閉罩板，所述抽氣機(jī)構(gòu)設(shè)于所述主吹氣機(jī)構(gòu)和所述副吹氣機(jī)構(gòu)之間，所述副吹氣機(jī)構(gòu)無間隙地緊鄰于所述抽氣機(jī)構(gòu)，所述主吹氣機(jī)構(gòu)和所述副吹氣機(jī)構(gòu)對向設(shè)置以實現(xiàn)所述第一路流體與所述第二路流體對向流動。
[0008]優(yōu)選地，還包括安裝于所述主吹氣機(jī)構(gòu)上的長條形整流蓋板，所述整流蓋板上設(shè)有多個用于流出所述第一路流體的通孔，多個所述通孔中，設(shè)置在靠近所述整流蓋板中間區(qū)域的所述通孔的截面積之和分別小于靠近所述整流蓋板兩端區(qū)域的所述通孔的截面積之和以實現(xiàn)所述第一路流體流出后具有向中間流動的趨勢。
[0009]優(yōu)選地，所述抽氣機(jī)構(gòu)和所述副吹氣機(jī)構(gòu)為一體結(jié)構(gòu)設(shè)置，一體結(jié)構(gòu)的抽氣機(jī)構(gòu)和副吹氣機(jī)構(gòu)能夠調(diào)整角度地與所述密閉罩板連接。
[0010]優(yōu)選地，一體結(jié)構(gòu)的所述抽氣機(jī)構(gòu)和所述副吹氣機(jī)構(gòu)與所述密閉罩板之間的調(diào)整角度范圍在130度至170度之間。
[0011]優(yōu)選地，所述主吹氣機(jī)構(gòu)能夠調(diào)整角度地與所述密閉罩板連接。
[0012]優(yōu)選地，所述主吹氣機(jī)構(gòu)與所述密閉罩板之間的調(diào)整角度范圍在130度至170度之間。
[0013]在一個關(guān)于除塵裝置的優(yōu)選實施方式中，用于對太陽能電池板芯片進(jìn)行除塵清潔的除塵裝置中，包括主吹氣機(jī)構(gòu)、副吹氣機(jī)構(gòu)、抽氣機(jī)構(gòu)以及密閉罩板，主吹氣機(jī)構(gòu)吹出的第一路流體和副吹氣機(jī)構(gòu)吹出的第二路流體為對向流動，設(shè)置于主吹氣機(jī)構(gòu)和副吹氣機(jī)構(gòu)之間的抽氣機(jī)構(gòu)用于吸收第一路流體和第二路流體，同時，副吹氣機(jī)構(gòu)無間隙地緊鄰于抽氣機(jī)構(gòu)，在主吹氣機(jī)構(gòu)和抽氣機(jī)構(gòu)之間設(shè)有用于集塵的密閉罩板，設(shè)置第二路流體的壓力小于第一路流體。通過以上結(jié)構(gòu)設(shè)置，當(dāng)除塵裝置安置于太陽能電池板芯片上方時，第一路流體自主吹氣機(jī)構(gòu)流出并在密閉罩板和太陽能電池板芯片之間流動，此過程將芯片上的塵埃的雜質(zhì)吹氣并帶動流向抽氣機(jī)構(gòu)，由于第一路流體的壓力大于第二路流體的壓力，因此當(dāng)?shù)谝宦妨黧w遠(yuǎn)離主吹氣口并流動至副吹氣口附近時，對向流動的第一路流體和第二路流體方達(dá)到了壓力的均衡，此接近副吹氣機(jī)構(gòu)的壓力均衡位置恰處于抽氣機(jī)構(gòu)的設(shè)置位置，持續(xù)被排出流動的第一路流體和第二路流體不斷地在抽氣口位置對向匯集，在此形成湍流，由于密閉罩板和太陽能電池板芯片的存在，匯集的流體將向抽氣機(jī)構(gòu)流動，同時流體中被裹挾的塵埃雜質(zhì)一并被抽氣機(jī)構(gòu)吸收。
[0014]現(xiàn)有技術(shù)中的除塵裝置中，由吹氣機(jī)構(gòu)吹出流體，流體裹挾著太陽能電池板芯片表明上的塵埃雜質(zhì)流向抽氣機(jī)構(gòu)，而持續(xù)不斷流動的流體和塵埃雜質(zhì)在抽氣機(jī)構(gòu)位置被大部分地吸收抽走，但因流體和塵埃雜質(zhì)的流動慣性的存在，一部分將流過抽氣機(jī)構(gòu)而散落至他處，這便降低了清潔效率，需要進(jìn)而再次清理，收集回收準(zhǔn)確性低。對比于現(xiàn)有技術(shù)，本實用新型的應(yīng)用將明顯提高對太陽能電池板芯片的表面清潔的效率和收集回收準(zhǔn)確性。
【附圖說明】
[0015]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0016]圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖2為本實用新型中主吹氣機(jī)構(gòu)及整流蓋板第一結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖3為本實用新型中主吹氣機(jī)構(gòu)及整流蓋板第二結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖1至圖3中:主吹氣機(jī)構(gòu)一1、整流蓋板一2、通孔一21、密閉罩板一3、抽氣機(jī)構(gòu)一
4、副吹氣機(jī)構(gòu)一 5、芯片一 6。
【具體實施方式】
[0020]本實用新型的核心是提供一種除塵裝置，通過本實用新型的應(yīng)用將明顯提高對太陽能電池板芯片表面的除塵清潔效率和收集回收準(zhǔn)確性。
[0021 ] 下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。
[0022]請參考圖1至圖3，以下各個具體實施例將分別依圖1至圖3