本技術(shù)涉及真空爐，具體為一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、無落差暗流澆鑄是一種特殊的鑄造方法，也稱為無落差連續(xù)澆鑄。它是利用流體的慣性和重力，在鑄件充型過程中保持連續(xù)、平穩(wěn)、無間斷的流動狀態(tài)，以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的鑄造。

2、專利號202122229713.3提出了一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備，其中真空中頻熔煉爐的筒狀爐體內(nèi)放置石墨坩堝，石墨坩堝的上端設(shè)有坩堝上沿，坩堝上沿上開設(shè)豎直方向貫通的缺口形成流液通道，流液通道依次連接出鋁溜槽、真空擋板閥、旋轉(zhuǎn)溜槽和固定溜槽；鋁熔體澆注時(shí)，真空中頻熔煉爐爐體傾轉(zhuǎn)，石墨坩堝中的鋁熔體經(jīng)流液通道流出，再經(jīng)澆注組件直至結(jié)晶器完成無落差落鑄，避免熔體落差及擾動等造成氣渣卷入，最終實(shí)現(xiàn)低氣低渣的高品質(zhì)高純鋁產(chǎn)品制備。

3、不過上述設(shè)備在使用過程中發(fā)現(xiàn)，其通過轉(zhuǎn)軸帶動爐體進(jìn)行傾轉(zhuǎn)，但是爐體的流液通道與轉(zhuǎn)軸處于同一水平面上，使得爐體在轉(zhuǎn)動時(shí)，流液通道始終保持水平狀態(tài)，因此在澆鑄過程中爐體內(nèi)的流液經(jīng)過流液通道的速度相對較慢，從而影響到后續(xù)的加工效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對上述問題，本實(shí)用新型提供了一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案。

3、一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備，包括基座，所述基座的頂部一側(cè)設(shè)置有澆鑄器的一側(cè)，所述澆鑄器上設(shè)置有進(jìn)液管，所述基座的頂部中間設(shè)置有滑槽，所述基座內(nèi)部設(shè)置有驅(qū)動電機(jī)，所述驅(qū)動電機(jī)的輸出端與螺紋桿相連接，所述螺紋桿穿過滑塊，所述滑塊設(shè)置在滑槽中，所述基座的頂部設(shè)置有調(diào)節(jié)座，所述調(diào)節(jié)座設(shè)置在進(jìn)液管的一側(cè)。

4、更進(jìn)一步的：所述調(diào)節(jié)座的頂部左右兩側(cè)均設(shè)置有連接板，所述連接板的內(nèi)部設(shè)置有爐體，所述爐體的左右兩側(cè)均設(shè)置有轉(zhuǎn)軸，所述爐體靠近進(jìn)液管一側(cè)的轉(zhuǎn)軸中間設(shè)置有連接管，所述爐體遠(yuǎn)離進(jìn)液管一側(cè)的轉(zhuǎn)軸與連接板的一側(cè)相連接。

5、更進(jìn)一步的：所述滑塊上轉(zhuǎn)動連接有連桿的一端，所述連桿的另一端與連接臂相連接，所述連接臂設(shè)置在調(diào)節(jié)座的底部中間。

6、更進(jìn)一步的：所述連接管穿過靠近進(jìn)液管一側(cè)的連接板，所述連接管與進(jìn)液管相連接，所述連接管呈直角狀彎曲。

7、更進(jìn)一步的：所述爐體的內(nèi)部設(shè)置有坩堝，所述坩堝的內(nèi)壁上方設(shè)置有流液槽。

8、更進(jìn)一步的：所述流液槽與連接管相連接，所述連接管上設(shè)置有真空閥門。

9、根據(jù)上述方案，

10、相比于現(xiàn)有技術(shù)的有益效果如下：

11、本方案在爐體內(nèi)物料熔煉完成后通過調(diào)節(jié)座內(nèi)的轉(zhuǎn)動組件帶動轉(zhuǎn)軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而能夠調(diào)整爐體傾斜的角度，從而使得爐體內(nèi)的流液能夠流入到流液槽中，流液槽與爐體外側(cè)的連接管相連接，通過基座內(nèi)部的驅(qū)動電機(jī)帶動螺紋桿轉(zhuǎn)動使得螺紋桿上的滑塊帶動連桿的一端沿著滑槽向驅(qū)動電機(jī)方向移動，從而使得連桿帶動調(diào)節(jié)座圍繞進(jìn)液管進(jìn)行轉(zhuǎn)動，使得連接管的角度發(fā)生變化，連接管的流液能快速流入到進(jìn)液管中，提高工作效率。

技術(shù)特征：

1.一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備，包括基座（1），其特征在于：所述基座（1）的頂部一側(cè)設(shè)置有澆鑄器（2）的一側(cè)，所述澆鑄器（2）上設(shè)置有進(jìn)液管（3），所述基座（1）的頂部中間設(shè)置有滑槽（11），所述基座（1）內(nèi)部設(shè)置有驅(qū)動電機(jī)（12），所述驅(qū)動電機(jī)（12）的輸出端與螺紋桿（13）相連接，所述螺紋桿（13）穿過滑塊（14），所述滑塊（14）設(shè)置在滑槽（11）中，所述基座（1）的頂部設(shè)置有調(diào)節(jié)座（6），所述調(diào)節(jié)座（6）設(shè)置在進(jìn)液管（3）的一側(cè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備，其特征在于：所述調(diào)節(jié)座（6）的頂部左右兩側(cè)均設(shè)置有連接板（61），所述連接板（61）的內(nèi)部設(shè)置有爐體（5），所述爐體（5）的左右兩側(cè)均設(shè)置有轉(zhuǎn)軸（62），所述爐體（5）靠近進(jìn)液管（3）一側(cè)的轉(zhuǎn)軸（62）中間設(shè)置有連接管（4），所述爐體（5）遠(yuǎn)離進(jìn)液管（3）一側(cè)的轉(zhuǎn)軸（62）與連接板（61）的一側(cè)相連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備，其特征在于：所述滑塊（14）上轉(zhuǎn)動連接有連桿（7）的一端，所述連桿（7）的另一端與連接臂（63）相連接，所述連接臂（63）設(shè)置在調(diào)節(jié)座（6）的底部中間。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備，其特征在于：所述連接管（4）穿過靠近進(jìn)液管（3）一側(cè)的連接板（61），所述連接管（4）與進(jìn)液管（3）相連接，所述連接管（4）呈直角狀彎曲。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備，其特征在于：所述爐體（5）的內(nèi)部設(shè)置有坩堝（52），所述坩堝（52）的內(nèi)壁上方設(shè)置有流液槽（51）。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備，其特征在于：所述流液槽（51）與連接管（4）相連接，所述連接管（4）上設(shè)置有真空閥門（8）。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)是一種真空爐用無落差暗流澆鑄的設(shè)備，涉及真空爐技術(shù)領(lǐng)域，主要包括爐體，爐體設(shè)置在調(diào)節(jié)座上方中間，爐體兩側(cè)均設(shè)置有轉(zhuǎn)軸連接調(diào)節(jié)座上的連接板，爐體一側(cè)的轉(zhuǎn)軸中間設(shè)置有連接管的一端，連接管的另一端連接在澆鑄器一側(cè)的進(jìn)液管上，在爐體內(nèi)物料熔煉完成后通過調(diào)節(jié)座內(nèi)的轉(zhuǎn)動組件帶動轉(zhuǎn)軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，從而能夠調(diào)整爐體的角度，從而使得爐體內(nèi)的流液能夠流入到流液槽中，流液槽與爐體外側(cè)的連接管相連接，通過基座內(nèi)部的驅(qū)動電機(jī)帶動螺紋桿轉(zhuǎn)動使得螺紋桿上的滑塊帶動連桿的一端沿著滑槽向驅(qū)動電機(jī)方向移動，從而使得連桿帶動調(diào)節(jié)座圍繞進(jìn)液管進(jìn)行轉(zhuǎn)動，使得連接管的角度發(fā)生變化，連接管的流液能快速流入到進(jìn)液管中，提高工作效率。

技術(shù)研發(fā)人員：周英龍,尹立紅
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南京暢鴻新材料有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240522
技術(shù)公布日：2024/12/30