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一種零污泥排放的印染廢水處理工藝的制作方法

文檔序號(hào):4824459閱讀:347來源:國(guó)知局
專利名稱:一種零污泥排放的印染廢水處理工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及難生物降解的工業(yè)廢水處理領(lǐng)域,具體涉及一種零污泥排放的印染廢水處理工藝。
背景技術(shù)
印染廢水中污染物主要是染料和表面活性劑,處理時(shí)常加入鐵鹽脫色,利用生化池處理后剩余污泥量大。如日排廢水7000m3的印染廠,就會(huì)日產(chǎn)含水率80%的污泥IOOm3。采用填埋污染的方式,會(huì)污染地下水,不能滿足環(huán)保的要求。采用深度脫水處理的方式,二次壓濾投資大、效率低;烘干時(shí)尾氣難以處理,并因水質(zhì)腐蝕性強(qiáng),造成設(shè)備使用壽命縮短。另外,即使干化后,因污染物自身的特殊性也不能隨意排棄到環(huán)境中,所以如何找到一個(gè)最理想、最徹底的污泥處理的方式,是目前急需解決的問題。另外印染廢水中的退漿廢水COD濃度高達(dá)20g/l以上,水量為總水量的1/10,而僅COD負(fù)荷就占到了總負(fù)荷的1/2。其中退漿廢水中主要污染物為PVA、羧甲基纖維素和表面活性劑及布面花毛,水質(zhì)單一,可降解性差,較高的硫酸根含量(3-5g/l)及較高的含堿量(3-5g/l)使單獨(dú)厭氧處理時(shí)難以形成沉降性能良好地活性污泥,COD去除率較低。依賴單一的物化處理工藝,已經(jīng)成為印染廢水處理的瓶頸。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提出了一種零污泥排放的印染廢水處理工藝,本工藝可提高廢水中的COD去除率,達(dá)到剩余污泥的零排放,并且無有害氣體產(chǎn)生,更加環(huán)保、聞效。本發(fā)明的技術(shù)方案是通過如下步驟來實(shí)現(xiàn)的
a、向IC厭氧池中加入接種污泥后,將印染退漿廢水排入IC厭氧池,同時(shí)向IC厭氧池加入工業(yè)葡萄糖,加入量為原水濃度的1%_3%,接種污泥中的水解酸化菌、甲烷菌使退漿廢水中的大部分溶解性污染物發(fā)生水解及甲烷化反應(yīng),生成甲烷和二氧化碳;
b、印染退漿廢水之外的原水排入好氧池,好氧池回流硝化液至缺氧池;
c、IC厭氧池出水與好氧池排出的好氧硝化液共同排入間歇缺氧池,缺氧池中的上清液排入好氧池,缺氧池中的剩余污泥排入CSTR厭氧消化池,CSTR厭氧消化池中的上清液回排到間歇缺氧池,CSTR厭氧消化池中剩余污泥排入壓濾機(jī)脫水;
d、好氧池中的水COD達(dá)到500mg/l以下,外排;污泥經(jīng)帶式壓濾機(jī)處理至含水率80%-90%,將處理后污泥通過柱塞泵泵入沸騰爐頂部,爐內(nèi)溫度控制在950-1050°C,污泥由沸騰爐頂部落下,完成污泥焚燒,成為灰分。其中IC厭氧池里面的水溫控制在35_38°C,厭氧水力停留時(shí)間為4_4· 5天,上升流速為6-8 m/h, CSTR厭氧消化池采用上流式脈沖布水,水力停留15-17天,上升流速3m/h,好氧池采用的活性污泥法,水力停留時(shí)間I. 5-2天,曝氣氣水比為25-30:1,污泥濃度為5000-5500mg/l,間歇缺氧池中水力停留時(shí)間為2-2. 5天,采用曝氣方式為微孔曝氣。
另外陶瓷柱塞泵經(jīng)陶瓷襯層處理,耐腐蝕性和耐磨性優(yōu)于一般金屬泵;并可通過線性調(diào)整進(jìn)油量,實(shí)現(xiàn)泥量處理的調(diào)整。本發(fā)明所屬技術(shù)方案有以下有益效果本工藝可實(shí)現(xiàn)廢水處理剩余污泥的零排放,避免剩余污泥排放到環(huán)境中對(duì)環(huán)境造成污染;利用IC厭氧池、間歇缺氧池、好氧池和CSTR厭氧消化池的生化回流處理設(shè)計(jì),提高了廢水中的COD去除率,避免帶入污泥后焚燒產(chǎn)生有害氣體;該工藝可操作性強(qiáng),一次性投資低,處理效果明顯,具有較高的經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。


附圖I為本發(fā)明所述一種零污泥排放的印染廢水處理工藝的工藝流程示意圖,其中圖中I為退漿廢水,2為IC厭氧池,3為間歇缺氧池,4為好氧池,5為CSTR厭氧消化池,6為壓濾機(jī),7為退衆(zhòng)廢水之外的廢水,8為沸騰爐。
具體實(shí)施例方式為了使本發(fā)明的技術(shù)方案更加清楚明白,下面結(jié)合附圖用實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。實(shí)施例
a、向IC厭氧池2中加入接種污泥后,將印染退漿廢水I排入IC厭氧池2,同時(shí)向IC厭氧池2加入工業(yè)葡萄糖,加入量為原水濃度的2%,接種污泥中的水解酸化菌、甲烷菌使退漿廢水中大部分(70%_85%)溶解性污染物發(fā)生水解及甲烷化反應(yīng),生成甲烷和二氧化碳;
b、印染退漿廢水之外的廢水7排入好氧池4,好氧池4回流硝化液至缺氧池3;
c、IC厭氧池2出水與好氧池4排出的好氧硝化液共同排入間歇缺氧池3,缺氧池3中的上清液排入好氧池4,缺氧池3中的剩余污泥排入CSTR厭氧消化池5,CSTR厭氧消化池5中的上清液回排到間歇缺氧池3,CSTR厭氧消化池5中剩余污泥排入壓濾機(jī)6脫水;
d、好氧池4中的水COD達(dá)到500mg/l以下,外排;污泥經(jīng)帶式壓濾機(jī)6處理至含水率85%,將處理后污泥通過柱塞泵泵入沸騰爐8頂部,爐內(nèi)溫度控制在1000°C,污泥由沸騰爐8頂部落下,完成污泥焚燒,成為灰分。其中IC厭氧池2里面的水溫控制在35_38°C,厭氧水力停留時(shí)間為5天,上升流速為8 m/h, CSTR厭氧消化池5采用上流式脈沖布水,水力停留20天,上升流速3m/h,好氧池4采用的活性污泥法,水力停留時(shí)間2天,曝氣氣水比為30:1,污泥濃度為5000mg/l,間歇缺氧池3中水力停留時(shí)間為2天,采用曝氣方式為微孔曝氣。另外柱塞泵經(jīng)陶瓷襯層處理。
權(quán)利要求
1.一種零污泥排放的印染廢水處理工藝,其特征在于工藝步驟為 a、向IC厭氧池中加入接種污泥后,將印染退漿廢水排入IC厭氧池,同時(shí)向IC厭氧池加入工業(yè)葡萄糖,加入量為原水濃度的1%_3%,接種污泥中的水解酸化菌、甲烷菌使退漿廢水中70%-80%的污染物發(fā)生水解及甲烷化反應(yīng),生成甲烷和二氧化碳; b、印染退漿廢水之外的原水排入好氧池,好氧池排放回流硝化液至缺氧池; c、IC厭氧池出水與好氧池排放回流硝化液共同排入間歇缺氧池,缺氧池中的上清液排入好氧池,缺氧池中的剩余污泥排入CSTR厭氧消化池,CSTR厭氧消化池中的上清液回排到間歇缺氧池,CSTR厭氧消化池中剩余污泥排入壓濾機(jī)脫水; d、好氧池中的水COD達(dá)到500mg/l以下,外排;污泥經(jīng)帶式壓濾機(jī)處理至含水率80%-90%,將處理后污泥通過柱塞泵泵入沸騰爐頂部,保持流動(dòng)性,爐內(nèi)溫度控制在950-1050°C,污泥由沸騰爐頂部落下,完成污泥焚燒,成為灰分。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種零污泥排放的印染廢水處理工藝,其特征在于IC厭氧池里面的水溫控制在35-38°C,厭氧水力停留時(shí)間為4-4. 5天,上升流速為6-8 m/h,CSTR厭氧消化池采用上流式脈沖布水,水力停留15-17天,上升流速3m/h,好氧池采用的活性污泥法,水力停留時(shí)間15. -2天,曝氣氣水比為25-30:1,污泥濃度為5000-5500mg/l,間歇缺氧池中水力停留時(shí)間為2-2. 5天,采用曝氣方式為微孔曝氣。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種零污泥排放的印染廢水處理工藝,其特征在于柱塞泵中加陶瓷襯層。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種零污泥排放的印染廢水處理工藝,該工藝是將退漿廢水經(jīng)IC厭氧池處理后出水和好氧硝化液共同進(jìn)入間歇缺氧池,使缺氧池中同時(shí)發(fā)生反硝化、硫氧化、污泥吸附增殖和污泥濃宿,回收好氧硝化液中的硝態(tài)氧、降低進(jìn)入好氧池的硫離子濃度,使IC厭氧池出水中的懸浮顆粒得到吸附,澄清出水排入氧化池。好氧剩余污泥發(fā)揮吸附作用之后排入CSTR池消化減量,最終的剩余污泥經(jīng)過壓濾機(jī)處理后,通過柱塞泵泵入沸騰爐完成污泥焚燒。該工藝顯著提高了沉降污泥的沉降性能,提高了COD的去除率,實(shí)現(xiàn)了剩余污泥的零排放,并且無有害氣體產(chǎn)生,更加環(huán)保、高效,工藝可操作性強(qiáng),一次性投資低,處理效果明顯。
文檔編號(hào)C02F11/12GK102936084SQ20121049766
公開日2013年2月20日 申請(qǐng)日期2012年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月29日
發(fā)明者王力民, 羅維新, 孫國(guó)慶, 周新民, 李志海, 張炳營(yíng), 王希剛, 孫中然, 于濤, 趙奇生 申請(qǐng)人:華紡股份有限公司
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