本實用新型屬于窯具技術領域，具體涉及一種高溫推板窯用的高循環(huán)使用次數(shù)的推板。

背景技術：

推板窯是一種化工材料制備領域中常用的連續(xù)式加熱焙燒設備，主要用于陶瓷、化工材料、電子元器件、耐火材料等產(chǎn)品的燒結。國內(nèi)生產(chǎn)電子材料的窯爐主要是高溫推板窯爐，燒成對推板的抗熱震性技術要求很高，目前經(jīng)常使用的為平面推板，受熱傳導速度慢，受熱不均勻，燒成時間長，影響制品燒成質(zhì)量。

中國專利申請2004200232388公開的“抗急冷急熱的窯具”，其在棚板的中間設置中心孔，中心孔上方設置有襯板，沿中心孔外延埋設若干道不銹鋼絲環(huán)，中心孔的面積占整個窯具面積的25～40％。這種結構的推板孔占據(jù)了較大的容積，雖有利于受熱傳導均勻，但影響了推板強度，減少了推板的使用次數(shù)，另外沿中心孔外延埋設的若干道不銹鋼絲環(huán)不能適用在高溫培燒環(huán)境中。

中國專利申請201410809560.1公開的“高溫推板窯爐用高壽命推板”，推板本體的中心區(qū)域上設有若干個凸臺，凸臺上帶有沉孔。該推板結構較為復雜，且使用次數(shù)提高有限。

技術實現(xiàn)要素：

為解決現(xiàn)有技術的不足，本實用新型提供了一種高溫推板窯用的高循環(huán)使用次數(shù)的推板。

一種高溫推板窯用的高循環(huán)使用次數(shù)的推板，包括長方體形的本體，所述本體設置有推進面，所述推進面的兩側分別設置有左側切面和右側切面。

進一步的，所述左側切面垂直于所述本體的底面。

更進一步的，所述左側切面與所述推進面所成的銳角的Tan值為0.05～0.1。

進一步的，所述右側切面垂直于所述本體的底面。

更進一步的，所述右側切面與所述推進面所成的銳角的Tan值為0.05～0.1。

優(yōu)選的，所述左側切面與所述左側切面的長度相等。

具體的，所述推進面的長度為260mm；所述左側切面在所述推進面上的投影的長度為40mm；所述右側切面在所述推進面上的投影的長度為40mm。

具體的，所述本體的底面為長方形或正方形。即為，在設置左側切面和右側切面之前，整個本體的底面可為完整的長方形或正方形。

本實用新型所提供的高溫推板窯用的高循環(huán)使用次數(shù)的推板，可以顯著降低推進過程中推進面兩側的受力，銳減推進面兩側角的損耗，數(shù)倍的提高使用次數(shù)，提升抗熱震性，提升重復使用次數(shù)和使用壽命。

附圖說明

圖1是本實用新型所提供的高溫推板窯用的高循環(huán)使用次數(shù)的推板的整體結構俯視圖。

圖2是本實用新型所提供的高溫推板窯用的高循環(huán)使用次數(shù)的推板的整體結構主視圖。

圖3是本實用新型所提供的高溫推板窯用的高循環(huán)使用次數(shù)的推板的整體結構側視圖。

附圖1、2、3中，各標號所代表的結構列表如下：

1、本體，101、推進面，2、左側切面，3、右側切面。

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型的原理和特征進行描述，所舉實施例只用于解釋本實用新型，并非用于限定本實用新型的范圍。

在一個具體實施方式中，如圖1、2、3所示，一種高溫推板窯用的高循環(huán)使用次數(shù)的推板，包括長方體形的本體1，本體1設置有推進面101，推進面101的兩側分別設置有左側切面2和右側切面3。

左側切面2垂直于本體1的底面，右側切面3也垂直于本體1的底面。左側切面2與推進面101所成的銳角的Tan值以及右側切面3與推進面101所成的銳角的Tan值均取0.1。在其他的實施方式中，可取0.05或0.75。

優(yōu)選尺寸如下：

推進面101的長度為260mm；

左側切面2在推進面101上的投影的長度為40mm，左側切面2在垂直于推進面101的側面上的投影的長度為4mm；

右側切面3在推進面101上的投影的長度為40mm。右側切面3在垂直于推進面101的側面上的投影的長度為4mm。

本體1在設置左側切面2和右側切面3之前，為完整的長方體形，底面為長方形或正方形。

本實用新型所提供的高溫推板窯用的高循環(huán)使用次數(shù)的推板，在高溫推板窯中具有良好的性能表現(xiàn)。在推進過程中，避免了兩側角的壓力破壞，顯著降低了前端邊角的損耗，并同時提高了推板的抗熱震性，整體上提高了推板的可重復使用次數(shù)。重復使用次數(shù)倍增，可以達到200次以上。

以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。