專利名稱：一種空氣調(diào)節(jié)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及超潔凈系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種應(yīng)用于半導(dǎo)體清洗設(shè)備內(nèi)部的空氣調(diào)節(jié)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體清洗設(shè)備對(duì)內(nèi)部環(huán)境的潔凈度要求極高，然而由于受設(shè)備自身和設(shè)備周?chē)h(huán)境影響，其內(nèi)部總是不可避免的存在顆粒、金屬雜質(zhì)等污染源。同時(shí)在設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中，各運(yùn)動(dòng)部件的運(yùn)動(dòng)不可避免的產(chǎn)生摩擦，在相對(duì)濕度較低的硅片加工環(huán)境中，摩擦很容易產(chǎn)生高級(jí)別的靜電荷，成為硅片表面的又一污染源。這些污染源能使硅片上的芯片電學(xué)失效，據(jù)統(tǒng)計(jì)80%的芯片報(bào)廢是由污染引起。根據(jù)潔凈區(qū)空氣潔凈度分級(jí)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)IS014644-1，一般半導(dǎo)體清洗設(shè)備內(nèi)部空氣潔凈度要達(dá)到ISO Class 4以上的粒子最大濃度限值要求。為保證腔室的潔凈度要求，現(xiàn)有技術(shù)通常采用風(fēng)機(jī)產(chǎn)生的垂直層流，來(lái)消除空氣中的浮塵、顆粒等，通過(guò)人工調(diào)整風(fēng)速來(lái)保持環(huán)境的高潔凈度。但是由于風(fēng)機(jī)出風(fēng)口仍會(huì)引入一定顆粒，并且當(dāng)風(fēng)速進(jìn)風(fēng)量和排風(fēng)量相差過(guò)大時(shí)，腔室內(nèi)的空氣會(huì)產(chǎn)生紊流，因此現(xiàn)有技術(shù)仍存在缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問(wèn)題本發(fā)明主要用于消除清洗機(jī)內(nèi)部環(huán)境中的上述各項(xiàng)污染源，使半導(dǎo)體清洗機(jī)內(nèi)部始終處于恒定壓力值的穩(wěn)定層流環(huán)境，有效防止和去除空氣中的顆粒和浮塵，方便地了解設(shè)備內(nèi)部潔凈度，并且有效消除設(shè)備內(nèi)部產(chǎn)生的靜電，從而大大降低了硅片受到致命缺陷污染的可能性，最終使芯片成品率增加，降低電子元器件的生產(chǎn)制造成本。(二)技術(shù)方案為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種空氣調(diào)節(jié)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，應(yīng)用于半導(dǎo)體清洗設(shè)備，該系統(tǒng)包括主框架；風(fēng)機(jī)機(jī)組，位于所述設(shè)備頂部，用于產(chǎn)生層流風(fēng)；風(fēng)機(jī)固定支架，用于固定所述風(fēng)機(jī)機(jī)組；均風(fēng)裝置，位于所述風(fēng)機(jī)機(jī)組風(fēng)向的下方，用于使風(fēng)以層流形式吹向所述設(shè)備的內(nèi)部；可調(diào)層流裝置，位于所述設(shè)備底部，用于保證所述設(shè)備內(nèi)部氣流穩(wěn)定；氣體壓力傳感器，位于所述設(shè)備內(nèi)部，用于檢測(cè)所述設(shè)備內(nèi)部的壓力；靜電阻抗器，固定于所述主框架上，用于消除所述設(shè)備內(nèi)部的靜電；靜電監(jiān)視器，安裝在所述主框架上，用于檢測(cè)所述設(shè)備內(nèi)部靜電消除的效果和所述靜電阻抗器的工作情況；空氣潔凈度測(cè)試裝置，安裝在所述設(shè)備內(nèi)部，用于對(duì)所述設(shè)備內(nèi)部的潔凈度進(jìn)行周期性檢測(cè)、判定潔凈度級(jí)別、同時(shí)反饋檢測(cè)數(shù)據(jù)。進(jìn)一步的，所述風(fēng)機(jī)機(jī)組內(nèi)部還設(shè)置有特效顆粒過(guò)濾器，用于過(guò)濾風(fēng)口的顆粒。進(jìn)一步的，所述風(fēng)機(jī)機(jī)組將氣流速度控制在在O. 01-0. 04m/s,所述風(fēng)機(jī)機(jī)組具有無(wú)級(jí)調(diào)速功能，根據(jù)所述氣體壓力傳感器的反饋實(shí)現(xiàn)自動(dòng)調(diào)節(jié)。進(jìn)一步的，所述均風(fēng)裝置將所述風(fēng)機(jī)機(jī)組100%覆蓋。進(jìn)一步的，所述氣體壓力傳感器檢測(cè)到所述設(shè)備內(nèi)瞬間的壓力變化后，將所述設(shè)備內(nèi)壓力改變值反饋給計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)，所述計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)高或降低風(fēng)速，保證所述設(shè)備內(nèi)部始終保持在預(yù)定的壓力范圍內(nèi)。進(jìn)一步的，當(dāng)所述設(shè)備內(nèi)部顆粒濃度超過(guò)預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，所述空氣潔凈度測(cè)試裝置報(bào)警，提醒工程師進(jìn)行維護(hù)。(三)有益效果本發(fā)明系統(tǒng)通過(guò)風(fēng)機(jī)機(jī)組、均風(fēng)裝置、可調(diào)層流裝置、氣體壓力傳感器能?chē)?yán)格保證設(shè)備內(nèi)部氣壓恒值穩(wěn)定的垂直層流，并且風(fēng)速能根據(jù)設(shè)備的內(nèi)環(huán)境進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)，使設(shè)備內(nèi)部達(dá)到最優(yōu)的除塵氣壓狀態(tài)。該系統(tǒng)的靜電阻抗器和靜電監(jiān)視器能有效消除設(shè)備內(nèi)部的帶電粒子。通過(guò)空氣潔凈度測(cè)試裝置監(jiān)控設(shè)備內(nèi)部潔凈度，從而保證了半導(dǎo)體清洗設(shè)備所需的潔凈度要求，能有效提高半導(dǎo)體產(chǎn)品的成品率。


圖1是本發(fā)明系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。附圖中的編碼分別為1-主框架，2-風(fēng)機(jī)機(jī)組，3-風(fēng)機(jī)固定支架，4-均風(fēng)裝置，5-可調(diào)層流裝置，6-氣體壓力傳感器，7-靜電阻抗器，8-靜電監(jiān)視器，9-空氣潔凈度測(cè)試裝置。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。圖1是本發(fā)明系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖，本發(fā)明提供了一種空氣調(diào)節(jié)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，應(yīng)用于半導(dǎo)體清洗設(shè)備，該系統(tǒng)包括1-主框架；2-風(fēng)機(jī)機(jī)組，位于所述設(shè)備頂部，用于產(chǎn)生層流風(fēng)；3-風(fēng)機(jī)固定支架，用于固定所述風(fēng)機(jī)機(jī)組；4-均風(fēng)裝置，位于所述風(fēng)機(jī)機(jī)組風(fēng)向的下方，用于使風(fēng)以層流形式吹向所述設(shè)備的內(nèi)部；5-可調(diào)層流裝置，位于所述設(shè)備底部，用于保證所述設(shè)備內(nèi)部氣流穩(wěn)定；6-氣體壓力傳感器，位于所述設(shè)備內(nèi)部，用于檢測(cè)所述設(shè)備內(nèi)部的壓力；7-靜電阻抗器，固定于所述主框架上，用于消除所述設(shè)備內(nèi)部的靜電；8-靜電監(jiān)視器，安裝在所述主框架上，用于檢測(cè)所述設(shè)備內(nèi)部靜電消除的效果和所述靜電阻抗器的工作情況；9-空氣潔凈度測(cè)試裝置，安裝在所述設(shè)備內(nèi)部，用于對(duì)所述設(shè)備內(nèi)部的潔凈度進(jìn)行周期性檢測(cè)、判定潔凈度級(jí)別、同時(shí)反饋檢測(cè)數(shù)據(jù)。進(jìn)一步的，所述風(fēng)機(jī)機(jī)組內(nèi)部還設(shè)置有特效顆粒過(guò)濾器，用于過(guò)濾風(fēng)口的顆粒。進(jìn)一步的，所述風(fēng)機(jī)機(jī)組將氣流速度控制在在O. 01-0. 04m/s,所述風(fēng)機(jī)機(jī)組具有無(wú)級(jí)調(diào)速功能，根據(jù)所述氣體壓力傳感器的反饋實(shí)現(xiàn)自動(dòng)調(diào)節(jié)。進(jìn)一步的，所述均風(fēng)裝置將所述風(fēng)機(jī)機(jī)組100%覆蓋。進(jìn)一步的，所述氣體壓力傳感器檢測(cè)到所述設(shè)備內(nèi)瞬間的壓力變化后，將所述設(shè)備內(nèi)壓力改變值反饋給計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)，所述計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)高或降低風(fēng)速，保證所述設(shè)備內(nèi)部始終保持在預(yù)定的壓力范圍內(nèi)。進(jìn)一步的，當(dāng)所述設(shè)備內(nèi)部顆粒濃度超過(guò)預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，所述空氣潔凈度測(cè)試裝置報(bào)警，提醒工程師進(jìn)行維護(hù)。半導(dǎo)體清洗設(shè)備對(duì)內(nèi)部潔凈度要求極高，現(xiàn)有技術(shù)通常采用風(fēng)機(jī)產(chǎn)生的垂直層流，來(lái)消除空氣中的浮塵、顆粒等，但是由于風(fēng)機(jī)出風(fēng)口仍會(huì)引入一定顆粒，所以本發(fā)明系統(tǒng)中所選風(fēng)機(jī)內(nèi)部設(shè)置有特效顆粒過(guò)濾器，為達(dá)到最佳的過(guò)濾效果，風(fēng)機(jī)速度要控制氣流速度在O. 01-0. 04m/s。風(fēng)機(jī)須具有無(wú)級(jí)調(diào)速功能，以根據(jù)氣壓傳感器的反饋實(shí)現(xiàn)自動(dòng)調(diào)節(jié)。因?yàn)閺娘L(fēng)機(jī)吹出的風(fēng)不具有層狀氣流，所以在風(fēng)機(jī)吹向下方，設(shè)備內(nèi)部天花板處設(shè)置有均風(fēng)裝置，這種均風(fēng)裝置要將風(fēng)機(jī)100%覆蓋，使風(fēng)以層流形式吹向設(shè)備內(nèi)部。當(dāng)風(fēng)速進(jìn)風(fēng)量和排風(fēng)量相差過(guò)大時(shí)，腔室內(nèi)的空氣會(huì)產(chǎn)生紊流，為解決這個(gè)問(wèn)題，所述系統(tǒng)采用可調(diào)排風(fēng)量的層流裝置，以保證設(shè)備內(nèi)部氣流穩(wěn)定，使設(shè)備內(nèi)部始終具有均勻垂直層狀氣流。此外通過(guò)聯(lián)合調(diào)節(jié)風(fēng)機(jī)進(jìn)風(fēng)量和層流裝置排風(fēng)量，可以使設(shè)備內(nèi)部達(dá)到最優(yōu)的氣壓狀態(tài)，使設(shè)備內(nèi)部氣壓大于設(shè)備所處環(huán)境氣壓，防止設(shè)備外部的污染顆粒通過(guò)設(shè)備縫隙進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部。一旦外部環(huán)境變化(如打開(kāi)設(shè)備門(mén)等)，都會(huì)在腔室內(nèi)形成新的氣流，改變其相對(duì)密閉的正壓狀態(tài)，引起室外污染物的潛入，通過(guò)氣體壓力傳感器可以靈敏檢測(cè)到設(shè)備內(nèi)瞬間的壓力變化，它將設(shè)備內(nèi)壓力改變值反饋給計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)，控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)高或降低風(fēng)速，以保證設(shè)備內(nèi)部始終保持在一定壓力范圍內(nèi)，達(dá)到最好的除塵效果。隨著器件關(guān)鍵尺寸的縮小，靜電釋放對(duì)小顆粒的吸引作用很強(qiáng)，能產(chǎn)生致命缺陷，所以設(shè)備內(nèi)部對(duì)靜電釋放必須控制。系統(tǒng)安裝在主框架上的靜電阻抗器可以有效防止靜電造成的芯片受損，降低報(bào)廢率，從而降低制造成本。同時(shí)設(shè)備內(nèi)部安裝有靜電監(jiān)視器，方便檢測(cè)腔室內(nèi)靜電消除的效果，檢測(cè)靜電阻抗器的工作情況。設(shè)備內(nèi)部安裝有空氣潔凈度檢測(cè)裝置，其能對(duì)設(shè)備內(nèi)部潔凈度周期性檢測(cè)，其可根據(jù)測(cè)試數(shù)值，自動(dòng)判定潔凈度級(jí)別，同時(shí)將檢測(cè)數(shù)值通過(guò)USB或RS485與計(jì)算機(jī)相連，反饋測(cè)試數(shù)據(jù)，當(dāng)設(shè)備內(nèi)部顆粒濃度超標(biāo)時(shí)，會(huì)實(shí)現(xiàn)報(bào)警，提醒工程師進(jìn)行內(nèi)部維護(hù)。以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和替換，這些改進(jìn)和替換也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種空氣調(diào)節(jié)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，應(yīng)用于半導(dǎo)體清洗設(shè)備，其特征在于，該系統(tǒng)包括主框架；風(fēng)機(jī)機(jī)組，位于所述設(shè)備頂部，用于產(chǎn)生層流風(fēng)；風(fēng)機(jī)固定支架，用于固定所述風(fēng)機(jī)機(jī)組；均風(fēng)裝置，位于所述風(fēng)機(jī)機(jī)組風(fēng)向的下方，用于使風(fēng)以層流形式吹向所述設(shè)備的內(nèi)部;可調(diào)層流裝置，位于所述設(shè)備底部，用于保證所述設(shè)備內(nèi)部氣流穩(wěn)定；氣體壓力傳感器，位于所述設(shè)備內(nèi)部，用于檢測(cè)所述設(shè)備內(nèi)部的壓力；靜電阻抗器，固定于所述主框架上，用于消除所述設(shè)備內(nèi)部的靜電；靜電監(jiān)視器，安裝在所述主框架上，用于檢測(cè)所述設(shè)備內(nèi)部靜電消除的效果和所述靜電阻抗器的工作情況；空氣潔凈度測(cè)試裝置，安裝在所述設(shè)備內(nèi)部，用于對(duì)所述設(shè)備內(nèi)部的潔凈度進(jìn)行周期性檢測(cè)、判定潔凈度級(jí)別、同時(shí)反饋檢測(cè)數(shù)據(jù)。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述風(fēng)機(jī)機(jī)組內(nèi)部還設(shè)置有特效顆粒過(guò)濾器，用于過(guò)濾風(fēng)口的顆粒。
3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述風(fēng)機(jī)機(jī)組將氣流速度控制在在O.01-0. 04m/s，所述風(fēng)機(jī)機(jī)組具有無(wú)級(jí)調(diào)速功能，根據(jù)所述氣體壓力傳感器的反饋實(shí)現(xiàn)自動(dòng)調(diào)節(jié)。
4.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述均風(fēng)裝置將所述風(fēng)機(jī)機(jī)組100%覆蓋。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述氣體壓力傳感器檢測(cè)到所述設(shè)備內(nèi)瞬間的壓力變化后，將所述設(shè)備內(nèi)壓力改變值反饋給計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)，所述計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)高或降低風(fēng)速，保證所述設(shè)備內(nèi)部始終保持在預(yù)定的壓力范圍內(nèi)。
6.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)所述設(shè)備內(nèi)部顆粒濃度超過(guò)預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)時(shí)， 所述空氣潔凈度測(cè)試裝置報(bào)警，提醒工程師進(jìn)行維護(hù)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種空氣調(diào)節(jié)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，應(yīng)用于半導(dǎo)體清洗設(shè)備，該系統(tǒng)包括主框架、風(fēng)機(jī)機(jī)組、風(fēng)機(jī)固定支架、均風(fēng)裝置、可調(diào)層流裝置、氣體壓力傳感器、靜電阻抗器、靜電監(jiān)視器以及空氣潔凈度測(cè)試裝置。本發(fā)明主要用于消除半導(dǎo)體清洗機(jī)內(nèi)部環(huán)境中的各項(xiàng)污染源，使半導(dǎo)體清洗機(jī)內(nèi)部始終處于恒定壓力值的穩(wěn)定層流環(huán)境，有效防止和去除空氣中的顆粒和浮塵，方便地了解設(shè)備內(nèi)部潔凈度，并且有效消除設(shè)備內(nèi)部產(chǎn)生的靜電，從而大大降低了硅片受到致命缺陷污染的可能性，最終使芯片成品率增加，降低電子元器件的生產(chǎn)制造成本。
文檔編號(hào)F24F11/02GK103008312SQ201210500868
公開(kāi)日2013年4月3日 申請(qǐng)日期2012年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月29日
發(fā)明者孫文婷, 趙宏宇, 裴立坤, 高 浩 申請(qǐng)人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司