本實(shí)用新型涉及廢水處理裝置，特別涉及一種新型電芬頓反應(yīng)裝置。

背景技術(shù)：

芬頓法是處理各種難降解有機(jī)物應(yīng)用最多的一種高級(jí)氧化技術(shù)，其可有效處理酚類、農(nóng)藥、印染、焦化及垃圾滲濾液等難降解廢水，但是藥劑成本較高。電芬頓法是近年來在芬頓基礎(chǔ)上發(fā)展的新技術(shù)，其實(shí)質(zhì)是用電化學(xué)法產(chǎn)生Fe²⁺或H₂O₂，或者同時(shí)產(chǎn)生組成Fenton試劑的這兩種物質(zhì)氧化分解有機(jī)物的方法，依靠電化學(xué)氧化法不僅可以深度處理廢水而且可以節(jié)省藥劑用量。但傳統(tǒng)電芬頓裝置如圖1所示，電極與攪拌轉(zhuǎn)子上下放置，為了避免電極觸碰到轉(zhuǎn)子，電極與反應(yīng)槽底部要留出一定的空間，相對(duì)地減小了電極與液體接觸面積和不便于操作維護(hù)；處理設(shè)備電極間距不能準(zhǔn)確靈活的控制，往往通過使用不同體積的反應(yīng)槽體來改變電極間的距離而導(dǎo)致處理水量發(fā)生變化。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種新型電芬頓反應(yīng)裝置，解決傳統(tǒng)電芬頓裝置極板間距不能準(zhǔn)確靈活的控制而使用不同體積的反應(yīng)槽體來改變電極間的距離而導(dǎo)致處理水量發(fā)生變化的問題。解決傳統(tǒng)電極與反應(yīng)槽底部留出一定的空間，相對(duì)地減小了電極與液體接觸面積和不便于操作維護(hù)的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種新型電芬頓反應(yīng)裝置，包括穩(wěn)壓電源，電極，反應(yīng)槽，攪拌轉(zhuǎn)子，磁力攪拌器；所述反應(yīng)槽放置于磁力攪拌器上方，反應(yīng)槽內(nèi)平行設(shè)有兩個(gè)可移動(dòng)的電極固定槽，連接穩(wěn)壓電源的兩電極分別置于兩電極固定槽內(nèi)，反應(yīng)槽為長方體，其兩側(cè)邊上沿上設(shè)有滑移軌道，兩個(gè)電極固定槽沿滑移軌道滑動(dòng)，電極固定槽內(nèi)的電極底邊與反應(yīng)槽底面接觸，攪拌轉(zhuǎn)子放置于兩電極之間或兩電極外側(cè)。

所述的反應(yīng)槽一側(cè)面槽口外沿上設(shè)有刻度。

所述的滑移軌道上設(shè)有供電極固定槽滑動(dòng)的滑槽。

所述的電極固定槽兩側(cè)設(shè)有與滑移軌道上滑槽相配合的滑塊。

與現(xiàn)有的技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

本實(shí)用新型電芬頓裝置電極與攪拌轉(zhuǎn)子互不影響，當(dāng)極板間距很小時(shí)也可以進(jìn)行攪拌，同時(shí)因?yàn)殡姌O與攪拌轉(zhuǎn)子的相對(duì)位置由上下改為左右相對(duì)的，可以增大極板與液體的接觸面積同時(shí)便于對(duì)設(shè)備的操作和維護(hù)保養(yǎng)；極板間距可以通過電極固定槽自由的調(diào)節(jié)，不會(huì)因使用不同體積的反應(yīng)槽體來改變電極間的距離而導(dǎo)致處理水量發(fā)生變化；極板間的間距可以直接從反應(yīng)槽口上讀出,便于準(zhǔn)確靈活的控制極板間距；具有良好的應(yīng)用前景。

附圖說明

圖1為傳統(tǒng)電芬頓裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為反應(yīng)槽的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4為電極固定槽的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：穩(wěn)壓電源1、電極2、原反應(yīng)槽3、反應(yīng)槽4、攪拌轉(zhuǎn)子5、磁力攪拌器 6、電極固定槽7、滑移軌道8、刻度9、滑槽10、滑塊11、導(dǎo)線12。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式進(jìn)一步說明：

如圖2-圖4，一種新型電芬頓反應(yīng)裝置，包括穩(wěn)壓電源1，電極2，反應(yīng)槽4，攪拌轉(zhuǎn)子5，磁力攪拌器6；反應(yīng)槽4放置于磁力攪拌器6上方，反應(yīng)槽4內(nèi)平行設(shè)有兩個(gè)可移動(dòng)的電極固定槽7，兩電極2分別置于兩電極固定槽7內(nèi)，兩電極2通過導(dǎo)線12與穩(wěn)壓電源1的兩極相連，通過穩(wěn)壓電源1來控制極板間的電壓。

反應(yīng)槽7為長方體，其兩側(cè)邊上沿上設(shè)有滑移軌道8，兩個(gè)電極固定槽7沿滑移軌道8滑動(dòng)，電極固定槽7內(nèi)的電極底邊與反應(yīng)槽4底面接觸，攪拌轉(zhuǎn)子5放置于兩電極之間或兩電極外側(cè)。

反應(yīng)槽4一側(cè)面槽口外沿上設(shè)有刻度9。根據(jù)所需要的距離在反應(yīng)前設(shè)定兩極板之間的距離，同時(shí)也便于在反應(yīng)時(shí)進(jìn)行監(jiān)察和調(diào)節(jié)極板間的距離。

如圖3，滑移軌道8設(shè)置在反應(yīng)槽4內(nèi)沿上，滑移軌道8上設(shè)有供電極固定槽7滑動(dòng)的滑槽10。

如圖4，電極固定槽7為框式結(jié)構(gòu)，具體形狀可以根據(jù)實(shí)際需要來進(jìn)行調(diào)整，以便不影響液體的攪拌和液體跟電極的接觸。電極固定槽兩側(cè)設(shè)有與滑移軌道上滑槽相配合的滑塊11。

本裝置可根據(jù)電極固定槽7位置調(diào)整攪拌轉(zhuǎn)子位置，互不干涉，可以增大極板與液體的接觸面積同時(shí)便于操作和維護(hù),極板間距可以自由地調(diào)節(jié),極板間的間距可以直接從反應(yīng)槽上讀出,而且不會(huì)因?yàn)闃O板間距的變化而改變處理水量的體積。

上面所述僅是本實(shí)用新型的基本原理，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何限制，凡是依據(jù)本實(shí)用新型對(duì)其進(jìn)行等同變化和修飾，均在本專利技術(shù)保護(hù)方案的范疇之內(nèi)。