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散氣裝置及水處理裝置及其運轉方法

文檔序號:9558980閱讀:384來源:國知局
散氣裝置及水處理裝置及其運轉方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及散氣裝置、具有散氣裝置的水處理裝置及其運轉方法。
【背景技術】
[0002]—般在膜分離活性污泥法(MBR)中,將具有形成有散氣孔的散氣管的散氣裝置,配置在具有膜組件單元的水處理裝置(例如活性污泥處理裝置、膜清洗裝置、膜分離裝置和排水處理裝置等)的水槽內,抑制膜組件單元的膜堵塞。即,將散氣裝置配置在膜組件單元的下方,使空氣等散氣用氣體從該散氣裝置噴出到水槽內,對被處理水進行曝氣,并利用該散氣用氣體的氣泡上升而使附著在膜組件單元的膜單體上的污泥等剝離,由此進行膜的物理清洗而抑制膜堵塞。
[0003]對于使空氣從散氣裝置噴出的散氣管的散氣孔,已知有專利文獻1?專利文獻4所公開的方式。
[0004]專利文獻1:日本特開2010-119976號公報
[0005]專利文獻2:日本特開2001-170677號公報
[0006]專利文獻3:日本特開平9-225272號公報
[0007]專利文獻4:日本特開2002-177745號公報
[0008]然而,對于所述散氣管的散氣孔,由于此處容易堵塞污泥等,因此,優(yōu)選的是將孔徑做大以使其難以產生堵塞。另外,散氣孔的孔徑越大,越容易產生(噴出)大的氣泡,對膜單體的清洗效果(清洗力)就高。另外,當將散氣孔的間隔形成得窄時,由于可均勻地對膜單體整體進行清洗,因此,希望將散氣孔的間隔形成得窄,消除散氣孔與散氣孔之間不產生氣泡流的空間。
[0009]但是,在將散氣孔的孔徑做大并將散氣孔的間隔做窄的情況下,在散氣孔間由于影響壓損差,因此,若不將許多空氣進行送風,則不能從全部的散氣孔均勻產生氣泡。在全部的散氣孔不會均勻地產生氣泡的情況下,膜單體整體難以得到均勻清洗,污泥等容易堆積在膜單體上而產生膜堵塞。
[0010]要將散氣孔做大并將散氣孔的間隔做窄,均勻產生氣泡,則必須如前所述那樣增加送風量,但是,由于能量使用量增多,因此,MBR的運轉成本增大。也可考慮這樣的技術,以上述條件為基礎進行間歇送風,由此減少散氣的能量使用量,但在該情況下,在散氣停止時,不能充分清洗膜。
[0011]為了解決上述那種問題,而考慮這樣的技術:通常以較少的送風量進行散氣,并且,在必要時或定期地比通常多地進行送風,由此可清洗通常未被清洗的部分。但是,專利文獻1?4的散氣裝置是按進行一定量的送風、間歇送風的設想而設計的,即使在必要時或定期地比通常多地進行送風,也不能期盼清洗范圍的擴大和其所帶來的清洗效果的增大。
[0012]S卩,專利文獻1的散氣孔配置成僅向上,專利文獻2的散氣孔配置成僅向下,專利文獻3的散氣孔配置成僅橫向,因此,即使相對于通常而在必要時或定期時增加散氣量,也只是從相同的散氣孔增加散氣量,不能期盼散氣范圍的擴大和其所帶來的清洗效果的增大。
[0013]另外,由于專利文獻2、專利文獻3中散氣孔的孔徑大,因此,雖然產生大的氣泡,但也始終需要許多的空氣量以進行均勻散氣,能量使用量變多。另外,即使增加散氣量,也不能在散氣孔間產生新的氣泡流。
[0014]另外,在如專利文獻4那樣散氣管整體具有小徑的散氣孔的情況下,雖然散氣范圍比專利文獻1?專利文獻3更有利,但由于散氣的氣泡變小,因此,清洗效果低,散氣孔也容易堵塞。

【發(fā)明內容】

[0015]發(fā)明所要解決的課題
[0016]本發(fā)明是鑒于上述問題而做成的,其目的在于,提供一種散氣裝置及水處理裝置及其運轉方法,通過防止散氣孔堵塞,并增加送風量,能夠擴大對于膜單體的清洗范圍,提高清洗效果。
[0017]用于解決課題的手段
[0018]本發(fā)明具有如下方式。
[0019][1] 一種散氣裝置,包括:主管,該主管被從氣體供給裝置供給氣體;以及支管,該支管與所述主管連接,所述支管的一端與所述主管連接,并且在所述支管的上側沿該支管的長度方向形成有多個第1散氣孔,在所述支管的下側具有形成有第2散氣孔的管狀體。
[0020][2]如上述[1]所述的散氣裝置,其中,所述第1散氣孔形成為向上,所述第2散氣孔形成為向下。
[0021][3]如上述[1]、[2]所述的散氣裝置,其中,所述管狀體的第2散氣孔配置在相鄰配置的所述第1散氣孔之間。
[0022][4]如上述[1]?[3]中任一項所述的散氣裝置,其中,所述支管的另一端側具有開放口。
[0023][5]如上述[4]所述的散氣裝置,其中,所述開放口配置在所述第2散氣孔的下部開口的下方。
[0024][6]如上述[4]或[5]所述的散氣裝置,其中,所述第2散氣孔的開口面積相對于所述開放口的開口面積為1/6?1/2。
[0025][7]如上述[1]?[6]中任一項所述的散氣裝置,其中,所述管狀體的數(shù)量是2根以上、10根以下。
[0026][8] 一種水處理裝置,具有:水槽;配置在所述水槽內的膜組件單元;配置在所述膜組件單元的下方的所述[1]?[7]中任一項所述的散氣裝置;以及將氣體供給到所述散氣裝置的氣體供給裝置。
[0027][9]如上述[8]所述的水處理裝置,其中,所述水處理裝置具有氣體供給控制構件,該氣體供給控制構件將從所述氣體供給裝置供給到所述散氣裝置的氣體的供給量切換成第1規(guī)定量或第2規(guī)定量,所述第1規(guī)定量是從所述第1散氣孔產生氣泡而不會從所述第2散氣孔產生氣泡的量;所述第2規(guī)定量是從所述第1散氣孔產生氣泡并且也使所述第2散氣孔產生氣泡的量。
[0028][10] 一種水處理裝置的運轉方法,是上述[8]或[9]所述的水處理裝置的運轉方法,將從所述氣體供給裝置供給到所述散氣裝置的氣體的供給量切換成第1規(guī)定量或第2規(guī)定量,所述第1規(guī)定量是從所述第1散氣孔產生氣泡而不會從所述第2散氣孔產生氣泡的量;所述第2規(guī)定量是從所述第1散氣孔產生氣泡并且也使所述第2散氣孔產生氣泡的量。
[0029]發(fā)明的效果
[0030]根據(jù)本發(fā)明的散氣裝置,由于在支管的上側沿該支管的長度方向形成多個第1散氣孔,且在下側具有形成有第2散氣孔的管狀體,因此,例如通過將第1散氣孔和第2散氣孔的空間做大,可防止這些散氣孔產生堵塞。另外,能夠僅在將送風量增多到規(guī)定量以上時從第2散氣孔產生氣泡,因此,在必要時或在定期時進行比通常多的送風,由此,也可清洗通常未被清洗的部分。于是,能夠通過增加送風量而擴大對于膜單體的清洗范圍,能夠提高清洗效果。此外,通過僅在必要時或在定期時提升送風量來擴大清洗范圍地進行運轉,不必始終提升送風量,因此可在通常進行節(jié)能運轉。
[0031]根據(jù)本發(fā)明的水處理裝置及其運轉方法,防止散氣孔的堵塞,進一步利用清洗效果提高后的所述散氣裝置來良好地清洗膜組件單元,由此,能夠穩(wěn)定而高效地進行運轉。
【附圖說明】
[0032]圖1是本發(fā)明的散氣裝置的第1實施方式的俯視圖。
[0033]圖2是圖1所示的散氣裝置的側視圖。
[0034]圖3是圖1所示的散氣裝置的主視圖。
[0035]圖4是表示支管的立體圖。
[0036]圖5是膜組件單元的側視圖。
[0037]圖6是膜組件單元的主視圖。
[0038]圖7是示意地表示本發(fā)明的水處理裝置的一實施方式的概略結構的示圖。
[0039]圖8是表示本發(fā)明的散氣裝置的第2實施方式的概略結構的主視圖。
[0040]符號說明
[0041]1…散氣裝置,2…主管,3…支管,8…第1散氣孔,9…管狀體,10…第2散氣孔,20…膜組件單元,21...膜組件,30...水處理裝置,31...被處理水,32...水槽,40…空氣供給裝置(氣體供給裝置),43…氣體供給控制構件,50...散氣裝置。
【具體實施方式】
[0042]下面,參照說明書附圖來詳細說明本發(fā)明。另外,在下面的附圖中,為了將各部件形成為可識別的大小,因此對各部
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